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[发明专利]电容器及其制造方法-CN202310188580.0在审
发明人：五十岚武司;小松嘉英 -专利权人：住友电工光电子器件创新株式会社
申请日： 2023-03-02 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： H01L23/64 文献下载
摘要：本发明涉及抑制电容器的电特性的劣化的电容器及其制造方法。该电容器具备：基板(10)；第一电极(14)，设于所述基板上；电介质膜(16)，设于所述第一电极上；第二电极(18)，设于所述电介质膜上；第三电极(20)，在下表面中的至少一部分的第一区域(50)与所述第二电极接触；以及有机绝缘体膜(26)，覆盖所述电介质膜的上部、所述第二电极的上部以及所述第三电极，在所述基板的上表面的法线方向上，在所述第三电极的下表面与所述第二电极之间未设置所述有机绝缘体膜。
电容器及其制造方法

[发明专利]电容器的制造方法-CN201910397664.9在审
发明人： 小松嘉英;五十岚武司;小栗裕之 -专利权人：住友电工光电子器件创新株式会社
申请日： 2019-05-14 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： H01L49/02 文献下载
摘要：本发明涉及电容器的制造方法，具有MIM构造的电容器的制造方法包括：在下部电极的上表面通过多次层叠来形成电介质的步骤；及在电介质的上表面形成上部电极的步骤。电介质包括：在下部电极的上表面形成的第一电介质层；及在第一电介质层的上表面形成且与上部电极相接的第二电介质层。形成电介质的步骤包括：在下部电极的上表面形成第一电介质层的步骤；通过喷射清洗及二流体清洗中的至少一者对第一电介质层(31)的上表面进行清洗的步骤；及在清洗后的第一电介质层的上表面形成第二电介质层的步骤。
电介质层上表面电介质下部电极电容器清洗上部电极喷射清洗流体制造