专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]带纳米线的膜及纳米线的制造方法-CN202080092107.7在审
  • 池田宗和;平田肇 - 东丽工程株式会社
  • 2020-12-14 - 2022-08-12 - B82B1/00
  • 本发明提供在基材上直接生长有纳米线的带纳米线的膜、以及使纳米线在基材上直接生长的纳米线的制造方法。具体而言,带纳米线的膜具备由结晶性树脂构成的基材和在基材上直接生长的由金属氧化物构成的纳米线,在基材的表面形成微细的凹凸结构,使纳米线从该凹凸结构直接生长。另外,具备由非晶态的树脂构成的基材、和在基材上直接生长的由金属氧化物构成的纳米线,在基材的表面形成间距为2~100nm、深度为5~30nm的微细的凹凸结构,使纳米线从该凹凸结构直接生长。
  • 纳米制造方法
  • [发明专利]膜厚不匀检测装置和方法、带有该检测装置的涂布装置-CN201310023443.8无效
  • 西村幸治;平田肇;森诚树 - 东丽工程株式会社
  • 2013-01-22 - 2013-07-31 - G01N21/88
  • 本发明提供膜厚不匀检测装置和方法、带有该检测装置的涂布装置,即使对伴随微小膜厚不匀的纵筋或横段,能够在刚涂布完后可靠地发现膜厚不匀,该膜厚不匀检测装置包括:照射部,向基板上的涂布膜照射特定照射图案的光;光接收部,接收从涂布膜表面反射的反射光;判断部,对由光接收部接收的光图案和特定的照射图案进行比较,由此判断涂布膜的形成状态是否良好;其中,判断部包括:图像比较部,比较接收光图案和照射图案;偏差提取图像生成部,用图像比较部比较接收光图案和照射图案以提取偏差;累加计算部,从偏差提取的图像累加计算散布的偏差提取图像的面积;累加计算偏差面积判断部,判断累加计算的偏差提取面积累加计算值是否比判断基准值大。
  • 膜厚不匀检测装置方法带有
  • [发明专利]薄片-CN200410063497.8无效
  • 平田肇;上原正嗣;寺尾次郎;中井康博 - 东丽株式会社
  • 2001-09-17 - 2004-12-15 - B29C47/92
  • 采用带有多个厚度调节装置的模具,对原材料进行挤压、模塑而获得的薄片,其特征在于薄片横向的厚度侧面轮廓的能谱由下列公式表示P=F(其中,f(x)是薄片在横向的厚度侧面轮廓(单位:μm),F(ω)是f(x)的傅里叶变换式,x是薄片在横向的一个位置(单位:m),ω是波数(单位:m-1),F(ω)*是F(ω)的共轭复数,j是一个虚数,而且j2=-1),平均薄片厚度T(μm)满足下列关系:小于预定波数a的能的平均值x1≤0.2×T2,并且<等于或大于波数a的能的平均值x2。
  • 薄片

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