专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]金属W/非晶NiTiNbFe纳米多层膜及制备方法-CN202110938876.0有效
  • 王涛涛;张干;饶响响;张展瑄 - 陕西理工大学
  • 2021-08-16 - 2023-04-14 - C23C14/16
  • 本发明公开了金属W/非晶NiTiNbFe纳米多层膜,包括金属W层和非晶NiTiNbFe合金层,纳米多层膜的总厚度为1000‑3000纳米,金属W层和非晶NiTiNbFe合金层的单层厚度均为2‑50纳米;非晶NiTiNbFe合金层的化学式为Ni50‑bTi50‑aNbaFeb,2≤a≤5,5≤b≤8。本发明还公开了该纳米多层膜的制备方法。通过调控磁控溅射工艺制备高硬度金属W/非晶NiTiNbFe纳米多层膜,该晶体/非晶纳米多层膜的最大硬度为13GPa,呈现优异的力学性能,显著优于以往金属纳米多层膜。同时,该制备工艺简单且重复性好,操作简单,可应用于微机电系统中的高硬度薄膜和连接膜。
  • 金属nitinbfe纳米多层制备方法

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