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- [发明专利]信号输出电路-CN202010107753.8有效
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徐安娜
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欧姆龙(上海)有限公司
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2020-02-21
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2023-06-09
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H03K19/0175
- 本申请实施例提供一种信号输出电路,包括:恒流源电路,其具有控制端,与电源连接的电压输入端,以及输出驱动电流的电流输出端;第一开关元件,其连接在所述控制端和接地端之间;第一控制电路,其与所述第一开关元件的第一控制端连接,所述第一控制电路根据接收的输出控制信号控制所述第一开关元件的导通或关断;以及输出端电路,其包括在所述电源和所述接地端之间串联连接的第一输出开关和第二输出开关,所述第一输出开关的控制电极接收所述恒流源电路的所述电流输出端输出的驱动电流,其中,在所述第一开关元件导通的情况下,所述电流输出端输出电流值恒定的驱动电流。
- 信号输出电路
- [发明专利]用于处理基板的设备和方法-CN202210784676.9在审
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崔镇雨;李章熙;朴永鹤;吴承俊;徐安娜
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细美事有限公司
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2022-06-29
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2022-12-30
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H01J37/32
- 本发明构思提供了一种基板处理设备。所述种基板处理设备包括:工艺腔室,所述工艺腔室设置有反应空间并且具有暴露于所述反应空间的至少一个绝缘构件;基板支撑构件,所述基板支撑构件用于将基板支撑在所述反应空间处;气体供应构件,所述气体供应构件用于选择性地将钝化气体或工艺气体供应到所述反应空间;等离子体源,所述等离子体源用于将所述钝化气体或所述工艺气体激发为等离子体;以及控制器,所述控制器用于控制所述气体供应构件和所述等离子体源,并且其中所述控制器控制所述气体供应构件和所述等离子体源,使得在所述基板未被放入所述反应空间中的状态下,所述钝化气体被供应到所述反应空间并且供应的钝化气体被激发为所述等离子体。
- 用于处理设备方法
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