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[实用新型]一种用于减少活塞环PVD涂层表面缺陷的屏蔽装置-CN201621075471.X有效
发明人：柏洋;吴其涛;陈海波 -专利权人： 星弧涂层新材料科技（苏州）股份有限公司
申请日： 2016-09-24 - 公布日： 2017-05-17 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型揭示了一种用于减少活塞环PVD涂层表面缺陷的屏蔽装置，包括底座及与设置在其下方的电机和分度回转装置，所述分度回转装置上装有一组传动装置；所述底座上有一通过螺孔连接的立柱并与所述底座垂直，所述立柱的顶部装有一通过连接螺孔连接的屏蔽罩，且所述屏蔽罩与所述底座平行，所述立柱四周装有与所述立柱距离相等且平行的一组夹具，所述夹具组合体所覆盖的面积小于或等于其正上方所述屏蔽罩的面积。本实用新型的有益效果主要体现在：一次性有效屏蔽设备内部掉落的膜层碎屑等杂质，减少涂层缺陷产生，解决了绝大部分的缺陷问题，使其不良率降低到1%不到，良率有了大幅提高，且效果持续稳定，确保高合格率的用于活塞环PVD涂层的屏蔽装置。
一种用于减少活塞环 pvd 涂层表面缺陷屏蔽装置

[发明专利]动态磁场阴极电弧源-CN201410426942.6有效
发明人：钱涛 -专利权人： 星弧涂层新材料科技（苏州）股份有限公司
申请日： 2014-08-27 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明揭示了一种动态磁场阴极电弧源，包括靶材、靶座和磁场，所述磁场的芯轴上按照同一方向螺旋绕制有线圈，所述线圈接入直流电源，所述直流电源的电流大小呈周期性变化，所述电流大小的周期性变化的频率为5Hz‑50Hz，所述直流电源的电流在0‑10A范围内连续可调，产生在所述靶材表面的磁场强度在5Gs‑350Gs之间连续周期性变化。本发明采用接通直流电源的线圈作为磁场，且直流电源的电流周期性变化，产生磁场的强度周期性变化，从而使得靶材表面的磁场强度周期性变化，弧斑在靶材表面时而发散运动在整个靶材表面，时而聚集在靶材表面磁场最强区域运动，靶材冷却充分，消除熔池的产生，抑制液滴，降低弧斑尺寸，涂层表面光滑，结构致密，并且靶材利用率增加。
动态磁场阴极电弧

[实用新型]燃油喷射系统用耐磨控制阀-CN201520800724.4有效
发明人：钱涛;焦飞 -专利权人： 星弧涂层新材料科技（苏州）股份有限公司
申请日： 2015-10-13 - 公布日： 2016-03-23 - 主分类号： F02M61/04 文献下载
摘要：本实用新型揭示了一种应用于燃油喷射系统用耐磨控制阀，所述控制阀包括阀体及阀球，所述阀体的截面呈T形，所述阀球与所述阀体接触，使得控制阀进行阀体内介质的流通与闭合，所述阀体上端开设有一锥形凹槽，所述阀球置于阀芯的锥形凹槽内，所述阀体的中心开设有一喷射口，所述喷射口与锥形凹槽共轴，所述锥形凹槽的截面呈三角状，所述锥形凹槽的凹槽面上涂覆有耐磨层。本实用新型突出效果为：提高了燃油喷射系统中控制阀的耐磨性及耐腐蚀性，使得控制阀的使用寿命大大的延长。
燃油喷射系统耐磨控制

[发明专利]燃油喷射系统用耐磨控制阀及其制备方法-CN201510668772.7在审
发明人：钱涛;焦飞 -专利权人： 星弧涂层新材料科技（苏州）股份有限公司
申请日： 2015-10-13 - 公布日： 2016-01-13 - 主分类号： F02M61/04 文献下载
摘要：本发明揭示了一种应用于燃油喷射系统用耐磨控制阀，所述控制阀包括阀体及阀球，所述阀体的截面呈T形，所述阀球与所述阀体接触，使得控制阀进行阀体内介质的流通与闭合，所述阀体上端开设有一锥形凹槽，所述阀球置于阀芯的锥形凹槽内，所述阀体的中心开设有一喷射口，所述喷射口与锥形凹槽共轴，所述锥形凹槽的截面呈三角状，所述锥形凹槽的凹槽面上涂覆有耐磨层。本发明突出效果为：提高了燃油喷射系统中控制阀的耐磨性及耐腐蚀性，使得控制阀的使用寿命大大的延长。
燃油喷射系统耐磨控制及其制备方法

