专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体工程废气处理装置-CN202280005750.0在审
  • 尹钟珌 - 等离子科学系统株式会社
  • 2022-04-20 - 2023-04-18 - H05H1/34
  • 提供一种对从半导体工程产生并向真空泵移动的废气进行处理的半导体工程废气处理装置。半导体工程废气处理装置包括:等离子体生成部,其生成等离子体;反应腔室,其通过所述等离子体分解全氟化合物生成分解气体;以及气体供应部,其将来自所述反应腔室的分解气体供应到来自所述半导体工程的废气流入并将经过处理的废气排出到所述真空泵的处理腔室,所述分解气体在所述处理腔室内与所述废气反应抑制通过所述废气的成分生成固相(solid state)的盐。
  • 半导体工程废气处理装置
  • [发明专利]用于处理废气的等离子装置-CN202210956261.5在审
  • 尹钟珌 - 等离子科学系统株式会社
  • 2022-08-10 - 2023-02-17 - H05H1/28
  • 本发明涉及废气处理装置,具体涉及一种等离子装置,所述等离子装置包括:等离子体火炬;废气注入部,其设于所述等离子体火炬的下部;反应腔室,其设于废气注入部的下部;等离子反应部,其包括等离子体火炬及设置成向反应腔室供应冷却水的冷却水腔室;冷却部,其形成于等离子反应部的下部且与等离子反应部相互连通,设有通道和包围通道的冷却水腔室;连接部,其连接冷却部和真空泵,其中,连接部设有用于阻断被真空泵压降的孔口。所述等离子装置通过在与真空泵连接的连接部安装孔口阻断真空泵的压降,能够将等离子装置的包括等离子体火炬的等离子反应部的压力维持在接近常压的压力,因此能够减少等离子体火炬内钨电极磨损,延长电极寿命。
  • 用于处理废气等离子装置

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