专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]溅镀设备-CN202222314445.X有效
  • 陈昭丞;张皇贤 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2022-08-31 - 2023-04-18 - C23C14/35
  • 本申请提出了一种溅镀设备,通过在腔体外侧设置至少两个磁铁组,且靠近靶材的第一磁铁组的磁通量小于靠近产品的第二磁铁组的磁通量,使得腔体内磁性材料原子先穿过较弱的磁场让磁矩初步排列,再于远离靶材的位置穿过较强的磁场让磁矩进行进一步排列,以此可以提高磁矩排列的一致性。并且,磁力较强的磁铁组远离靶材,有助于提高靶材耗损均匀性,提高靶材利用率和使用寿命,以及,提高溅镀形成的磁性薄膜的厚度的均匀性。
  • 设备
  • [实用新型]半导体封装结构-CN202223316197.9有效
  • 陈昭丞;张皇贤 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2022-12-09 - 2023-04-18 - H01L23/498
  • 本实用新型提出了一种半导体封装结构,该半导体封装结构的一个实施方式包括至少一个线路结构,而线路结构包括:第一介电层;导电层,凸出于所述第一介电层,所述导电层包括设置在所述第一介电层外侧的外凸部;阻挡层,连续延伸且直接接触所述外凸部的顶面和侧面,且与所述导电层间形成有界面。即,通过在线路结构中设计导电层凸出于第一介电层,且导电层包括设置在第一介电层外侧的外凸部,另外线路结构还包括阻挡层,阻挡层连续延伸且直接接触外凸部的顶面和侧面,且与导电层间形成有界面,如此,阻挡层可阻止导电层的铜原子通过外凸部的顶面和侧面电迁移到外部,避免影响导电层的导电性能。
  • 半导体封装结构
  • [实用新型]半导体封装结构-CN202222689747.5有效
  • 吴柏儒;张皇贤;张育勋;涂顺财;杨佳玮;王廷维 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2022-10-12 - 2023-04-07 - H01L23/488
  • 本申请提供的半导体封装结构,包括间隔设置的第一芯片和第二芯片,及混合键合第一芯片和第二芯片的线路结构。线路结构包括连接第一芯片的第一线路层、连接第一线路层的第二线路层,及连接第二线路层和第二芯片的第三线路层,第二线路层具有电连接第一线路层的第一衬垫、围绕第一衬垫且朝向第一线路层及第三线路层的两侧皆呈开放状的第一种子层,以及包覆第一种子层的第一介电层。通过线路结构混合键合第一芯片和第二芯片,使第一介电层不容易在后续的模封等热制程中受模封材料的拉扯而破裂,即能利用混合键合结构进行扇出。
  • 半导体封装结构
  • [实用新型]接合结构-CN202221228654.6有效
  • 陈昭丞;张皇贤;周泽川 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2022-05-19 - 2022-09-27 - H01L21/60
  • 本申请涉及接合结构。该接合结构包括第一接合单元,该第一接合单元包括:第一金属垫;第一绝缘层,覆盖所述第一金属垫的顶面外侧,并界定出位于所述第一金属垫顶侧的第一开孔;以及第一金属层,覆盖所述第一金属垫的顶面并位于所述第一开孔中,并且与所述第一金属垫之间形成有非化合物界面。该接合结构有利于提高金属层边缘的清晰度,进而提高金属层对接时的对位精度。
  • 接合结构
  • [发明专利]半导体封装件-CN202111367217.2在审
  • 张皇贤 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2021-11-18 - 2022-04-12 - H01L23/29
  • 本公开的实施例涉及一种半导体封装件。该半导体封装件包括导电结构、第一电子元件和第二电子元件,其中,第一电子元件和第二电子元件并排地设置在导电结构上,第一电子元件包括第一管芯以及位于第一管芯上的第一材料和第二材料,在第一电子元件的面向第二电子元件的一侧,第一材料和第二材料之间的界面不接触第一管芯。本发明的目的在于提供一种半导体封装件,以至少提高半导体封装件的良率。
  • 半导体封装
  • [发明专利]衬底中的凹入部分及形成凹入部分的方法-CN202110478658.3在审
  • 庄劭萱;张皇贤 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2021-04-30 - 2022-02-18 - H01L21/3065
  • 提供一种半导体衬底中的凹入部分及形成所述凹入部分的方法。所述方法包括:在所述半导体衬底上形成掩模;在所述掩模的顶表面上及在所述掩模的至少一个侧壁上,及在由所述掩模暴露的所述半导体衬底的至少一个表面上形成保护层;执行第一蚀刻工艺以去除在所述掩模的所述顶表面上及在由所述掩模暴露的所述半导体衬底的底表面上的所述保护层;及执行第二蚀刻工艺以去除其余保护层及蚀刻所述半导体衬底以形成所述凹入部分。以此方式,可实现具有相对平滑及竖直的侧壁的凹入部分。
  • 衬底中的部分形成方法

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