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- [实用新型]一种可真空吸附抛光垫的抛光平台-CN202121726265.1有效
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王家雄
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昂士特科技(深圳)有限公司
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2021-07-27
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2022-01-11
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B24B37/20
- 本实用新型公开了一种可真空吸附抛光垫的抛光平台,包括:抛光垫、抛光盘、中空旋转轴、圆筒状底座和真空泵,所述抛光盘内部设置有真空腔,所述抛光盘的上表面开设有若干真空吸附孔,所述抛光盘的底面中部设置在所述中空旋转轴上,所述中空旋转轴通过真空轴承与所述圆筒状底座连接,所述圆筒状底座的内腔通过所述中空旋转轴与所述真空腔连通,所述圆筒状底座的侧壁上开设有真空接口,所述真空泵与所述真空接口连接,所述抛光垫设置在所述抛光盘的上表面。本实用新型技术方案方便了设备的操作,使得不同的应用可以很容易地在同一台抛光机上进行,同时大大延长了抛光垫的使用寿命与应用范围,从而节省了许多费用,避免了抛光垫提前报废。
- 一种真空吸附抛光平台
- [实用新型]一种再生晶圆的粗抛光设备-CN202121737676.0有效
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徐炎华
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昂士特科技(深圳)有限公司
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2021-07-28
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2021-12-31
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B24B37/10
- 本实用新型公开了一种再生晶圆的粗抛光设备,包括:抛光机、储液容器、硅溶胶容器、螯合剂容器和PH容器,所述硅溶胶容器通过第一计量泵与所述储液容器连接,所述螯合剂容器通过第二计量泵与所述储液容器连接,所述PH容器通过第三计量泵与所述储液容器连接,所述储液容器内设置有在线PH计和在线电导率计;所述在线PH计与所述第三计量泵控制连接,所述在线电导率计与所述第二计量泵控制连接;所述抛光机的进液端通过第四计量泵与所述储液容器连接,所述抛光机的储液端与所述储液容器连通。本实用新型技术方案旨在控制循环的抛光液中的金属离子浓度和抛光液的pH值,减少硅片表面的金属离子污染,提升硅片的抛光质量和产率。
- 一种再生抛光设备
- [实用新型]一种化学机械抛光垫-CN202020635635.X有效
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朱文献
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昂士特科技(深圳)有限公司
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2020-04-23
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2020-11-24
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B24B37/26
- 本实用新型公开了一种化学机械抛光垫,包括抛光垫基板,抛光垫基板为圆形,抛光垫基板设置有以其中心为圆点的若干同心环形凸起,若干同心环形凸起间隔设置,若干同心环形凸起沿抛光垫基板的径向方向上的宽度一致,若干同心环形凸起沿抛光垫基板的直径方向分隔成均等分的若干凸台,且若干凸台以抛光垫基板的中心为对称点对称设置,同一同心环形凸起上的相邻两凸台之间形成沟槽;每一凸台的顶部呈圆弧通槽或圆弧凸面设置。本实用新型技术方案旨在利用凸台顶部的圆弧通槽或圆弧凸面以增加抛光垫有效面积,提高材料去除效率;同心环形凸起之间的间隔和相邻两凸台之间的沟槽利于抛光液均匀分配和流动。
- 一种化学机械抛光
- [实用新型]一种钻石环上的加压装置-CN202020554270.8有效
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朱文献
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昂士特科技(深圳)有限公司
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2020-04-14
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2020-11-24
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B24B53/017
- 本实用新型公开了一种钻石环上的加压装置,转盘上设置有抛光垫,钻石环设置在抛光垫上,钻石环内依次堆叠有若干砝码,加压装置包括悬挂支架、螺杆和四滑槽,悬挂支架为两个倒U型支架交叉设置而成,两倒U型支架的交叉连接处开设有用于螺杆穿设的通孔,四滑槽对称且可拆卸地设置在钻石环上,两倒U型支架的端部均可上下滑动地设置在四滑槽上,每一滑槽内还设置有用于限位悬挂支架的限位件,若干砝码对应通孔的位置均开设有螺纹孔,螺纹孔与螺杆适配,螺杆还设置有螺帽,螺帽与悬挂支架的上表面抵接。本实用新型技术方案简单实用,可节省使用者成本去改用钻石蝶并安装加压调压装置。
- 一种钻石加压装置
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