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[发明专利]光电转换元件及其制造方法-CN202110985714.2在审
发明人： 志茂俊辅;都鸟显司 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2021-08-26 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： H01L51/42 文献下载
摘要：本发明涉及光电转换元件及其制造方法。提供能改善特性的光电转换元件及其制造方法。根据实施方式，光电转换元件包含第1导电层、第2导电层和设于上述第1导电层及上述第2导电层之间且含有Sn及Pb的光电转换层。上述光电转换层包含第1部分区域、上述第1部分区域与上述第2导电层之间的第2部分区域、和上述第2部分区域与上述第2导电层之间的第3部分区域。上述第1部分区域具有第1Sn浓度和第1Pb浓度。上述第2部分区域具有低于上述第1Sn浓度的第2Sn浓度和高于上述第1Pb浓度的第2Pb浓度的至少任一者。上述第3部分区域包含Sn、氧和Pb。
光电转换元件及其制造方法

[发明专利]光电转换元件、涂布液、涂布方法和涂布装置-CN202110985788.6在审
发明人： 志茂俊辅;森茂彦;都鸟显司;水口浩司 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2021-08-26 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： H01L51/42 文献下载
摘要：本发明涉及光电转换元件、涂布液、涂布方法和涂布装置。提供能改善特性的光电转换元件、涂布液、涂布方法和涂布装置。根据实施方式，光电转换元件包含第1导电层、第2导电层和设于上述第1导电层及上述第2导电层之间的光电转换层。上述光电转换层包含钙钛矿型化合物和第1化合物，上述第1化合物包含选自吡咯烷酮衍生物、尿素衍生物、咪唑衍生物、吡啶衍生物和二胺衍生物中的至少一种。
光电转换元件涂布液方法装置