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[发明专利]高分子膜及使用了其的分散液和集聚体-CN201680027212.6有效
发明人：保地基典;Y.关户;板垣一郎;荒金彻;大坪真也;武冈真司;村田笃;藤井麻央;石冢裕也;庄子习一;水野润;笠原崇史 -专利权人：东丽株式会社;纳米西泰有限公司
申请日： 2016-05-11 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： A61L15/22 文献下载
摘要：本发明提供高分子膜及使用其的分散液和集聚体，所述高分子膜的特征在于，通过面积最大的二维投影图的重心的直线D处的平均膜厚T0满足式（a），从重心至边缘部的距离l的平均值L满足式（b），杨氏模量E满足式（c），并且由式（d）定义的厚度的偏差率Δ满足式（e）。（a）10nm≤T0≤1000nm，（b）0.1μm≤L≤500μm，（c）0.01GPa≤E≤4.3GPa，（d）Δ=1‑T1/T2，（e）0.346E×10‑9‑1.499＜Δ＜‑0.073E×10‑9＋0.316。可提供处理容易、相对于脏器组织的追随性、被覆性、贴附性、密合性优异的高分子膜及使用其的分散液和集聚体。
高分子使用分散集聚

[发明专利]细胞培养容器及使用该容器的细胞培养方法-CN201180041898.1有效
发明人：务中达也;阿部浩久;叶井正树;明地将一;前川平;木村晋也;芦原英司;庄子习一;川合健太郎 -专利权人：株式会社岛津制作所;国立大学法人京都大学;学校法人早稻田大学
申请日： 2011-07-08 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： C12M1/04 文献下载
摘要：孔的一对侧面中的一个侧面通过气体透过膜与第1流路的一部分区间相接，另外一个侧面通过气体透过膜与第2流路的一部分区间相接。在孔内填充了细胞培养液的状态下，通过用第1流路和第2流路相互流通特定成分浓度不同的高浓度气体和低浓度气体，从而在孔内形成特定成分的浓度分布。
细胞培养容器使用方法

[发明专利]模具、其制造方法及具有转印微细图案的基材的制造方法-CN200880017133.2无效
发明人：角崎健太郎;川口泰秀;坂根好彦;庄子习一;水野润;片座慎吾 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2008-04-09 - 公布日： 2010-03-24 - 主分类号： B29C33/38 文献下载
摘要：本发明提供具有透光性、脱模性、机械强度、尺寸稳定性、高精度的微细图案且微细图案的变形少的模具，可高尺寸精度地转印模具的微细图案且转印微细图案的变形少的具有转印微细图案的基材的制造方法。模具(10)具有透明基体(A)(12)、中间层(C)(14)和表面层(B)(16)；所述透明基体(A)(12)在形成有中间层(C)(14)的表面具有基于官能团(x)的化学键，其线膨胀系数与含氟聚合物(I)的线膨胀系数之间的差的绝对值不足30ppm/℃，热变形温度为100～300℃；所述中间层(C)(14)由主链中具有含氟脂肪族环结构且具有与官能团(x)具反应性的反应性基团(y)的含氟聚合物(II)形成；表面层(B)(16)由主链中具有含氟脂肪族环结构且实质上不具有反应性基团(y)的含氟聚合物(I)形成，在表面具有微细图案(18)。
模具制造方法具有微细图案基材

[发明专利]图案化磁记录介质的制造方法-CN200910006814.5无效
发明人：梶原里美;庄子习一;水野润;篠原秀敏 -专利权人：富士电机电子技术株式会社;学校法人早稻田大学
申请日： 2009-02-27 - 公布日： 2009-09-02 - 主分类号： G11B5/855 文献下载
摘要：本发明提供一种图案化的磁记录介质的制造方法，包括不使磁性层(3)的磁特性劣化地彻底剥离磁性层(3)上的刻蚀抗蚀剂的工序，刻蚀抗蚀剂是在磁性层(3)的刻蚀中使用的。其特征在于，在磁性层(3)的刻蚀中所使用的刻蚀抗蚀剂的剥离工序包括下述工序：在减压下，向此磁性层(3)或第1保护层(4)上的抗蚀剂照射受激准分子VUV激光的工序；以及将残留在磁性层(3)或第1保护层(4)上的抗蚀剂覆膜(5)浸渍到抗蚀剂剥离剂溶液中并清洗去除的工序。
图案记录介质制造方法