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[发明专利]一种碱性蚀刻液及其制备方法-CN202310740245.7在审
发明人：邹绍楷;吕家华;陈宗孟;洪永春 -专利权人： 惠州昊化电子材料有限公司
申请日： 2023-06-21 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： C23F1/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种碱性蚀刻液及其制备方法，属于蚀刻液技术领域，包括纯净水、氯化铜、盐酸、乙醇铵、氢氧化钠、碳酸钠和2‑巯基‑1‑甲基咪唑，本发明的配方体系中氨的消耗量大大减少，在工业化生产中对环境十分友好，且本发明的的配方体系中氯化铜溶解于乙醇铵中获得铜‑乙醇胺络合物大大减少碱式氯化铜等沉积物的产生，进而减少侧蚀的发生，进一步的本发明的配方体系中的2‑巯基‑1‑甲基咪唑能形成咪唑巯基自由基，该咪唑巯基自由基既具有氧化电路板的作用，又具有跟铜离子络合溶解的作用，双效作用，提高了蚀刻电路板的能力。
一种碱性蚀刻及其制备方法

[发明专利]一种酸性蚀刻液及其制备方法-CN202310740253.1在审
发明人：邹绍楷;吕家华;陈宗孟;洪永春 -专利权人： 惠州昊化电子材料有限公司
申请日： 2023-06-21 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种酸性蚀刻液及其制备方法，属于蚀刻液技术领域，包括纯净水、氯化铜、盐酸、铵盐和缓蚀剂，其中本发明的缓蚀剂包括2‑巯基苯并噻唑、苯丙三氮唑和保湿剂，在本发明的酸性蚀刻液中添加缓蚀剂可稳定蚀刻速度恒定，提高蚀刻系数比及均匀性，同时配合促进剂可以提升蚀刻速度；有效降低HCl的使用量，废液易回收，同时改善了蚀刻侧蚀的系数比，蚀刻的均匀性比目前常规的氯化铜体系酸性蚀刻液高。经试验，将本发明制备的酸性蚀刻液对厚度约为33μm铜线路进行刻蚀，铜线路的蚀刻因子提高到6.59，可有效应用于PCB厚铜线路制作。
一种酸性蚀刻及其制备方法