“宫泽隆司”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果7个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]偶氮金属螯合物染料和光记录介质-CN200980117736.4无效
发明人：照田尚;竹下宽;内田直幸;宫泽隆司 -专利权人：三菱化学媒体股份有限公司
申请日： 2009-05-20 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： C09B45/14 文献下载
摘要：本发明提供一种染料，其可用于在高速记录特性和再生耐久性方面兼具优异特性的光记录介质。本发明的染料为使由下式所示的偶氮化合物与金属离子配位而成的染料。环A表示具有碳原子和氮原子而形成的含氮芳杂环。X表示C-R¹R²、氧原子、硫原子或N-R³。其中，R¹、R²和R³各自独立地表示氢原子、直链或支链的烷基、芳烷基、环烷基、直链或支链的链烯基、芳基或者-COR⁴所示的酰基。另外，R⁴表示烃基或杂环基。其中这些基团可以具有取代基。苯环B表示具有或不具有取代基的苯环。另外，对于苯环B的取代基，相邻的取代基可以彼此相互键合而形成环。
偶氮金属螯合物染料记录介质

[发明专利]光学记录介质、光记录材料及金属络合物-CN200680025540.9有效
发明人： 宫泽隆司;黑濑裕;照田尚;佐竹贤一;高桥有希子;木村真由美;内田直幸;玉川秀树 -专利权人：三菱化学媒体株式会社
申请日： 2006-07-11 - 公布日： 2008-08-06 - 主分类号： C09B45/18 文献下载
摘要：本发明提供一种可以用短波长的激光进行高密度的光信息的记录及/或读取的光学记录介质。用波长350～530nm的短波长的激光进行高密度的光信息的记录及/或读取的光学记录介质，具有记录层，所述记录层形成在基板上，含有金属络合物，金属络合物由通式[I]或通式[II]所表示的环状β－双酮偶氮化合物和配位于这些环状β－双酮偶氮化合物的2价金属离子构成。
光学记录介质材料金属络合物

[发明专利]光学记录介质、金属络合物及有机色素化合物-CN200680010179.2有效
发明人： 宫泽隆司;黑濑裕 -专利权人：三菱化学媒体株式会社
申请日： 2006-03-29 - 公布日： 2008-03-26 - 主分类号： B41M5/26 文献下载
摘要：本发明提供凭借短波长激光可以进行高密度的光信息的记录读取的、具有耐光性得到改善的记录层的光学记录介质。一种具有含有有机色素化合物的记录层的光学记录介质，记录层中含有金属络合物，该金属络合物由通式[I]～通式[III]所表示的吡啶酮偶氮化合物和与之配位的镍、钴、铁、锌、铜、锰等的2价金属离子构成，该吡啶酮偶氮化合物作为偶合剂成分含有6－羟基－2－吡啶酮结构，作为重氮成分含有异噁唑、1，2，4－三唑或吡唑结构。(在通式[I]～通式[III]中，R₁～R₁₀各自独立地是氢原子或1价官能团)。
光学记录介质金属络合物有机色素化合物

[发明专利]具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料及其抗蚀剂成像法-CN200710182370.1有效
发明人：浦野年由;龟山泰弘;藤田理惠子;宫泽隆司;利光惠理子 -专利权人：三菱化学株式会社;日本合成化学工业株式会社
申请日： 2003-08-05 - 公布日： 2008-03-05 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对紫光区激光束高度敏感的紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
具有激光感光性抗蚀剂材料成像及其

[发明专利]光记录材料和光记录介质-CN200580005786.5无效
发明人： 宫泽隆司;久保秀之;长野秀树;太田宽纪 -专利权人：三菱化学株式会社;三菱化学媒体株式会社
申请日： 2005-02-25 - 公布日： 2007-02-28 - 主分类号： B41M5/26 文献下载
摘要：本发明提供了一种能够用短波长的蓝色激光进行记录和读取的高级别光记录材料。一种光记录材料，其包含最大吸收波长(λmax)不小于340nm且不大于440nm的有机染料化合物A和最大吸收波长(λmax)不小于500nm且不大于900nm的金属络合物B，有机染料化合物A的含量比金属络合物B的含量高，且用预定方法计算的耐光性x不小于30％。
记录材料介质

[发明专利]光学记录介质和染料-CN200480039147.6无效
发明人： 宫泽隆司;黑濑裕 -专利权人：三菱化学株式会社;三菱化学媒体股份有限公司
申请日： 2004-12-24 - 公布日： 2007-01-24 - 主分类号： B41M5/26 文献下载
摘要：本发明提供一种可通过短波长的激光束高密度记录或读取光学信息的光学记录介质。所述光学记录介质包括基板和形成于基板上的记录层，所述记录层通过光照射可记录或读取信息，其中，所述记录层含有以下通式(I)的7－氨基喹诺酮化合物。在通式(I)中，X是氧原子或硫原子，R₁是氢原子或可具有取代基的直链或支链烷基，R₆是可具有取代基的直链或支链烷基，n是1～4。
光学记录介质染料

[发明专利]具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料及其抗蚀剂成像法-CN03818746.9有效
发明人：浦野年由;龟山泰弘;藤田理惠子;宫泽隆司;利光惠理子 -专利权人：三菱化学株式会社
申请日： 2003-08-05 - 公布日： 2005-09-28 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对紫光区激光束高度敏感的紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
具有激光感光性抗蚀剂材料成像及其