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[发明专利]成膜装置的清洗方法-CN202010170282.5有效
发明人： 小川淳;和田博之;栗林昭博;小山峻史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-03-12 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置的清洗方法。该成膜装置的清洗方法能够高效地去除沉积于处理容器的内部的氮化硅膜，并且能够抑制由石英形成的构件的损坏。所述成膜装置的清洗方法包括利用等离子体化后的清洗用气体对沉积氮化硅膜的处理容器的内部进行清洗的工序，所述清洗用气体包含含氟气体和氧气。
装置清洗方法

[发明专利]车辆控制系统-CN202211242374.5在审
发明人：藤山淳;小池直也;小川淳;太田慎也 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2019-11-11 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： E05B49/00 文献下载
摘要：本发明提供车辆控制系统。使用具备显示器、振动器、扬声器、蜂鸣器等通知单元的智能机(70C)，在电子钥匙(50C)进入了第一区域(80)且智能机(70C)未进入第二区域(81)的情况下，智能机(70C)使通知单元进行动作来进行车辆(20)处于操作等待状态的通知。由此，即使电子钥匙(50C)不具备各种通知单元，也能够可靠地进行车辆(20)已变为操作等待状态的通知。
车辆控制系统

[发明专利]车辆控制系统-CN201980086312.X有效
发明人：藤山淳;小池直也;小川淳;太田慎也 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2019-11-11 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： E05B49/00 文献下载
摘要：使用具备显示器、振动器、扬声器、蜂鸣器等通知单元的智能机(70C)，在电子钥匙(50C)进入了第一区域(80)且智能机(70C)未进入第二区域(81)的情况下，智能机(70C)使通知单元进行动作来进行车辆(20)处于操作等待状态的通知。由此，即使电子钥匙(50C)不具备各种通知单元，也能够可靠地进行车辆(20)已变为操作等待状态的通知。
车辆控制系统

[发明专利]车辆用灯具的控制装置、车辆用灯具系统及车辆用灯具的控制方法-CN202080042457.2在审
发明人：石川雅章;石上健太;小川淳;长田尚己 -专利权人：株式会社小糸制作所
申请日： 2020-06-02 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： B60Q1/115 文献下载
摘要：车辆用灯具的控制装置为对搭载有以第1频率振动的振动产生源的车辆用灯具(1)中的光轴角度的调节进行控制的装置，包括：加速度传感器(32)，其被搭载于车辆用灯具(1)，并且被设定为以第1频率的非整数倍的第2频率对加速度进行采样；接收部(34)，其接收表示加速度传感器(32)的输出值的信号；以及控制部(36)，其执行如下控制：基于加速度传感器(32)的输出值来调节车辆用灯具(1)的光轴角度。
车辆灯具控制装置系统方法

[发明专利]用于电动助力转向装置的控制装置、控制方法和马达模块-CN202110789295.5在审
发明人：三宅聪平;小川淳;大西聪;石川雅也 -专利权人：日本电产株式会社
申请日： 2021-07-13 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： B62D5/04 文献下载
摘要：本发明提供用于电动助力转向装置的控制装置、控制方法和马达模块。更高精度地判定方向盘的中立位置。在操舵系统的控制中使用本公开的例示的实施方式的控制装置。控制装置具有处理器以及存储有对处理器的动作进行控制的程序的存储装置。处理器执行以下内容：根据使用车速传感器检测到的车速、施加于方向盘的操舵扭矩以及作为输入轴的旋转角度的方向盘角度来判定车辆是否处于直行状态；在判定为车辆处于直行状态的情况下，使存储器存储方向盘角度；多次进行在判定为车辆处于直行状态的情况下使存储器存储方向盘角度的动作；以及通过对存储在存储器中的多个方向盘角度取加权平均来计算校正舵角量。
用于电动助力转向装置控制方法马达模块

[发明专利]车辆用无线通信系统、控制装置以及信息输出方法-CN201980093909.7在审
发明人：藤山淳;小池直也;小川淳;太田慎也 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2019-12-19 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： G08B21/24 文献下载
摘要：事先存储将电子钥匙(150)与智能机(160)进行配对得到的配对信息，当在该状态下电子钥匙(150)进入到包含车辆(110)的内部的一个点的车辆利用可能区域(504)的情况下，将车辆(110)设为可利用，在电子钥匙(150)进入到包含车辆(110)的内部的一个点的BLE通信可能区域(500)、且智能机(160)未进入包含车辆(110)的内部的一个点的第三区域、且车辆(110)处于行驶状态的情况下，在仪表(130)的指示器(132)中显示有可能忘记携带智能机(160)的意思。
车辆无线通信系统控制装置以及信息输出方法

