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[发明专利]硅氧烷聚合物、硅氧烷聚合物组合物和成形体-CN202180060131.7在审
发明人：榎木信雄;诹访和也;木谷绫花;山广干夫;松下武司;石川太郎;及川尚夫 -专利权人：捷恩智株式会社
申请日： 2021-07-29 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： C08G77/44 文献下载
摘要：本发明提供在主链含有倍半硅氧烷单元和链状硅氧烷单元、在侧链具有笼型倍半硅氧烷结构的硅氧烷聚合物，且提供利用了所述侧链的笼型倍半硅氧烷的凝聚力(物理交联)的高透明、可挠性的热线膨胀系数低的膜。一种硅氧烷聚合物，具有式(1)和式(4)所表示的重复单元，左右两末端为式(5L)和式(5R)所表示的末端基。A表示以下的结构。
硅氧烷聚合物组合成形

[发明专利]硅氧烷聚合物、硅氧烷聚合物组合物和成形体-CN202180060525.2在审
发明人：榎木信雄;诹访和也;木谷绫花;山广干夫 -专利权人：捷恩智株式会社
申请日： 2021-07-29 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： C08L83/04 文献下载
摘要：本发明提供在主链含有倍半硅氧烷单元、链状硅氧烷单元和Si‑H基的可交联的硅氧烷聚合物(α')，且通过将含有所述硅氧烷聚合物(α')的组合物涂布于基材并进行加热硬化而提供Si‑H基成为交联点的耐热性优异的硬化皮膜。所述硅氧烷聚合物(α')具有式(1)、式(2)和式(4H)所表示的重复单元，左右两末端为式(5L)和式(5R)所表示的末端基。
硅氧烷聚合物组合成形

[发明专利]嵌段共聚物、树脂组合物、涂膜、树脂膜及其应用-CN201880059392.5有效
发明人：依田昌子;高桥夕佳;山广干夫 -专利权人：捷恩智株式会社
申请日： 2018-09-12 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： C08G18/32 文献下载
摘要：本发明提供一种具有透明性、耐热性及机械物性优异的特性的、分子内具有脲键或氨基甲酸酯键的新颖嵌段共聚物、树脂组合物、涂膜、树脂膜及其应用。本发明是作为下述交替共聚物1与交替共聚物2的加成聚合共聚物的、包含式(3)的重复单元的嵌段共聚物。‑[(交替共聚物1)‑(交替共聚物2)]‑式(3)交替共聚物1：聚脲系交替共聚物，为二异氰酸酯＜A＞与二胺＜B＞的加成聚合共聚物，且包含‑[(A)‑(B)]‑式(1)的重复单元；交替共聚物2：聚脲系交替共聚物2‑1、或聚氨基甲酸酯系交替共聚物2‑2，为二异氰酸酯＜A＞与二胺＜C1＞或二醇＜C2＞的加成聚合共聚物，且包含‑[(A)‑(C1)]‑式(2‑1)或‑[(A)‑(C2)]‑式(2‑2)的重复单元。
共聚物树脂组合涂膜及其应用

[发明专利]硅化合物、涂剂用树脂组合物、成形体、图像显示装置-CN201580018042.0有效
发明人：依田昌子;大熊康之;山广干夫 -专利权人：捷恩智株式会社
申请日： 2015-03-31 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： C07F7/10 文献下载
摘要：本案发明为一种可提高硬涂剂等的耐擦伤性的化合物、及含有该化合物的涂剂用树脂组合物。本案的硅化合物为说明书的式(I)所表示的硅化合物(a)，并且R1为碳数3或4的亚烷基，X为选自由说明书的式(II)～式(III)所组成的组群中的一个基团，n为0或1的整数，Y为选自由说明书的式(IV)～式(VI)所组成的组群中的具有(甲基)丙烯酸酯基的一个基团，R2为氢或甲基。若将硅化合物(a)与硬化性树脂一起使用，则可明显提高可认为是由应力缓和所得的耐擦伤性。
化合物涂剂用树脂组合成形图像显示装置

