专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]大直径工程井壁后充填固井快速搅浆施工方法-CN201110181175.3有效
  • 张军旗;商卫东;张鹏;王德亮;胡利宾;马飞;刘福杰 - 河北建设勘察研究院有限公司
  • 2011-06-30 - 2011-12-21 - E21D5/04
  • 本发明公开了一种大直径工程井壁后充填固井快速搅浆施工方法,包括如下步骤:制作并安装搅浆罐,将水泥车与搅浆罐连接,向搅浆罐中加水至计算高度并开启搅拌电机,打开搅浆罐入水泥口蝶阀,发动水泥车并向搅浆罐内输送水泥,待浆面达到计算高度,停车并关闭蝶阀,继续搅拌水泥浆,打开出浆阀,放出水泥浆至储浆坑中,再用注浆泵进行壁后充填。本发明利用水泥车动力将水泥输送至搅浆罐,通过控制水泥加入量,使水泥从搅浆罐底部进入搅浆罐,直接与水混合,在加入水泥过程中完成水泥浆搅拌,搅浆过程中不会出现水泥粉尘泄露,有利于文明施工。本方法搅浆操作简单,设备投入少,搅浆速度快,提高了效率,节约了工程成本。
  • 直径工程井壁充填快速施工方法
  • [发明专利]一种含Ti3SiC2组元的复合泡沫材料及其制备方法-CN201110251661.8有效
  • 张劲松;高勇;杨振明;徐兴祥;张军旗;曹小明 - 中国科学院金属研究所
  • 2011-08-29 - 2011-12-21 - C04B38/06
  • 本发明涉及泡沫材料领域,具体地说是一种含Ti3SiC2组元的复合泡沫材料及其制备方法,解决现有传统泡沫陶瓷材料导电性差、力学性能差等问题。所述含Ti3SiC2组元的复合泡沫材料具有三维连通网络结构,相组成主要由Ti3SiC2及其它Ti、Si、C的二元或三元化合物构成。所述制备方法为:将剪裁后的泡沫塑料浸入由原料粉、树脂、无水乙醇混合制成的浆料中,取出后除去多余浆料,经半固化-高温固化-热解,得到与原始泡沫形状一致,由原料粉与热解碳组成的泡沫状骨架。上述泡沫骨架经高频感应加热反应烧结,最终制得含Ti3SiC2组元的复合泡沫材料。本发明工艺简单,无需复杂设备。所制备的复合泡沫材料致密度和抗压强度较高,具有良好的导电性。
  • 一种tisubsic复合泡沫材料及其制备方法
  • [实用新型]高速公路车况安全监护处理装置-CN200420042244.8无效
  • 李卫星;李若愚;郭东;张文玺;闫广民;张军旗 - 西安思源职业学院
  • 2004-07-27 - 2006-01-18 - G08G1/00
  • 本实用新型公开了一种高速公路车况安全监护处理装置,由车载设备、信息采集及传输系统和监控中心组成,其中车载设备是由接收器、发射器、传感器、处理模块(单片机)手动报警装置及报警器等组成;信息采集及传输系统部分由安装在路边的接收器、发射器和负责数据传输的组监控器和通信系统组成;监控中心由监控计算机和监控软件组成。本实用新型的高速公路车况安全监护处理装置,由于采用了以计算机为主的数字监控和信息采集系统,可以实时监控进入高速公路的车辆,可以大幅度减少事故发生率,而且还加快事故的反应处理速度,减少事故损失和人员伤亡。
  • 高速公路车况安全监护处理装置
  • [发明专利]一种化学机械抛光液-CN200310105203.9无效
  • 张劲松;梁艳;张军旗 - 中国科学院金属研究所
  • 2003-11-26 - 2005-06-01 - C09G1/02
  • 本发明属于微电子加工领域中的化学机械抛光技术,具体公开一种超大规模集成电路制作工艺中多层绝缘膜全局平面化加工用的化学机械抛光液。它以球形纳米介孔粉体为磨料,按重量百分比计,其成分包括3~30球形纳米介孔粉体为磨料,0.01~12份分散稳定剂,0.01~12份表面处理剂,同时加入pH调节剂至pH值为8.5~12.5,余量的高纯去离子水。本发明利用该磨料富含的表面羟基及其在水溶液中优异的单分散性,用于IC加工过程中对层间介质的全局平面化抛光,避免了对抛光表面的亚微米划伤,平整度高、易清洗,抛光速率高。可用于超大规模集成电路制作工艺中的CMP精抛过程以及其他光学材料的精密抛光。
  • 一种化学机械抛光
  • [发明专利]一种单分散纳米介孔分子筛的制备方法-CN200310105134.1无效
  • 张劲松;梁艳;张军旗 - 中国科学院金属研究所
  • 2003-11-19 - 2005-05-25 - C01B39/00
  • 本发明属于无机纳米材料技术领域,具体涉及一种单分散纳米介孔硅基MCM-41分子筛的制备方法。它是在温和碱性条件下,以阳离子表面活性剂为模板剂,以非离子表面活性剂为分散剂,采用化学液相沉淀法制备单分散纳米介孔硅基MCM-41分子筛。这种方法制备的介孔硅基MCM-41分子筛粒径在40-100nm,可调、单分散、均匀球形、六方介孔孔道有序性好、比表面积高和孔体积大,因而在催化、大分子分离、传感器、光学材料、生物芯片、有机-无机纳米复合材料以及化学机械抛光磨料等方面具有广阔的应用前景。
  • 一种分散纳米分子筛制备方法
  • [发明专利]一种高气压微波等离子体激励装置-CN00110422.5无效
  • 杨永进;张劲松;张军旗;曹小明 - 中国科学院金属研究所
  • 2000-05-17 - 2001-11-28 - H05H1/46
  • 一种高气压微波等离子体激励装置,其特征在于该微波等离子体激励装置由波导—同轴转换机构、透波气体密封窗、带截止段的同轴开路谐振腔和辐射开路同轴腔组成;波导—同轴转换机构同轴线的外导体通过透波气体密封窗与同轴开路谐振腔的外导体相连,波导—同轴转换机构同轴线的内导体通过透波气体密封窗经电容将微波能量耦合给同轴开路谐振腔,辐射开路同轴腔同轴装设于同轴开路谐振腔的内部。本发明可以在高的气压情况下实现等离子体激励和维持,并且微波能基本不泄漏转换效率高,同时装置本身具有较长的使用寿命。
  • 一种气压微波等离子体激励装置
  • [实用新型]一种高气压微波等离子体激励装置-CN00211865.3无效
  • 杨永进;张劲松;张军旗;曹小明 - 中国科学院金属研究所
  • 2000-05-17 - 2001-03-28 - H05H1/30
  • 一种高气压微波等离子体激励装置,其特征在于该微波等离子体激励装置由波导一同轴转换机构、透波气体密封窗、带截止段的同轴开路谐振腔和辐射开路同轴腔组成;波导一同轴转换机构同轴线的外导体通过透波气体密封窗与同轴开路谐振腔的外导体相连,波导一同轴转换机构同轴线的内导体通过透波气体密封窗经电容将微波能量耦合给同轴开路谐振腔,辐射开路同轴腔同轴装设于同轴开路谐振腔的内部。本实用新型可以在高的气压情况下实现等离子体激励和维持,并且微波能基本不泄漏转换效率高,同时装置本身具有较长的使用寿命。
  • 一种气压微波等离子体激励装置

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