“成都路维光电科技有限公司”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果6个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种光罩铬残留的处理方法及其应用-CN202310588941.0在审
发明人：吕振群 -专利权人： 成都路维光电科技有限公司
申请日： 2023-05-24 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本发明公开了一种光罩铬残留的处理方法及其应用，涉及电子制造技术领域，首先在存在铬残留的光罩面上涂覆一层光刻胶后进行烘烤；然后将处理之后的光罩进行二次曝光处理，二次曝光处理使用的图档与第一次在玻璃基板上刻蚀铬图形时使用的图档相同，使两次曝光的图形重合；最后对二次曝光之后的光罩依次进行显影、蚀刻、去胶、清洗。该处理方法明显缩短了处理时间，提高了处理效率，而且去除铬残干净无痕迹，特别适用于去除大尺寸铬残和图形覆盖的情形，避免激光修打造成品质原因的报废，为企业节约了成本。
一种光罩铬残留处理方法及其应用

[实用新型]一种单版清洗夹具-CN202223274512.6有效
发明人：张志龙;杨文捷 -专利权人： 成都路维光电科技有限公司
申请日： 2022-12-07 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： B08B11/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种单版清洗夹具，涉及掩膜版加工夹具领域，包括支撑基座和固定柱，支撑基座包括第一支撑杆、第二支撑杆、第三支撑杆和第四支撑杆，第一支撑杆、第二支撑杆、第三支撑杆和第四支撑杆首尾连接形成口字形凹槽且凹槽内边缘倾斜设置用于承载MASK产品，避免长时间使用铺垫海绵而受到外界因素污染，而且口字形凹槽的四个顶角设置有固定柱能固定MASK产品，避免意外滑落致产品划伤或者撞角崩边。
一种清洗夹具

[实用新型]一种脱模槽夹具-CN202223393455.3有效
发明人：张志龙;杨文捷 -专利权人： 成都路维光电科技有限公司
申请日： 2022-12-14 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： B08B13/00 文献下载
摘要：本实用新型实施例提供一种脱模槽夹具，包括：夹具本体，用于设置在脱模槽上；所述夹具本体包括若干个用于放置不同规格的掩膜的掩膜放置框；每个掩膜放置框的中空部分贯穿每个放置框的相对两侧；每个掩膜放置框的内侧壁设有若干个用于支撑固定掩膜的支撑块；每个掩膜放置框的一侧的相对边均设有槽，本实用新型实施例解决了现有的清洗掩膜产品的方式容易集聚脏污并对掩膜产品造成划伤的技术问题，本实用新型实施例提高了掩膜产品的清洗效率，有效的减少了MASK产品划伤导致的不良和原材损耗的成本，取替了脱模槽底部铺垫的无尘布，减少了大量无尘布辅材消耗增大成本的问题。
一种脱模夹具

[实用新型]一种适用于不同光刻机的光罩-CN202123377703.0有效
发明人：刘玉闯;林伟 -专利权人： 成都路维光电科技有限公司
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种适用于不同光刻机的光罩，包括光罩本体，所述光罩本体上设置有被不同光刻机识别的对位标记。本实用新型的目的在于提供一种适用于不同光刻机的光罩，该光罩可用于被不同的光刻机识别，从而在进行光刻时，可根据被光刻图像的精度或复杂度选择合适的光刻机进行组合光刻，从而降低光刻成本提高光刻效率。
一种适用于不同光刻

[实用新型]铬版清洗工具-CN202121959618.2有效
发明人：吕振群;林伟 -专利权人： 成都路维光电科技有限公司
申请日： 2021-08-19 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了铬版清洗工具，包括底座，所述底座的上端面设置有支撑柱，所述底座的上端面在远离支撑柱的一侧设置有用于放置铬版的卡槽。通过本实用新型所述清洗工具，改进光罩的清洗方式，使原有液体浸泡擦洗法清洗效果不佳，或无法清洗TFT等高端产品的状况得到彻底改变，并且能很好的提升光罩的清洗效率；不仅脏点清除明显，1um以上的脏污均可清洗干净，符合TFT贴膜清洗要求，且不需另外购置昂贵的超声波设备，本工具制作成本仅数百元，为企业节约了大量成本。
清洗工具

[实用新型]一种用于掩膜版手动制程的装置-CN202121762985.3有效
发明人：吕振群;林伟 -专利权人： 成都路维光电科技有限公司
申请日： 2021-07-30 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： G03F1/80 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于掩膜版手动制程的装置，解决了目前手动制程中手与掩膜版直接接触易造成污染且容易滑脱、单次只能对一个产品进行蚀刻、计时不便的问题。本实用新型包括：计时器，用于蚀刻计时；框架，框架具有若干安置槽体，安置槽体内相对的槽壁上分别开设有与掩膜版边沿适配的卡槽；与框架连接的助握臂，助握臂上设置有通信连接于计时器的传感器；工作状态下，助握臂被手部握持，当手部改变传感器监测状态时，传感器与计时器进行通讯以使计时器开始计时或结束计时。本实用新型具有单次蚀刻流程中同时对多个或多类掩膜版进行蚀刻、避免人手与掩膜版直接接触、便于计时等优点。
一种用于掩膜版手动装置

1
共 6 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top