[发明专利]脲键结型四官能(甲基)丙烯酸酯化合物及含有它的组合物-CN201980006338.9在审
发明人：养王田昌昭;安井平;及川尚夫;山广干夫 -专利权人：捷恩智株式会社
申请日： 2019-03-29 - 公布日： 2020-07-24 - 主分类号： C08F20/36 文献下载
摘要：本发明提供一种可优选地用作电子零件中的绝缘膜的材料等的、耐热性优异的新颖的化合物及含有它的组合物。一种脲键结型四官能(甲基)丙烯酸酯化合物，是由下述式(1)表示。(式(1)中，A为二价有机基，Y为碳数1～18的直链亚烷基或具有分支的亚烷基，在所述亚烷基的碳数为2以上的情况下，可在任意的C‑C键间插入氧原子(‑O‑)，也可在末端的C‑N键间插入‑CO‑，m为0或1，X为下述式(2)所表示的基)(式(2)中，R1及R2独立地为氢或甲基)
脲键结型四官能甲基丙烯酸酯化合物含有组合

[发明专利]模内成形用转印膜、其制造方法及模内成形体的制造方法-CN201811113000.7在审
发明人：伊藤贤哉;大熊康之;田仲拓郎;高桥夕佳;黒松亜纪;山广干夫 -专利权人：捷恩智株式会社
申请日： 2012-06-18 - 公布日： 2019-05-07 - 主分类号： B29C45/16 文献下载
摘要：本发明涉及一种模内成形用转印膜、其制造方法及模内成形体的制造方法。本发明提供耐溶剂性、耐热性、耐久性、抗黏连性、成形性优异，且可抑制浇口流动的产生的模内成形用转印膜及其制造方法。该膜包括：转印层(11)，其被转印至模内成形体上，且于转印后通过照射活性能量线而硬化；以及膜状的基材(L0)。转印层(11)具有层合于基材(L0)上，且于模内成形后配置在成形体的最表面的IMD层(L2)；IMD层(L2)包含混合组分，上述混合组分含有分别至少1种的活性能量线硬化性树脂与热硬化性树脂。
模内成形成形体转印膜制造转印层基材转印耐热性活性能量线硬化热硬化性树脂活性能量线耐溶剂性成形性树脂层合浇口膜状硬化照射配置流动

[发明专利]涂剂用树脂组合物、成形体、图像显示装置-CN201580018040.1有效
发明人：依田昌子;大熊康之;山广干夫 -专利权人：捷恩智株式会社
申请日： 2015-03-31 - 公布日： 2019-04-12 - 主分类号： C09D201/00 文献下载
摘要：本发明关于一种涂剂用树脂组合物、成形体、图像显示装置。本案发明为一种可提高硬涂剂等的耐擦伤性的化合物，且为一种含有所述化合物的涂剂用树脂组合物。本案的涂剂用树脂组合物含有：说明书的式(I)所表示的硅化合物(a)；及硬化性树脂(b)。式(I)中，R₁为碳数3或4的亚烷基，X为具有氨基甲酸酯骨架及在末端具有(甲基)丙烯酰基的说明书的式(II)所表示的基团。式(II)中，R₂为氢或甲基，n为0或1的整数。所述硅化合物(a)的分子量为500～699。若将这种硅化合物(a)与硬化性树脂一起使用，则能以良好的相溶性混合到硬化性树脂中，进而可明显提高可认为是由应力缓和所得的耐擦伤性。
涂剂用树脂组合成形图像显示装置

[发明专利]层叠体、表面保护物品、层叠体的制造方法-CN201580038642.3有效
发明人：平木聡一郎;大熊康之;山广干夫;万谷太郎;池本重隆 -专利权人：捷恩智株式会社;有限公司思美龙
申请日： 2015-07-14 - 公布日： 2019-02-01 - 主分类号： B32B27/00 文献下载
摘要：本申请发明提供使用热塑性聚氨基甲酸酯的、防污性及贴附特性优异、且糊剂残余得到抑制的层叠体及其制造方法及表面保护物体。本申请的层叠体具备：由热塑性聚氨基甲酸酯所形成的基材膜(11)；及形成于基材膜(11)的第一面侧的粘着层(13)。基材膜(11)在所述第一面的相反侧具有所述热塑性聚氨基甲酸酯与硬化性树脂组合物混合存在的表面层(12)。所述硬化性树脂组合物的含有比例是以自表面层(12)的表面(s1)向基材膜(11)内逐渐减小的方式构成。硬化性树脂组合物含有选自由氟倍半硅氧烷及氟倍半硅氧烷聚合物所组成的群组中的至少一种氟化合物(ss)、及硬化性树脂。粘着层(13)的表面粗糙度为350～750nm。
层叠表面保护物品制造方法

