专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]肟酯光敏引发剂-CN201710845961.6有效
  • 西前祐一;仓久敏;国本和彦;山上隆平;田中庆太 - 巴斯夫欧洲公司
  • 2013-05-06 - 2021-09-10 - C07D209/86
  • 式I、II、III、IV或V的肟酯化合物为有效的光敏引发剂,其中Z为‑(式A);Z1为‑NO2、未经取代或经取代的C7‑C20芳酰基或未经取代或经取代的C4‑C20杂芳酰基;条件为至少一个Z1不同于NO2;Z2为‑未经取代或经取代的C7‑C20芳酰基;R1、R2、R3、R4、R5和R6为‑氢、卤素、或未经取代或经取代的C1‑C20烷基、未经取代或经取代的C6‑C20芳基、或未经取代或经取代的C4‑C20杂芳基;R9、R10、R11、R12和R13为‑氢、卤素、OR16、未经取代或经取代的C1‑C20烷基;条件为R9与R13不为氢或氟;R14为‑未经取代或经取代的C6‑C20芳基或C3‑C20杂芳基;Q为‑C6‑C20亚芳基或C3‑C20亚杂芳基;Q1为‑C1‑C20亚烷基‑CO‑;Q2为亚萘甲酰基;Q3为‑亚苯基;L为‑O‑亚烷基‑O‑;R15为‑氢或C1‑C20烷基;R20为‑氢、或未经取代或经取代的C1‑C20烷基。
  • 光敏引发
  • [发明专利]肟酯光敏引发剂-CN201510582755.1有效
  • 西前祐一;仓久敏;国本和彦;山上隆平;田中庆太 - 巴斯夫欧洲公司
  • 2013-05-06 - 2019-08-13 - C07D209/88
  • 式I、II、III、IV或V的肟酯化合物为有效的光敏引发剂,其中Z为例如(式A);Z1为例如NO2、未经取代或经取代的C7‑C20芳酰基或未经取代或经取代的C4‑C20杂芳酰基;条件为至少一个Z1不同于NO2;Z2为例如未经取代或经取代的C7‑C20芳酰基;R1、R2、R3、R4、R5和R6为例如氢、卤素、或未经取代或经取代的C1‑C20烷基、未经取代或经取代的C6‑C20芳基、或未经取代或经取代的C4‑C20杂芳基;R9、R10、R11、R12和R13为例如氢、卤素、OR16、未经取代或经取代的C1‑C20烷基;条件为R9与R13不为氢或氟;R14为例如未经取代或经取代的C6‑C20芳基或C3‑C20杂芳基;Q为例如C6‑C20亚芳基或C3‑C20亚杂芳基;Q1为‑C1‑C20亚烷基‑CO‑;Q2为亚萘甲酰基;Q3为例如亚苯基;L为例如O‑亚烷基‑O‑;R15为例如氢或C1‑C20烷基;R20为例如氢、或未经取代或经取代的C1‑C20烷基。
  • 光敏引发
  • [发明专利]肟酯光敏引发剂-CN201380023834.8有效
  • 西前祐一;仓久敏;国本和彦;山上隆平;田中庆太 - 巴斯夫欧洲公司
  • 2013-05-06 - 2017-10-27 - C07D209/88
  • 式I、II、III、IV或V的肟酯化合物为有效的光敏引发剂,其中Z为例如(式A);Z1为例如NO2、未经取代或经取代的C7‑C20芳酰基或未经取代或经取代的C4‑C20杂芳酰基;条件为至少一个Z1不同于NO2;Z2为例如未经取代或经取代的C7‑C20芳酰基;R1、R2、R3、R4、R5和R6为例如氢、卤素、或未经取代或经取代的C1‑C20烷基、未经取代或经取代的C6‑C20芳基、或未经取代或经取代的C4‑C20杂芳基;R9、R10、R11、R12和R13为例如氢、卤素、OR16、未经取代或经取代的C1‑C20烷基;条件为R9与R13不为氢或氟;R14为例如未经取代或经取代的C6‑C20芳基或C3‑C20杂芳基;Q为例如C6‑C20亚芳基或C3‑C20亚杂芳基;Q1为‑C1‑C20亚烷基‑CO‑;Q2为亚萘甲酰基;Q3为例如亚苯基;L为例如O‑亚烷基‑O‑;R15为例如氢或C1‑C20烷基;R20为例如氢、或未经取代或经取代的C1‑C20烷基。
  • 光敏引发
  • [发明专利]肟酯光敏引发剂-CN201510583865.X在审