[实用新型]一种扫描磁场磁控溅射阴极-CN201420376147.6有效
发明人：乐务时;钱涛 -专利权人： 星弧涂层新材料科技（苏州）股份有限公司
申请日： 2014-07-09 - 公布日： 2015-02-25 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种扫描磁场磁控溅射阴极。该扫描磁场磁控溅射阴极包括靶座、第一磁体和第二磁体，所述第一磁体设置在所述靶座四周的内侧壁上、靶座顶部平面的下方，所述第二磁体活动设置在所述靶座的内部中间、靶座顶部平面的下方；所述第二磁体围绕所述靶座的纵向中心对称轴做规则运动。本实用新型的扫描磁场磁控溅射阴极还包括由靶材和靶座的侧壁形成的冷却水道。本实用新型的扫描磁场磁控溅射阴极，采用运动变化的磁场，能够扩大刻蚀区域，使得靶材被均匀刻蚀，而非集中在一个区域，提高了靶材的利用率；能够减少工艺过程中靶的打弧频次，改善膜层质量；采用靶材直接水冷，能够提高冷却效果，减少停工冷却，使得膜层品质稳定。
一种扫描磁场磁控溅射阴极

[实用新型]可调节靶材-CN201420248450.8有效
发明人：焦飞;乐务时;钱涛 -专利权人： 星弧涂层新材料科技（苏州）股份有限公司
申请日： 2014-05-15 - 公布日： 2014-10-29 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种可调节靶材，包含靶座，所述靶座的突肩上设有磁场，所述靶座的上方设有靶材，所述靶座与消耗后的靶材之间设有调节垫圈。本实用新型的有益效果主要体现在：减少换靶频次，延长有效生产时间；靶材和工件之间距离保持稳定，有效解决由于靶材消耗导致靶材表面磁场的变化，可以达到靶材表面磁场始终在控制范围内；靶材的利用率得到大幅度提高；靶材的冷却始终充分；涂层的沉积效率和涂层性能保持稳定。
调节

[发明专利]一种扫描磁场磁控溅射阴极-CN201410323751.7在审
发明人：乐务时;钱涛 -专利权人： 星弧涂层新材料科技（苏州）股份有限公司
申请日： 2014-07-09 - 公布日： 2014-10-22 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供了一种扫描磁场磁控溅射阴极。该扫描磁场磁控溅射阴极包括靶座、第一磁体和第二磁体，所述第一磁体设置在所述靶座四周的内侧壁上、靶座顶部平面的下方，所述第二磁体活动设置在所述靶座的内部中间、靶座顶部平面的下方；所述第二磁体围绕所述靶座的纵向中心对称轴做规则运动。本发明的扫描磁场磁控溅射阴极还包括由靶材和靶座的侧壁形成的冷却水道。本发明的扫描磁场磁控溅射阴极，采用运动变化的磁场，能够扩大刻蚀区域，使得靶材被均匀刻蚀，而非集中在一个区域，提高了靶材的利用率；能够减少工艺过程中靶的打弧频次，改善膜层质量；采用靶材直接水冷，能够提高冷却效果，减少停工冷却，使得膜层品质稳定。
一种扫描磁场磁控溅射阴极

[实用新型]含金属掺杂的类金刚石厚膜-CN201320606186.6有效
发明人：钱涛;赵德民;乐务时 -专利权人： 星弧涂层新材料科技（苏州）股份有限公司
申请日： 2013-09-29 - 公布日： 2014-04-16 - 主分类号： C23C16/27 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种含金属掺杂的类金刚石厚膜，包含基材、结合层、掺杂层和功能层，所述掺杂层和功能层结合形成一复合层，所述基材的上表面设有结合层，所述结合层的上表面设有依次叠加的复合层且所述掺杂层和功能层间隔设置，所述结合层与复合层中的掺杂层结合，所述类金刚石厚膜的厚度大于4µm。本实用新型的有益效果主要体现在：在纯DLC膜层中掺杂数层纳米级含金属类金刚石（例如：含钨类金刚石DLC-W）结构，充分缓解DLC膜层本身的内应力，同时也有效地增加了膜层与基材之间的结合力，使膜层厚度可超过10µm，并具有100N以上的划痕结合力。
金属掺杂金刚石

[发明专利]含金属掺杂的类金刚石厚膜及其制备方法-CN201310453284.5无效
发明人：钱涛;赵德民;乐务时 -专利权人： 星弧涂层新材料科技（苏州）股份有限公司
申请日： 2013-09-29 - 公布日： 2014-01-15 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种含金属掺杂的类金刚石厚膜，包含基材、结合层、掺杂层和功能层，所述掺杂层和功能层结合形成一复合层，所述基材的上表面设有结合层，所述结合层的上表面设有依次叠加的复合层且所述掺杂层和功能层间隔设置，所述结合层与复合层中的掺杂层结合，所述类金刚石厚膜的厚度大于4µm。本发明的有益效果主要体现在：在纯DLC膜中掺杂数层纳米级含金属类金刚石（例如：含钨类金刚石DLC-W）结构，充分缓解DLC膜本身的内应力，同时也有效地增加了膜层与基材之间的结合力，使膜层厚度可超过10µm，并具有100N以上的划痕结合力。
金属掺杂金刚石及其制备方法

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