[发明专利]免疫刺激剂、其制造方法以及使用了免疫刺激剂的试剂盒和疫苗-CN201980056161.3在审
发明人：小玉博明;小柳正徳;小川淳;石井宏典 -专利权人：全药克资源株式会社
申请日： 2019-09-02 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： A61K39/39 文献下载
摘要：本发明提供了一种免疫刺激剂，其具有得到改善的免疫刺激作用，并且含有壳聚糖和TLR(toll样受体)配体。
免疫刺激剂制造方法以及使用试剂盒疫苗

[发明专利]成膜装置及成膜方法-CN202010842303.3在审
发明人： 小川淳 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-08-20 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及成膜装置及成膜方法。本发明的课题是：在以填充形成于基板的表面的凹部图案的方式成膜为硅氮化膜时，无间隙地填充凹部图案。在表面形成有凹部图案的基板上成膜为硅氮化膜的成膜方法中，包括如下工序：向存储前述基板的处理容器内分别供给包含硅的原料气体和对前述原料气体进行氮化的氮化气体，沿着前述基板的表面形成保形的硅氮化膜的工序；在停止向前述处理容器内供给硅原料气体的状态下，向前述基板供给用于对前述硅氮化膜进行整形的等离子体化的整形用气体，以使前述硅氮化膜的膜厚自凹部图案的底部侧向上部侧变薄的方式使前述硅氮化膜收缩的工序；和，交替地重复进行形成前述硅氮化膜的工序与使前述硅氮化膜收缩的工序，将硅氮化膜嵌入于前述凹部图案的工序。
装置方法

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN202010811945.7在审
发明人： 小川淳;吹上纪明 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-08-13 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： C23C16/34 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置和成膜方法，能够在以在形成于基板的表面的凹部中埋入氮化硅膜的方式进行成膜时抑制生产率的下降，并且抑制在进行该氮化硅膜的成膜后进行的不必要的蚀刻。所述成膜方法实施以下工序：在旋转台以第一转速进行旋转的期间，对第一区域进行原料气体的供给并且以第一流量对第二区域进行所述氨气的供给，来在凹部内进行第一氮化硅膜的成膜；以及在旋转台以比第一转速低的第二转速旋转的期间，对第一区域供给原料气体并且以比第一流量小的第二流量对第二区域进行的所述氨气的供给，来在凹部内以层叠于第一氮化硅膜的方式进行第二氮化硅膜的成膜。
方法装置

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN202010788135.4在审
发明人：羽根秀臣;小山峻史;大槻志门;向山廉;吹上纪明;小川淳 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-08-07 - 公布日： 2021-02-23 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及成膜方法和成膜装置。[课题]当在表面露出有第1膜和第2膜的基板上成膜氮化硅膜时，抑制第1膜或第2膜的氮化，且能使第1膜上和第2膜上的各氮化硅的膜厚一致。[解决方案]实施如下工序：向在表面具备孵育时间彼此不同的第1膜和第2膜的基板供给等离子体化的氢气的工序；向基板供给由卤化硅构成的处理气体的工序；依次重复进行供给等离子体化的氢气的工序与供给处理气体的工序，形成覆盖第1膜和第2膜的硅的薄层的工序；向前述基板供给用于使硅的薄层氮化的第2氮化气体，形成氮化硅的薄层的工序；向基板供给原料气体和第1氮化气体，在氮化硅的薄层上成膜氮化硅膜的工序。
方法装置

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN202010789975.2在审
发明人：羽根秀臣;大槻志门;小山峻史;向山廉;小川淳;吹上纪明 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-08-07 - 公布日： 2021-02-23 - 主分类号： C23C16/34 文献下载
摘要：本发明涉及成膜方法和成膜装置。[课题]在表面露出有第1膜和第2膜的基板上成膜氮化硅膜时，抑制第1膜或第2膜的氮化，且使第1膜上和第2膜上的各氮化硅的膜厚一致。[解决方案]实施如下工序：向基板供给由具有Si‑Si键的卤化硅构成的处理气体的工序；向基板供给未经等离子体化的第2氮化气体的工序；依次重复进行供给处理气体的工序与供给第2氮化气体的工序，形成覆盖第1膜和第2膜的氮化硅的薄层的工序；为了将氮化硅的薄层改性，向基板供给等离子体化的改性用气体的工序；和，向前述基板供给原料气体和第1氮化气体，在经改性的氮化硅的薄层上成膜氮化硅膜的工序。
方法装置

