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[发明专利]发光装置的制造方法以及发光装置-CN202180090012.6在审
发明人： 安达考洋;浅冈康 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2021-01-20 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明所涉及的发光装置的制造方法具备:发光元件形成工序，在基板上形成包含第一发光层的第一发光元件；以及第一发光层形成工序，形成从基板侧依次层叠下层反转抗蚀剂层、包含第一发光层的发光材料的发光材料层以及上层正抗蚀剂而成的层叠体(步骤S41～S43)，对该层叠体进行图案化(步骤S44～S45)，从而形成第一发光层。
发光装置制造方法以及

[发明专利]显示装置的制造方法以及显示装置-CN202080107595.4在审
发明人：浅冈康;佐久间惇;安达考洋 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2020-12-22 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： G09F9/30 文献下载
摘要：显示装置的制造方法包括：形成第一像素电极以及第二像素电极的工序a)；在所述第一像素电极之上形成第一发光层的工序b)；在所述第二像素电极以及所述第一发光层之上形成感光性树脂层的工序c)；对所述感光性树脂层图案化以形成感光性树脂图案的工序d)，该感光性树脂图案具备构成为构造物的构造物部分且形成有配置在所述第二像素电极之上的开口，所述构造物具有边缘盖部分以及像素边界部中的至少一方；在开口下部分以及所述感光性树脂图案之上形成发光材料层的工序e)，该开口下部分为所述第二像素电极的至少一部分且形成在所述开口之下；以及工序f)，在此工序中，残留所述构造物，并将作为所述感光性树脂图案的一部分的第一被剥离部分和作为所述发光材料层的一部分的第二被剥离部分剥离，以形成配置在所述第二像素电极之上的第二发光层。
显示装置制造方法以及

[发明专利]显示装置以及显示装置的制造方法-CN202080107927.9在审
发明人：浅冈康;喜田扇太郎;安达考洋 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2020-12-22 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： G09F9/00 文献下载
摘要：显示装置包括：基板二像素电极，配置在所述基板上，且具有第一部分以及配置在所述第一部分的外侧的第二部分，所述第一部分与所述第二部分相比在第二侧上更突出，所述第二侧与靠近所述基板的第一侧相反；发光层，配置为横跨所述第一部分的所述第二侧和所述第二部分的所述第二侧；第一边缘罩，配置为横跨所述第一部分的边缘部的所述第二侧和所述第二部分的所述第二侧，且在所述第一部分的中心部的所述第二侧形成有开口，并覆盖所述第一部分的边缘；以及对向电极，其具备在与所述第一边缘罩相比更靠所述第二侧配置的部分，所述对向电极隔着所述发光层与所述像素电极对向。
显示装置以及制造方法

[发明专利]发光元件的制造方法、发光元件-CN202080106506.4在审
发明人： 安达考洋;佐久间惇 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2020-12-03 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种发光元件的制造方法，包括:涂布包含第一量子点的第一量子点溶液来形成第一发光层的第一发光层形成工序；在所述第一发光层上涂布第一感光性树脂组合物来形成第一抗蚀层的第一抗蚀层形成工序；以规定的图案对所述第一抗蚀层进行曝光的曝光工序；以及用显影液对所述第一抗蚀层进行显影来形成图案化的第一抗蚀层，以所述图案化的第一抗蚀层作为掩模，利用处理液对所述第一发光层进行处理来形成图案化的第一发光层的图案化形成工序。
发光元件制造方法

[发明专利]含有量子点的水溶液的处理方法-CN202180028126.8在审
发明人：池田有佑;香村胜一;内海夕香;浅冈康;安达考洋 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2021-03-22 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C02F1/62 文献下载
摘要：提供一种能够更简便地浓缩量子点的含有量子点的水溶液的处理方法。含有量子点的水溶液的处理方法包括：溶解液获取工序，使季铵盐和钾盐溶解于含有量子点的水溶液中，得到溶解液；相分离工序，对所述溶解液进行加热，使其分离成含有较多所述季铵盐的季铵盐相和含有较多所述钾盐的钾盐相的两相，并且使所述量子点包含于所述季铵盐相或所述钾盐相中的任一相中；以及分取工序，对所述季铵盐相和所述钾盐相进行分取。
含有量子水溶液处理方法