专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]铟源试剂组合物-CN99814935.7无效
  • 许从应;托马斯·鲍姆 - 高级技术材料公司
  • 1999-12-20 - 2004-03-10 - C23C16/00
  • 本发明涉及一种铟前体组合物,用于将铟掺入微电子装置结构中,例如,通过鼓泡技术或液体输送MOCVD(金属有机气相淀积)技术,作为装置基片上的含铟薄膜,或者通过离子注入技术,作为掺杂剂掺入到装置基片中。这种前体组合物包括式R1R2InL前体,其中R1和R2可以相同或不同,并独立选自C6-C10芳基、C6-C10氟代芳基、C6-C10全氟芳基、C1-C6烷基、C1-C6氟代烷基或C1-C6全氟烷基;而L为β-二酮基或羧酸根。采用本发明的前体,可以在基片上形成含铟金属膜,如铟-铜金属化;可以在集成电路中形成浅结铟离子注入结构。
  • 试剂组合

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