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[实用新型]一种小型元件抛光后防吸附系统-CN202222316077.2有效
发明人：朱明露;李磊;王亦君 -专利权人： 常州皓研智能科技有限公司
申请日： 2022-08-31 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： B24B7/17 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种小型元件抛光后防吸附系统，包括双面抛光系统，双面抛光系统包括双面抛光机、控制单元、输入模块、以及自动喷射系统，自动喷射系统包括多个储蓄罐、软管、电磁阀、连接总管、以及设置在连接总管上且可控制活性剂导入的蠕动泵，各个电磁阀和蠕动泵均与控制单元电连接，双面抛光机的上抛光盘上设有注入通道，连接总管上远离储蓄罐的一端与注入通道连接，连接总管通过蠕动泵的驱动将储蓄罐内的活性剂导入抛光元件和上抛光盘之间。本实用新型通过在上抛光盘上升之前注入活性剂破除上抛光盘和抛光元件之间的张力，从而有效的防止抛光元件的吸附，有效的保证了抛光后的抛光元件的安全，便捷实用。
一种小型元件抛光后防吸附系统

[发明专利]一种双面抛光设备去除量分布的控制方法-CN202211532859.8在审
发明人：朱明露;李磊;王亦君 -专利权人： 常州皓研智能科技有限公司
申请日： 2022-12-01 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： B24B51/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种双面抛光设备去除量分布的控制方法，包括以下步骤：S1：准备工序：在双面抛光设备上录入指定去除量分布或设定均匀去除，设定加工时长；S2：装入元件开始加工，根据压力传感器收集到的抛光工作面的各点压力信息，拟合出元件上的压力分布；S3：根据S1的设定，计算正确的轨迹浓度分布；S4：根据计算所得的轨迹浓度分布，通过调整装置调节上抛光盘的在X、Y方向的摆动速度，使得元件表面的轨迹浓度符合计算结果；S5：按照设定的间隔时间，重复S2‑S4，直至加工时间结束，完成抛光过程。本发明能够在加工过程中根据采集的压力数据进行打磨进给速度的自动调整，有效解决无法对元件各个位置的去除量进行精准调控的问题。
一种双面抛光设备去除分布控制方法

[发明专利]一种高精玻璃抛光过程抛光液在线调控系统及调控方法-CN202211674206.3在审
发明人：朱明露;李磊;王亦君 -专利权人： 常州皓研智能科技有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： B01F35/82 文献下载
摘要：本发明涉及一种高精玻璃抛光过程抛光液在线调控系统及调整方法，其中调控系统包括与控制单元通信连接的表面张力调控模块、磨料粒度粒形调控模块、磨料浓度调控模块和抛光液循环装置；所述抛光液循环装置包括循环管道以及用于抛光液在循环管道内流动的循环泵；所述循环管道依次通过表面张力调控模块、磨料粒度粒形调控模块、磨料浓度调控模块和抛光工位。本发明中的调控系统和调控方法通过实验模拟不同磨料粒径和圆度抛光液混合后的结果，得到抛光液粒径和圆度变化时需补充的新抛光液的活性剂、磨料粒径、磨料圆度和磨液浓度，实时监控抛光液的理化性质，补充一定浓度指定粒径和圆度的新抛光液，使抛光液总体粒径和圆度保持在固定水平。
一种玻璃抛光过程在线调控系统方法

[发明专利]双面抛光设备上抛光盘修整装置及其修整方法-CN202211054389.9在审
发明人：朱明露;李磊;王亦君 -专利权人： 常州皓研智能科技有限公司
申请日： 2022-08-30 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： B24B53/02 文献下载
摘要：本发明专利涉及双面抛光设备上抛光盘修整装置，具有机架、工作平台、元件夹具、以及修盘器，机架上固定设有驱动气缸，驱动气缸的伸缩端固定设有驱动电机，驱动电机的输出端固定安装有上抛光盘，修盘器上设有可供上抛光盘伸入的内腔，内腔内设有修整件，修整件自上而下依次为修整层、多个薄膜传感器、带孔绝缘片、控制单元，各个薄膜传感器的一端穿过带孔绝缘片上对应的孔后与控制单元电连接，驱动气缸和驱动电机均与控制单元电连接，上抛光盘通过驱动气缸的驱动对修整层进行靠压，修整层通过驱动电机的驱动对上抛光盘进行修整。本发明专利还涉及双面抛光设备上抛光盘修整方法。本发明专利能够快速提升上抛光盘的修整效率，实现精准修平。
双面抛光设备修整装置及其方法