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[发明专利]用于牙科模型的牙桩、牙科模型及其生产方法-CN201980027187.5有效
发明人： 安德烈亚斯·舒尔特海斯;安德烈亚斯·盖特纳;马库斯·克劳泽;丹尼尔·勒克尔;马克西米利安·萨特勒;索伦·迪茨 -专利权人：瑞派德夏博有限公司;斯特鲁曼控股有限公司
申请日： 2019-04-18 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： A61C13/36 文献下载
摘要：为改进牙科模型的牙桩，牙科模型包括至少一个牙齿和用于至少部分地接纳牙桩的至少一个牙桩容纳部，牙桩包括人类或动物牙齿形式的牙齿部和联接部，联接部限定联接部纵向轴线以在联接位置中与牙科模型的至少一个牙桩容纳部力锁定和/或形状锁定接合，牙桩包括定位装置以在联接位置中将牙桩限定空间定位在牙桩容纳部中，使得改进牙桩在牙科模型的牙桩容纳部中的配合精度，提出定位装置包括形成在联接部上的至少一个定位元件，并且至少一个定位元件能抵抗恢复装置的作用从基本位置偏转到保持位置中，保持位置朝向或离开联接部纵向轴线移位或大致朝向或离开联接部纵向轴线移位。还提出改进的牙科模型和生产牙桩和牙科模型的改进方法。
用于牙科模型及其生产方法

[发明专利]用于清洁三维物体的方法和清洁系统-CN202080014775.8在审
发明人： 安德烈亚斯·舒尔特海斯;安德烈亚斯·盖特纳 -专利权人：瑞派德夏博有限公司
申请日： 2020-02-14 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： B29C64/165 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于清洁至少一个三维物体的清洁系统，该三维物体通过固化在辐射作用下可固化的材料来特别是逐层或连续地形成，该清洁系统包括清洁室，以接收待清洁的至少一个三维物体，其中，清洁系统包括含有未受污染的清洁剂的至少一个清洁剂容器，其中，清洁室和至少一个清洁剂容器彼此流体连接，其中，清洁系统包括至少一个输送装置，用于将未受污染的清洁剂从至少一个清洁剂容器输送到清洁室，并用于将受污染的清洁剂从清洁室输送回至少一个清洁剂容器。也提出了一种用于清洁至少一个三维物体的方法。
用于清洁三维物体方法系统

[发明专利]用于生产三维物体的设备-CN202080014776.2在审
发明人： 安德烈亚斯·舒尔特海斯;安德烈亚斯·盖特纳 -专利权人：瑞派德夏博有限公司
申请日： 2020-02-14 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： B29C64/379 文献下载
摘要：为了能够改进用于特别是通过逐层或连续地固化可通过辐射固化的材料来生产三维物体的设备，该设备包括载体装置，该载体装置用于保持已固化的三维物体，使得三维物体的生产更容易，提出使该设备包括脱离装置，该脱离装置用于使被保持在所述载体装置上的三维物体自动脱离。
用于生产三维物体设备

[发明专利]用于制造三维物体的系统和方法-CN201880007297.0在审
发明人： 安德烈亚斯·舒尔特海斯;安德烈亚斯·盖特纳 -专利权人：舒尔特海斯有限公司
申请日： 2018-01-17 - 公布日： 2019-10-18 - 主分类号： B29C64/245 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于通过尤其是逐层地或连续地将能在辐射作用下固化的材料固化来制造三维物体的系统，该系统包括用于通过尤其是逐层地或连续地将能在辐射作用下固化的材料固化来制造三维物体的设备，该系统包括用于保持由能固化的材料固化而成的三维物体的载体装置，为了改进该系统使得能够高精度地构造出三维物体而提出：一方面的载体装置和/或其一部分和另一方面的设备构造成能彼此以能脱开的方式连接，尤其是以便在构造出固化的三维物体之后分离。此外，本发明还涉及一种用于制造三维物体的改进的方法。
三维物体固化材料固化载体装置制造辐射脱开改进

[发明专利]制造三维物体的方法和装置以及曝光掩膜生成设备-CN201480045527.4有效
发明人：亨德里克·约翰;安德烈亚斯·舒尔特海斯 -专利权人：舒尔特海斯有限公司
申请日： 2014-07-16 - 公布日： 2019-01-08 - 主分类号： B29C64/124 文献下载
摘要：为了改进通过使用曝光掩膜(28)逐层固化能够在辐射(14)的作用下固化的材料(16)来制造三维物体(12)的方法，其中，为了在构造平面(22)中形成所述物体(12)的每个待固化的物体层(62)，生成至少一个、优选单个数字曝光掩膜，辐射借助于该曝光掩膜被选择性地投影到所述构造平面(22)上，使得三维物体的制造能够更容易且更快地进行，提出：取决于所述待固化的物体层(62)，为每个曝光掩膜计算出单一2位位图(30)，该2位位图要么将“透射”位值(32)要么将“非透射”位值(34)分配给所述曝光掩膜的每个像素，所述“透射”位值被分配给所述2位位图的具有小于限制结构尺寸(66b，66c)的结构尺寸的每一个表面区域(66a)，并且曝光纹理(52)被分配给大于所述限制结构尺寸的至少一个表面区域，所述曝光纹理(52)以具有“透射”和“非透射”位值的像素构成的图案的形式构造。此外，提出了改进的曝光掩膜生成设备(26)以及用来制造三维物体的改进装置(10)。
制造三维物体方法装置以及曝光生成设备