专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]铜蚀刻液-CN201880045782.7在审
  • 希代诚;渡口繁;熊谷博之;松原敏明;中村惟之 - 美录德有限公司
  • 2018-07-09 - 2020-04-10 - C23F1/34
  • 本发明提供一种能够切实地抑制电化学腐蚀、浴管理容易且蚀刻速度优异的铜蚀刻液。本发明的铜蚀刻液是由碱性的水溶液构成的铜蚀刻液,其特征在于,含有1~70g/L的铜、换算成25%氨水时为10~500g/L的氨水及5~500g/L的铵盐,所述铵盐为选自由无机酸的铵盐、磺酸的铵盐、饱和脂肪酸的铵盐、芳香族羧酸的铵盐、羟基酸的铵盐及二羧酸的铵盐组成的群组中的1种或2种以上的铵盐。
  • 蚀刻

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