[发明专利]耐候性层压膜及图像显示装置-CN201280031200.2有效
发明人：依田昌子;伊藤贤哉;大熊康之;山广干夫 -专利权人：捷恩智株式会社
申请日： 2012-07-02 - 公布日： 2016-10-19 - 主分类号： B32B27/18 文献下载
摘要：本发明提供一种多层构造的耐候性层压膜及图像显示装置，其可避免硬化不良，渗出得到抑制，而且基材的密接性良好且黄变减少，提高了耐候性。耐候性层压膜10包括：透明的膜状的基材C；层压于基材C上且添加有紫外线吸收剂的紫外线吸收树脂层B；以及层压于紫外线吸收树脂层B上的第1硬化树脂层A。第1硬化树脂层A具有1.0μm～10μm的膜厚。紫外线吸收树脂层B具有0.5μm～5μm的膜厚。紫外线吸收树脂层B的吸收波长为200nm～500nm。
耐候性层压图像显示装置

[发明专利]模内成形用转印膜及其制造方法-CN201280030246.2在审
发明人：伊藤贤哉;大熊康之;田仲拓郎;高桥夕佳;黒松亜纪;山广干夫 -专利权人：捷恩智株式会社
申请日： 2012-06-18 - 公布日： 2014-02-26 - 主分类号： B29C45/16 文献下载
摘要：本发明提供一种耐溶剂性、耐热性、耐久性、抗黏连性、成形性优异，且可抑制浇口流动的产生的模内成形用转印膜及其制造方法。该膜包括：转印层(11)，其被转印至模内成形体上，且于转印后藉由照射活性能量线而硬化：以及膜状的基材(L0)。转印层(11)具有层合于基材(L0)上，且于模内成形后配置在成形体的最表面的IMD层(L2)；IMD层(L2)包含混合组分，上述混合组分含有分别至少1种的活性能量线硬化性树脂与热硬化性树脂。
成形用转印膜及其制造方法

[发明专利]积层体及其制造方法-CN201180049985.1有效
发明人：高桥夕佳;田仲拓郎;平野幸夫;大熊康之;山广干夫 -专利权人：捷恩智株式会社
申请日： 2011-10-13 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： B32B27/30 文献下载
摘要：本发明提供一种在一个层中具备具有防污功能、低折射率、高折射率的层的积层体及其制造方法。积层体1包括：透明的基材10；以及于基材10上侧，使射入的光折射的折射层11。折射层11至少包含选自由氟倍半硅氧烷及氟倍半硅氧烷聚合物所组成的组群中的一种以上的氟化合物(ss)、及具有比所述氟化合物(ss)更高的折射率的树脂(p1)。折射层11内的氟化合物(ss)的浓度对于基材10侧(背面s2侧)及其相反侧(表面s1侧)而言，相反侧(表面s1侧)更高，且折射层11于层内形成低折射率与高折射率的倾斜构造层。
积层体及其制造方法

[发明专利]透明导电性膜及其制造方法-CN201180033559.9有效
发明人：田仲拓郎;中川泰彦;饭塚洋介;大熊康之;山广干夫 -专利权人：捷恩智株式会社
申请日： 2011-07-05 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：提供一种透明导电体层之图案形状并不醒目、辨识度良好之多层结构之透明导电性膜。该膜具备：由膜状高分子树脂而形成的透明基材11；于基材11上所积层的第1硬涂层12；于第1硬涂层12上视需要而积层的第1透明介电质层13；于第1透明介电质层13上所积层的第1透明导电体层14。基材11具有2μm～250μm的膜厚。第1硬涂层12由含有无机氧化物的硬化性树脂而形成，具有1.40～1.90的折射率及0.5μm～6μm的膜厚。第1透明介电质层13由无机物而形成，具有1.30～1.50的折射率及10nm～50nm的膜厚。第1透明导电体层14由选自由无机氧化物、金属、碳所构成的群组的至少1种而形成，进行了图案化且具有10nm～2μm的膜厚。
透明导电性及其制造方法

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