专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于处理基板的设备和方法-CN202210784676.9在审
  • 崔镇雨;李章熙;朴永鹤;吴承俊;徐安娜 - 细美事有限公司
  • 2022-06-29 - 2022-12-30 - H01J37/32
  • 本发明构思提供了一种基板处理设备。所述种基板处理设备包括:工艺腔室,所述工艺腔室设置有反应空间并且具有暴露于所述反应空间的至少一个绝缘构件;基板支撑构件,所述基板支撑构件用于将基板支撑在所述反应空间处;气体供应构件,所述气体供应构件用于选择性地将钝化气体或工艺气体供应到所述反应空间;等离子体源,所述等离子体源用于将所述钝化气体或所述工艺气体激发为等离子体;以及控制器,所述控制器用于控制所述气体供应构件和所述等离子体源,并且其中所述控制器控制所述气体供应构件和所述等离子体源,使得在所述基板未被放入所述反应空间中的状态下,所述钝化气体被供应到所述反应空间并且供应的钝化气体被激发为所述等离子体。
  • 用于处理设备方法

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