  • 西前祐一;仓久敏;国本和彦;山上隆平;田中庆太 - 巴斯夫欧洲公司
  • 2013-05-06 - 2016-02-03 - C07D209/86
  • 式I、II、III、IV或V的肟酯化合物为有效的光敏引发剂,其中Z为例如(式A);Z1为例如NO2、未经取代或经取代的C7-C20芳酰基或未经取代或经取代的C4-C20杂芳酰基;条件为至少一个Z1不同于NO2;Z2为例如未经取代或经取代的C7-C20芳酰基;R1、R2、R3、R4、R5和R6为例如氢、卤素、或未经取代或经取代的C1-C20烷基、未经取代或经取代的C6-C20芳基、或未经取代或经取代的C4-C20杂芳基;R9、R10、R11、R12和R13为例如氢、卤素、OR16、未经取代或经取代的C1-C20烷基;条件为R9与R13不为氢或氟;R14为例如未经取代或经取代的C6-C20芳基或C3-C20杂芳基;Q为例如C6-C20亚芳基或C3-C20亚杂芳基;Q1为-C1-C20亚烷基-CO-;Q2为亚萘甲酰基;Q3为例如亚苯基;L为例如O-亚烷基-O-;R15为例如氢或C1-C20烷基;R20为例如氢、或未经取代或经取代的C1-C20烷基。
  • 光敏引发
  • [发明专利]肟酯光敏引发剂-CN201510582742.4在审
  • 西前祐一;仓久敏;国本和彦;山上隆平;田中庆太 - 巴斯夫欧洲公司
  • 2013-05-06 - 2016-01-06 - C07D209/86
  • 式I、II、III、IV或V的肟酯化合物为有效的光敏引发剂,其中Z为例如(式A);Z1为例如NO2、未经取代或经取代的C7-C20芳酰基或未经取代或经取代的C4-C20杂芳酰基;条件为至少一个Z1不同于NO2;Z2为例如未经取代或经取代的C7-C20芳酰基;R1、R2、R3、R4、R5和R6为例如氢、卤素、或未经取代或经取代的C1-C20烷基、未经取代或经取代的C6-C20芳基、或未经取代或经取代的C4-C20杂芳基;R9、R10、R11、R12和R13为例如氢、卤素、OR16、未经取代或经取代的C1-C20烷基;条件为R9与R13不为氢或氟;R14为例如未经取代或经取代的C6-C20芳基或C3-C20杂芳基;Q为例如C6-C20亚芳基或C3-C20亚杂芳基;Q1为-C1-C20亚烷基-CO-;Q2为亚萘甲酰基;Q3为例如亚苯基;L为例如O-亚烷基-O-;R15为例如氢或C1-C20烷基;R20为例如氢、或未经取代或经取代的C1-C20烷基。
  • 光敏引发
  • [发明专利]肟酯光敏引发剂-CN201280060566.2在审
  • 西前祐一;仓久稔;国本和彦;山上隆平;田中庆太 - 巴斯夫欧洲公司
  • 2012-12-03 - 2014-08-20 - C07D209/80
  • 式I的肟酯化合物:其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10彼此独立地为氢、C1-C20烷基、(A)、COR14、NO2或OR15;条件为R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10中的至少一个为(A)且条件为其余R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10中的至少一个为COR14或NO2;R11例如为C1-C20烷基、M或(B);X及X1例如为直接键;R12及R'12例如为氢或C1-C20烷基;R13及R'13例如为C6-C20芳基或C3-C20杂芳基;M为(X)、(Y)或(Z);X3为O、S或NR19;R14及R15例如为苯基;R20、R21、R22、R23、R24或R25例如为氢、COR14、NO2或(B);条件为在该分子中存在至少两个肟酯基团;所述化合物可用作光敏引发剂。
  • 光敏引发

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