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[发明专利]用于光刻应用的光刻胶层上的碳的选择性沉积-CN202180040091.X在审
发明人： 拉里·高;南希·冯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-06-09 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： H01L21/033 文献下载
摘要：本文公开的实施方式包括一种用于蚀刻硬掩模层的方法，此方法包括在包含含金属材料的硬掩模层上形成包含有机金属材料的光刻胶层，经由具有选定图案的掩模将此光刻胶层暴露于紫外线辐射，去除此光刻胶层的未照射区域以图案化此光刻胶层，在此图案化光刻胶层的顶表面上选择性地形成包含含碳材料的钝化层，此形成此钝化层包括在图案化光刻胶层的顶表面上选择性地沉积钝化材料，修整此钝化材料的不期望部分，以及蚀刻由具有在上面形成的此钝化层的此图案化光刻胶层暴露的此硬掩模层。
用于光刻应用胶层上选择性沉积

[发明专利]用于光刻应用的光刻胶层上碳的选择性沉积-CN202180032526.6在审
发明人： 拉里·高;南希·冯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-03-17 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01L21/033 文献下载
摘要：一种蚀刻硬掩模层的方法，包括在包含含金属材料的硬掩模层上形成包含有机金属材料的光刻胶层，通过具有选定图案的掩模将光刻胶层暴露于紫外线辐射，去除光刻胶层的未照射区域以图案化光刻胶层，在经图案化的光刻胶层的顶表面上选择性地形成包含含碳材料的钝化层，及蚀刻由上面形成有钝化层的经图案化的光刻胶层暴露的硬掩模层。
用于光刻应用胶层上碳选择性沉积