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[发明专利]一种手术显微镜和显微镜-CN202211388296.X有效
发明人：施海雷;卢丽荣;康思睿;汪霄 -专利权人：图湃（北京）医疗科技有限公司
申请日： 2022-11-08 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： G02B21/06 文献下载
摘要：本公开揭露了一种手术显微镜和显微镜，该手术显微镜包括：第一光源组件、光学透镜组、反射镜、孔径光阑、物镜，其中，第一光源组件，用于产生照明光束；光学透镜组，位于照明光束的传播路径上，用于使照明光束经光学透镜组后形成第一光束；反射镜，位于光学透镜组与孔径光阑之间的光路中，用于使第一光束经反射镜反射后形成主光轴偏离物镜主光轴的第二光束；其中，反射镜包括反射率小于100%的目标区域，射在目标区域内的光线反射后经过孔径光阑有部分能够通过物镜射出。
一种手术显微镜

[发明专利]照明光学系统、光刻机设备及曝光方法-CN202010328674.X在审
发明人： 康思睿;田毅强;储兆祥 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2020-04-23 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种照明光学系统，包括照明光源和光束传播组件，所述光束传播组件包括中继镜组，所述中继镜组靠近照明像面设置，所述中继镜组包括至少一个可调节镜片，所述可调节镜片设置在所述中继镜组的入射端面和/或出射端面，用于调节光束入射至所述照明像面的照明远心度。基于照明光学系统，本发明还提供了一种光刻机设备和曝光方法。本发明提供的照明光学系统、光刻机设备和曝光方法，通过调整所述可调节镜片的倾斜姿态，从而实现实时调整光束的照明远心度，降低了光刻镜头设计难度，提高了曝光系统的性能。而且不会影响其他光学性能，从而实现光刻机设备的远心调整。
照明光学系统光刻设备曝光方法

[发明专利]用于电晕检测的3.5倍连续变焦日盲紫外光学系统-CN201710874908.9有效
发明人：陈宇;康思睿;范雯雯 -专利权人：长春理工大学
申请日： 2017-09-25 - 公布日： 2019-09-24 - 主分类号： G02B15/14 文献下载
摘要：用于电晕检测的3.5倍连续变焦日盲紫外光学系统属于紫外探测技术领域。现有技术变倍比较低。本发明其特征在于，前固定组由第一透镜担当，为二元衍射透镜；变倍组由第二透镜、第三透镜依次构成，依次为凸凹透镜、凹凸透镜；补偿组由第四透镜、第五透镜、第六透镜依次构成，依次为双凸透镜、双凹透镜、双凸透镜；后固定组由第七透镜担当，为凹凸透镜；透镜材料为氟化钙、熔融石英；第一透镜前镜面为二元衍射面；第三透镜的前镜面为非球面，其他镜面均为球面；所述光学系统工作波段为240～280nm，F数(f/d)为4，焦距为35～122.5mm，变倍比为3.5。本发明能够用于高压输电线状态检测，能够满足大视场搜索和小视场定位的要求。
用于电晕检测 3.5 连续变焦紫外光学系统