专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]半导体化学机械抛光液回收处理装置-CN202121873733.8有效
  • 安俊雪 - 昂士特科技(深圳)有限公司
  • 2021-08-11 - 2022-01-11 - B24B37/34
  • 本实用新型公开了一种半导体化学机械抛光液回收处理装置,其通过过滤器过滤钨抛光废液泡沫和微米级的大颗粒,于重力分离罐内调整废液pH值以生成铁/钨氢氧化物胶体颗粒,并通过重力分离罐将废液中铁/钨氢氧化物胶体颗粒及剩余固体颗粒浓缩于重力分离罐的底部;而后,再将浓缩有固体颗粒的浓缩液通入固液分离器,在固液分离器中对浓缩液进行润洗稀释,以去除铁/钨氢氧化物胶体颗粒,稀释浓缩液中的铁、钨离子浓度,并保留分散性好的二氧化硅纳米颗粒;最后将稀释后的废液通入再生槽进行二次稀释和pH调整以得到再生抛光液,实现对含钨抛光废液的回收处理。
  • 半导体化学机械抛光回收处理装置
  • [实用新型]一种可真空吸附抛光垫的抛光平台-CN202121726265.1有效
  • 王家雄 - 昂士特科技(深圳)有限公司
  • 2021-07-27 - 2022-01-11 - B24B37/20
  • 本实用新型公开了一种可真空吸附抛光垫的抛光平台,包括:抛光垫、抛光盘、中空旋转轴、圆筒状底座和真空泵,所述抛光盘内部设置有真空腔,所述抛光盘的上表面开设有若干真空吸附孔,所述抛光盘的底面中部设置在所述中空旋转轴上,所述中空旋转轴通过真空轴承与所述圆筒状底座连接,所述圆筒状底座的内腔通过所述中空旋转轴与所述真空腔连通,所述圆筒状底座的侧壁上开设有真空接口,所述真空泵与所述真空接口连接,所述抛光垫设置在所述抛光盘的上表面。本实用新型技术方案方便了设备的操作,使得不同的应用可以很容易地在同一台抛光机上进行,同时大大延长了抛光垫的使用寿命与应用范围,从而节省了许多费用,避免了抛光垫提前报废。
  • 一种真空吸附抛光平台
  • [实用新型]一种抛光过程中脉冲换液的化学机械抛光平台-CN202121872935.0有效
  • 陈浩;王家雄 - 昂士特科技(深圳)有限公司
  • 2021-08-11 - 2021-12-31 - B24B37/34
  • 本实用新型公开了一种抛光过程中脉冲换液的化学机械抛光平台,通过在抛光盘的外围设置与其滑动配合的可升降环形挡板,并在抛光垫上设置一向抛光件倾斜的导液条,由此,在滴液前可驱动环形挡板上升以避免研磨液被甩出抛光垫外,减少研磨液损耗,并通过导液条将抛光垫外环及边缘的新鲜研磨液导向抛光件,提高研磨液的利用率;同时采用脉冲式滴液管供应研磨液,在抛光结束时可驱动环形挡板下降以排除使用过的研磨液,再由脉冲式滴液管在环形挡板二次上升的同时补充新的研磨液,以此避免在工业抛光中研磨液中杂质越累越多的问题,降低杂质对抛光的影响。
  • 一种抛光过程脉冲化学机械抛光平台
  • [实用新型]一种抛光时同步清洁抛光垫的带式抛光装置-CN202121873730.4有效
  • 陈浩;王家雄 - 昂士特科技(深圳)有限公司
  • 2021-08-11 - 2021-12-31 - B24B37/00
  • 本实用新型公开了一种抛光时同步清洁抛光垫的带式抛光装置,带式抛光垫循环往复地依次通过抛光区和清洁区,并于与抛光区相对的位置设有向带式抛光垫喷射抛光液的进液管和支撑抛光对象的支撑单元,于与清洁区相对的位置设有清理带式抛光垫上残留物的刷子工具、向带式抛光垫喷射超纯水的第一喷淋管、以及对带式抛光垫进行修整的整形工具。抛光时,可以在抛光区内对支撑单元上的抛光对象进行抛光,同时在清洁区内通过刷子工具、第一喷淋管以及整形工具对带式抛光垫进行刷洗、修整。
  • 一种抛光同步清洁装置
  • [实用新型]一种再生晶圆的粗抛光设备-CN202121737676.0有效
  • 徐炎华 - 昂士特科技(深圳)有限公司
  • 2021-07-28 - 2021-12-31 - B24B37/10
  • 本实用新型公开了一种再生晶圆的粗抛光设备,包括:抛光机、储液容器、硅溶胶容器、螯合剂容器和PH容器,所述硅溶胶容器通过第一计量泵与所述储液容器连接,所述螯合剂容器通过第二计量泵与所述储液容器连接,所述PH容器通过第三计量泵与所述储液容器连接,所述储液容器内设置有在线PH计和在线电导率计;所述在线PH计与所述第三计量泵控制连接,所述在线电导率计与所述第二计量泵控制连接;所述抛光机的进液端通过第四计量泵与所述储液容器连接,所述抛光机的储液端与所述储液容器连通。本实用新型技术方案旨在控制循环的抛光液中的金属离子浓度和抛光液的pH值,减少硅片表面的金属离子污染,提升硅片的抛光质量和产率。
  • 一种再生抛光设备
  • [实用新型]一种化学机械抛光垫-CN202020635635.X有效
  • 朱文献 - 昂士特科技(深圳)有限公司
  • 2020-04-23 - 2020-11-24 - B24B37/26
  • 本实用新型公开了一种化学机械抛光垫,包括抛光垫基板,抛光垫基板为圆形,抛光垫基板设置有以其中心为圆点的若干同心环形凸起,若干同心环形凸起间隔设置,若干同心环形凸起沿抛光垫基板的径向方向上的宽度一致,若干同心环形凸起沿抛光垫基板的直径方向分隔成均等分的若干凸台,且若干凸台以抛光垫基板的中心为对称点对称设置,同一同心环形凸起上的相邻两凸台之间形成沟槽;每一凸台的顶部呈圆弧通槽或圆弧凸面设置。本实用新型技术方案旨在利用凸台顶部的圆弧通槽或圆弧凸面以增加抛光垫有效面积,提高材料去除效率;同心环形凸起之间的间隔和相邻两凸台之间的沟槽利于抛光液均匀分配和流动。
  • 一种化学机械抛光
  • [实用新型]一种钻石环上的加压装置-CN202020554270.8有效
  • 朱文献 - 昂士特科技(深圳)有限公司
  • 2020-04-14 - 2020-11-24 - B24B53/017
  • 本实用新型公开了一种钻石环上的加压装置,转盘上设置有抛光垫,钻石环设置在抛光垫上,钻石环内依次堆叠有若干砝码,加压装置包括悬挂支架、螺杆和四滑槽,悬挂支架为两个倒U型支架交叉设置而成,两倒U型支架的交叉连接处开设有用于螺杆穿设的通孔,四滑槽对称且可拆卸地设置在钻石环上,两倒U型支架的端部均可上下滑动地设置在四滑槽上,每一滑槽内还设置有用于限位悬挂支架的限位件,若干砝码对应通孔的位置均开设有螺纹孔,螺纹孔与螺杆适配,螺杆还设置有螺帽,螺帽与悬挂支架的上表面抵接。本实用新型技术方案简单实用,可节省使用者成本去改用钻石蝶并安装加压调压装置。
  • 一种钻石加压装置

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