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[发明专利]用于提供液化材料的设备、用于配量液化材料的配量系统及方法-CN202180089459.1在审
发明人： 安德里亚斯·索尔;沃尔克·哈克;托马斯·德皮希;拉尔夫·施奈德 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：提供了一种蒸气沉积设备。蒸气沉积设备包括用于提供液化材料的罐、具有可变第一容积的第一单元，所述第一单元包括第一致动器并且包括与罐流体连通的第一管线。此外，蒸气沉积设备包括具有可变第二容积的第二单元，所述第二单元包括第二致动器并且包括与罐流体连通的第二管线。蒸气沉积设备包括蒸发布置，所述蒸发布置与第一单元和第二单元流体连通。第一致动器及第二致动器经配置以交替地向可变第一容积和可变第二容积提供力，用于将液化材料提供给蒸发布置。
用于提供液化材料设备系统方法

[发明专利]用于密封真空腔室的装置、真空处理系统、及监测装载锁定密封件的方法-CN202180067930.7在审
发明人：马修·迪恩·艾利森;安德里亚斯·索尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-09-22 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：描述了一种用于密封真空腔室的装置，该真空腔室提供第一容积。该装置包括在第一容积与第二容积之间提供流体连通的中间容积、用于密封与第一容积相关联的第一导管并将第一容积与中间容积进行密封的第一密封件、用于密封与第二容积相关联的第二导管并将第二容积与中间容积进行密封的第二密封件、及提供通向中间容积的第一流体路径的第三导管。
用于密封空腔装置真空处理系统监测装载锁定密封件方法

[发明专利]在真空系统中处理掩模的方法、和真空系统-CN201880093518.0有效
发明人：塞巴斯蒂安·巩特尔·臧;斯蒂芬·班格特;栗田真一;于尔根·亨里奇;安德里亚斯·索尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-05-29 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：描述一种在真空系统中处理掩模的方法。所述方法包括(a)在真空系统中沿着传送路径以非水平定向(V)传送运载第一掩模(11)的掩模载体(10)；(b)将运载第一掩模(11)的掩模载体(10)的定向从非水平定向(V)改变为基本上水平的定向(H)；和(c)从在真空系统中以基本上水平定向(H)布置的掩模载体(10)卸载第一掩模(11)。根据另外的方面，描述一种真空系统，包括掩模处理模块，所述掩模处理模块用于处理掩模。(图1C)。
真空系统处理方法

[发明专利]用于在真空中连续处理柔性基板的设备及其方法-CN201680085819.X有效
发明人： 安德里亚斯·索尔;巩特尔·格伯;斯蒂芬·海因;雷纳·德穆斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-05-18 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： B41F31/02 文献下载
摘要：提供一种用于在真空中连续处理柔性基板的设备(100)。所述设备包括处理辊(110)；具有在处理辊(110)的轴方向中延伸的刮刀(121)的刮刀组件(120)；和经配置而用于使刮刀组件(120)朝向处理辊(110)的表面(111)移动的力传递组件(130)。力传递组件(130)包括用于施加力在刮刀组件(120)上的压力单元(131)和用于施加反力在刮刀组件(120)上的反压力单元(132)。
用于空中连续处理柔性设备及其方法

[发明专利]处理大面积基板的材料沉积设备、真空沉积系统和方法-CN201880098048.7在审
发明人：斯蒂芬·班格特;于尔根·亨里奇;安德里亚斯·索尔;马蒂亚斯·赫曼尼斯;塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-10-22 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：描述了用于在真空腔室中的基板上沉积材料的材料沉积设备。所述材料沉积设备包括：掩模台，所述掩模台被配置为支撑具有掩模框架和掩模的掩模组件；基板传输轨道，所述基板传输轨道的至少一部分提供于真空腔室中，所述基板传输轨道被配置为支撑基板载体；保持装置，所述保持装置耦接至所述掩模台且被配置为用于将所述掩模组件沿基本上垂直的定向转移至所述掩模台上；和对准组件，所述对准组件具有两个或更多个对准致动器，所述对准组件耦接至所述掩模台且被配置为耦接至所述基板载体以使所述基板载体和所述掩模组件相对于彼此移动。
处理大面积材料沉积设备真空系统方法

[发明专利]材料沉积设备、真空沉积系统及用以处理大面积基板的方法-CN201880096334.X在审
发明人：斯蒂芬·班格特;于尔根·亨里奇;安德里亚斯·索尔;马蒂亚斯·赫曼尼斯;塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-08-07 - 公布日： 2021-03-19 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：说明了一种用以在真空腔室中沉积材料于基板上的材料沉积设备。这种材料沉积设备包括掩模传送轨道，掩模传送轨道的至少一部份设置于真空腔室中，掩模传送轨道经装配以支撑掩模载体来支承掩模组件，掩模组件具有掩模框架及掩模；掩模平台，经装配以支撑掩模组件；以及支承装置，耦接于掩模平台，及经装配以用于基本上垂直定向的掩模组件的移交或传送。
材料沉积设备真空系统用以处理大面积方法

