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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]静电基板支撑件几何形状的抛光-CN201880057686.4有效
发明人： 小温德尔·G·博伊德;J·Z·何 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-07-17 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本文中提供待使用于等离子体辅助半导体制造腔室或等离子体增强半导体制造腔室中的抛光静电卡紧(ESC)基板支撑件的图案化表面的方法。具体地，本文中描述的实施例提供抛光方法，所述抛光方法将升高特征的边缘圆化并去毛边并且从图案化基板支撑件的非基板接触表面移除介电材料，以减少和其相关联的缺陷。
静电支撑几何形状抛光

[发明专利]在去夹持步骤期间移除静电夹盘上的残余电荷的方法-CN201780015690.X有效
发明人： 小温德尔·G·博伊德;汤姆·K·崔;罗伯特·T·海拉哈拉 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-02-16 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：一种用于从基板支撑件对残余电荷进行放电的方法和设备。在一个例子中，提供了基板支撑件，基板支撑件包括本体、设置在本体中的电极、辐射发射器和扩散器。本体具有形成在工件支撑表面中的一个或多个孔，工件支撑表面经构造以在工件支撑表面上接收基板。电极经构造以将基板静电保持到工件支撑表面。辐射发射器设置在形成于工件支撑表面中的一个或多个孔的第一孔中。辐射发射器经构造以从第一孔发射电磁能。扩散器设置在第一孔中并位于辐射发射器上方。
夹持步骤期间静电夹盘上残余电荷方法

[发明专利]在静电吸盘上形成台面-CN202280006281.4在审
发明人： 小温德尔·G·博伊德;S·吴;M·博伊德 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2022-01-24 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：静电吸盘的主体包括设置在主体的被抛光的表面上的台面。每个台面包括设置在主体的被抛光的表面上的粘附层、设置在粘附层上方的过渡层以及设置在过渡层上方的涂覆层。涂覆层具有至少14Gpa的硬度。主体进一步包括设置在主体的侧壁上方的侧壁涂层。一种制备主体的方法，包括以下步骤：抛光主体的表面和清洁被抛光的表面。该方法进一步包括以下步骤：通过在主体上沉积粘附层、在粘附层上方沉积过渡层以及在过渡层上方沉积涂覆层来沉积台面。此外，该方法包括抛光台面。
静电吸盘形成台面

[发明专利]用于静电吸盘的新式修复方法-CN201780075413.8有效
发明人： 小温德尔·G·博伊德 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-11-02 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式涉及整修烧结或等离子体喷涂的静电吸盘的方法。起初，将使用过的静电吸盘主体的一部分移除，以暴露底表面。接着，使用悬浮浆料等离子体喷涂工艺，将新的介电材料层沉积至底表面上。悬浮浆料等离子体喷涂工艺可将纳米尺寸的介电材料的悬浮浆料雾化成为小滴流，并且接着所述小滴流被注入等离子体放射内，以形成部分地熔融的滴。将部分地熔融的滴投射在底表面上，以在底表面上形成介电材料层。随后，选择性地移除新的介电材料层的材料，以形成台面。在清洁后，经整修的静电吸盘已准备好恢复使用。
用于静电吸盘新式修复方法

[发明专利]用于在发生处理移位时使用经调整的卡紧电压进行卡紧操作的方法、系统和设备-CN202280005476.7在审
发明人： 小温德尔·G·博伊德;M·博伊德 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2022-01-19 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：公开了在发生处理移位时使用经调整的卡紧电压进行卡紧操作的方法、系统和装置。在一个实施方式中，一种方法包括在处理腔室中对基板进行第一处理操作。第一处理操作包括在基板被支撑在ESC上时，将卡紧电压施加至处理腔室中的静电卡盘(ESC)。所述方法包括确定处理移位已经发生。确定处理移位已经发生包括以下操作中的一者或多者：确定基板的中心已经相对于中心在第一处理操作之前的预处理位置移动了后处理移位，或者确定基板背侧表面的缺陷计数超过缺陷阈值。所述方法包括基于处理移位的发生来确定经调整的卡紧电压。
用于发生处理移位使用调整电压进行操作方法系统设备

[发明专利]基板距离监控-CN201780034449.1有效
发明人： 小温德尔·G·博伊德;戈文达·瑞泽 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-05-08 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：于此公开的实施方式包括一种具有传感器组件的面板，一种具有所述传感器组件的处理腔室、及在处理腔室中用于监控基板的方法。在一个实施方式中，面板经配置以将处理气体导入等离子体处理腔室中。面板具有一个或多个孔。传感器组件设置于一个或多个孔中。传感器组件具有传感器及控制器。
距离监控

[发明专利]静电夹盘的氮化铝电介质修复-CN201280020074.0有效
发明人： 小温德尔·G·博伊德;约瑟夫·F·萨默斯;威廉·M·吕;拉扬·巴勒森 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2012-04-16 - 公布日： 2014-01-01 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明一般涉及一种刷新的静电夹盘与一种用于刷新已使用的静电夹盘的方法。一开始，从已使用的静电夹盘移除预定量的电介质材料，以留下基部表面。接着，粗糙化所述基部表面，以提高新的电介质材料对基部表面的粘着性。接着，在粗糙化表面上喷洒新的电介质材料，然后在新的电介质材料上方放置掩模，以助于形成台面，其中在处理期间基板将座落在所述台面上。接着移除一部分新的电介质层，以形成新的台面。在移除掩模之后，台面的边缘变得平滑，且经刷新的静电夹盘可在清洁之后准备返回作业。
静电氮化电介质修复

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