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201710646237.0有效
发明人： 小川淳;矢部和雄 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-08-01 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：基板处理装置以及基板处理方法，在将以棚架状地保持有多个基板的基板保持件搬入立式的处理容器内来进行等离子体处理时，在各基板的面内进行均匀性高的处理。基板处理装置具有：凸部(41)，其以处理容器(11)的侧周壁向外侧鼓出的方式形成与用于容纳基板保持件(3)并进行处理的处理空间(13)连通的纵长空间；气体喷出部(62)，其设置于纵长空间，用于向处理空间喷出处理气体；以及天线(42)，其沿纵向设置在所述凸部，被供给高频电力使得在纵长空间内将处理气体等离子体化。而且，在该装置具有屏蔽件(7)，该屏蔽件在凸部从比天线靠近处理空间的位置向左右分别延伸，用于屏蔽由天线形成的电场来抑制在处理空间中形成等离子体。
处理空间凸部纵长基板处理装置基板保持件处理气体处理容器屏蔽件天线等离子体等离子体处理等离子体化气体喷出部电场多个基板高频电力基板处理天线形成纵向设置侧周壁均匀性屏蔽搬入鼓出基板喷出棚架连通容纳延伸

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN201910231945.7在审
发明人：羽根秀臣;大下健太郎;大槻志门;小川淳;吹上纪明;池川宽晃;小林保男;小山峻史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-03-26 - 公布日： 2019-10-22 - 主分类号： H01L21/318 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜方法和成膜装置。在将含硅的原料气体和用于将原料气体氮化的氮化气体交替地供给到基板来在基板上形成含硅氮化膜时，以具有期望的应力的方式形成该含硅氮化膜。以包括以下工序的方式进行成膜处理：将原料吸附工序和所述氮化工序交替反复地进行，来在基板(W)上形成含硅氮化膜；在进行所述原料吸附工序和所述氮化工序之前，设定所述含硅氮化膜的应力；以及氮化时间调整工序，以基于第一对应关系及所设定的所述含硅氮化膜的应力所得到的长度来进行所述氮化工序，其中，所述第一对应关系为所述含硅氮化膜的应力与同所述等离子体形成区域(R1～R3)中的氮化时间对应的参数之间的关系。
氮化硅氮化膜基板成膜装置原料气体成膜吸附等离子体形成区域成膜处理氮化气体时间调整期望

[发明专利]成膜装置-CN201810165871.7在审
发明人： 小川淳;吹上纪明;大槻志门;尾谷宗之;辛川孝行;小山峻史;岩崎征英 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-02-28 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： C23C16/34 文献下载
摘要：本发明涉及成膜装置，提供一种能够在成膜装置中抑制膜厚的不均的技术，该成膜装置遍及基板的径向地向载置于旋转台并进行公转的基板供给气体来进行成膜。在以沿旋转台的径向横跨晶圆的移动区域的方式供给气体、以包围气体喷出区域的周围的方式设置有排气口的气体供排气单元中，沿旋转台的径向将气体喷出区域划分为三个以上的区域。而且，在气体喷出区域中的内侧区域中，在与晶圆的通过区域的内侧的周缘相向的区域设置有气体喷出孔，在外侧区域中，在晶圆的通过区域的外侧的周缘设置有气体喷出孔。因此，能够使向晶圆的通过区域的缘部供给的气体的供给量增多，因此能够抑制晶圆的周缘的膜厚的降低。
晶圆成膜装置旋转台喷出气体喷出孔膜厚供给量方式设置供给气体基板供给径向横跨内侧区域排气单元区域设置外侧区域移动区域周缘设置排气口成膜基板相向缘部包围

[发明专利]信息代码读取系统、信息代码读取装置及信息代码形成介质-CN201210042901.8有效
发明人：伊藤雄一;鸿巢光司;牛岛隆雄;小川淳 -专利权人：电装波动株式会社
申请日： 2011-11-30 - 公布日： 2018-05-25 - 主分类号： G06K7/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种信息代码读取系统、信息代码读取装置及信息代码形成介质。通常时，难以识别信息代码，另一方面，在使用特别的读取装置进行读取的情况下，能够可靠读取。在信息代码读取系统(1)中，附加于信息代码形成介质(10)的信息代码(C)的亮色模块区域为反转区域，暗色模块区域为非反转区域。另一方面，在信息代码读取装置(40)中，设置能够对信息代码形成介质(10)照射第2波长带的照明光的第2照明光源(44)，在对信息代码形成介质(10)照射第2波长带的照明光的状态下，摄像该信息代码形成介质(10)。之后，通过在该摄像的信息代码形成介质(10)的图像中区别检测反转区域与非反转区域，提取亮色模块及暗色模块的区域，并根据该提取结果解读信息代码(C)。
信息代码读取装置反转区域读取系统读取模块区域暗色波长带照明光亮色摄像照射照明光源解读与非图像检测

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