[发明专利]用于基板的真空处理的设备、用于具有有机材料的装置的制造的系统、和用以密封连接两个压力区域的开口的方法-CN201780004102.2有效
发明人：塞巴斯蒂安·巩特尔·臧;安德里亚斯·索尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-03-17 - 公布日： 2021-01-15 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本公开内容提供一种用于基板(10)的真空处理的设备(100)。此设备(100)包括第一压力区域(110)、第二压力区域(120)、位于第一压力区域(110)与第二压力区域(120)之间的开口(130)、和用以关闭开口(130)的关闭配置(140)。关闭配置包括一或多个第一永久磁铁、一或多个第二永久磁铁、和磁铁装置，磁铁装置装配以改变一或多个第一永久磁铁的磁化。
用于真空处理设备具有有机材料装置制造系统用以密封连接两个压力区域

[发明专利]膜形成设备-CN201580085470.5有效
发明人： 安德里亚斯·索尔;安拉贝拉·霍夫曼 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-12-21 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：描述一种用于处理基板上的薄膜的设备。所述设备包括：真空腔室，所述真空腔室包括外壳、后壁和可移除闭合板；处理滚筒，所述处理滚筒在真空腔室内布置在后壁与可移除闭合板之间，所述处理滚筒至少部分地被处理区域包围；第一工艺分隔壁部分，所述第一工艺分隔壁部分附接到可移除闭合板；以及第二工艺分隔壁部分，所述第二工艺分隔壁部分附接到外壳或后壁；其中在可移除闭合板的闭合位置中，第一工艺分隔壁部分和第二工艺分隔壁部分共同提供工艺分隔壁，所述工艺分隔壁将处理区域分成相邻的处理区段。
形成设备

[发明专利]用于支撑基板的基板载体、掩模夹持设备、真空处理系统和操作基板载体的方法-CN201780051374.8在审
发明人： 安德里亚斯·索尔;迈克尔·雷纳·舒尔特海斯;沃尔夫冈·布什贝克;安德里亚斯·勒普;马蒂亚斯·赫曼尼斯;塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-11-23 - 公布日： 2019-07-30 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本公开内容提供了根据独立权利要求的一种用于在真空腔室中支撑基板的基板载体、一种掩模夹持设备、一种真空处理系统和一种用于操作电永磁体元件的方法。根据本公开内容的一个方面，提供了一种用于在真空腔室中支撑基板的基板载体。所述基板载体包括电永磁体元件，其中所述电永磁体元件被配置为用于向掩模施加磁保持力。根据本公开内容的另一方面，提供了一种真空处理系统。所述真空处理系统包括真空处理腔室，所述真空处理腔室具有根据本公开内容的其它方面的至少一个基板载体或掩模夹持设备。根据本公开内容的另一方面，提供了一种用于在包括电永磁体元件的系统中操作电永磁体元件的方法。所述方法包括：在由所述基板载体支撑的基板的表面上提供掩模载体；通过施加电磁体的电流将所述电永磁体元件从非磁化状态切换到磁化状态；以及移除所述电流。
基板载体永磁体真空处理系统掩模夹基板真空处理腔室真空腔室中支撑掩模施加非磁化状态操作基板磁保持力磁化状态内容提供支撑基板电磁体移除配置支撑

[发明专利]材料沉积布置、真空沉积系统及其方法-CN201780037431.7在审
发明人：安拉贝拉·霍夫曼;安德里亚斯·索尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-09-26 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：描述了一种用于在真空沉积腔室中在基板上沉积材料的材料沉积布置。所述材料沉积布置包括：第一沉积源，所述第一沉积源具有一个或多个第一开口；第二沉积源，所述第二沉积源具有一个或多个第二开口；和挡板布置，所述挡板布置具有至少第一挡板，所述第一挡板被构造为以一定角度至所述一个或多个第一开口、至所述一个或多个第二开口以及至第一停放位置是可移动的。
沉积源材料沉积开口挡板第一挡板真空沉积腔室真空沉积系统沉积材料方法描述停放位置可移动基板

[发明专利]用于柔性基板的载体-CN201580084295.8在审
发明人：斯蒂芬·海因;巩特尔·格伯;安德里亚斯·索尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-11-20 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本公开内容提供了一种用于在真空处理腔室中支撑柔性基板(10)的设备(100)。设备(100)包括：涂布滚筒，所述涂布滚筒可围绕旋转轴线(105)旋转，其中涂布滚筒具有支撑表面(110)，所述支撑表面(110)经构造以用于支撑柔性基板(10)，其中支撑表面(110)是关于旋转轴线(105)对称的，并且其中在垂直于旋转轴线(105)的方向上在旋转轴线(105)与支撑表面(110)的中心部分(112)之间的第一距离(120)小于在旋转轴线(105)与支撑表面(110)的周边(114、116)之间的第二距离(122)。
旋转轴线支撑表面柔性基板涂布滚筒真空处理腔室内容提供中支撑对称垂直支撑

[发明专利]用于适应处理期间出现的热梯度的托盘-CN201110343175.9无效
发明人：安娜玛丽·弗洛克;苏珊娜·施拉费尔;安德里亚斯·索尔;乔塞夫·赫夫漫;托拜西·伯格曼 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-10-27 - 公布日： 2013-05-08 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：一种适应处理期间的热梯度的托盘。在一个方面，托盘包括一对细长部件、固定耦连到每个细长部件的固定式细长横向部件，和浮动耦连到细长部件的细长浮动式横向部件。所述浮动式横向部件偏离所述固定耦连的横向部件，以在两者间限定间隙。
用于适应处理期间出现梯度托盘

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