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[发明专利]包含帽依赖性核酸内切酶抑制剂及抗流感药的组合的流感治疗用药物-CN201680081836.6在审
发明人：宍户贵雄;熨斗武志;山本敦子;北野光崇 -专利权人：盐野义制药株式会社
申请日： 2016-12-14 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： A61K31/53 文献下载
摘要：本发明提供一种药物，其包含(A)与(B)的组合，所述(A)为式(I)所示的化合物、或其药学上可接受的盐或它们的溶剂合物(式(I)中，P为氢原子或形成前体药物的基团，A¹为CR^1AR^1B、S或O，A²为CR^2AR^2B、S或O，A³为CR^3AR^3B、S或O，A⁴各自独立地为CR^4AR^4B、S或O，其中，由A¹、A²、A³、A⁴、与A¹相邻的氮原子、及与A⁴相邻的碳原子构成的环的成环原子的杂原子的数量为1个或2个，R^1A及R^1B各自独立地为氢原子、卤素、烷基等，R^2A及R^2B各自独立地为氢原子、卤素、烷基等，R^3A及R^3B各自独立地为氢原子、卤素、烷基等，R^4A各自独立地为氢原子、卤素、烷基等，R^4B各自独立地为氢原子、卤素、烷基等，R^3A及R^3B任选与相邻的碳原子共同形成非芳香族碳环或非芳香族杂环，n为1～2的整数，R¹为化学式2等)；所述(B)为具有抗流感作用的化合物、其药学上可接受的盐或它们的溶剂合物、和/或具有抗流感作用的抗体。所述药物在流感的治疗或预防等中有用。
氢原子烷基式( I )溶剂合物抗流感可接受碳原子非芳香族杂环核酸内切酶非芳香族抗流感药流感治疗帽依赖性前体药物氮原子抑制剂杂原子成环抗体碳环流感治疗预防

[发明专利]使用超高耐热性正型感光组合物的图案形成方法-CN200380104283.4无效
发明人：井川昭彦;山本敦子 -专利权人： AZ电子材料(日本)株式会社
申请日： 2003-11-14 - 公布日： 2006-01-04 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：在对于光致抗蚀图案需要高耐热性的工艺中，如制备TFT活性基质基板工艺中，通过使用正型感光组合物可形成一种超高耐热性的正型图案。本发明的图案形成方法包括以下步骤：涂敷一种感光组合物到基板材料之上以形成感光层的步骤，该感光组合物含有(a)碱溶性树脂、(b)具有醌二叠氮基的感光剂、(c)光酸产生剂、(d)交联剂和(e)溶剂；接着透过掩模使基板曝光的步骤；通过显影除去曝光区域以形成正型图像的步骤；使该正型图像的整个区域曝光的步骤；和(如果需要)后烘焙处理。对于使用1，2－萘醌－4－磺酰化合物作为具有醌二叠氮基的感光剂的情形，以上成分(c)可以省略，这是由于该化合物还充当着成分(c)光酸产生剂的作用。
使用超高耐热性感光组合图案形成方法

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