专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]单层二硒化钨及其制备方法-CN202210950095.8在审
  • 安博星;肖永厚;李玉善;刘旭;梁正奇 - 大连理工大学盘锦产业技术研究院
  • 2022-08-09 - 2022-12-20 - C23C16/30
  • 本发明公开了一种单层二硒化钨及其制备方法,该方法包括:(1)将钨源和分散剂进行混合;(2)将衬底进行预处理;(3)将前驱体溶液均匀旋涂至预处理后的衬底并烘干;(4)将钨源均匀分散的衬底放入管式炉中的第一石英舟,将硒源放入管式炉中的第二石英舟;(5)将第一石英舟和第二石英舟进行控温反应,以便得到单层二硒化钨。由此,该方法可有效控制晶核空间位置的分布,工艺简单,重复性好,适合大规模生产,为二维材料领域中大尺寸晶体材料的制备工作提供了新的思路。此外,该方法制备得到的单层二硒化钨横向尺寸均匀,组分均匀,可以进一步应用于光学、电学等方面的性能研究。
  • 单层二硒化钨及其制备方法
  • [发明专利]一种单层MoS2-CN201911084034.2在审
  • 张永哲;李毓佛;陈永锋;王佳蕊;安博星;马洋;严辉 - 北京工业大学
  • 2019-11-07 - 2020-02-18 - H01L29/225
  • 一种单层MoS2‑WS2横向异质结的制备方法,属于纳米材料生长领域。对选择的前驱体源进行电化学氧化处理,实现对应钼、钨两种金属的前驱体源在不同温度挥发,通过化学气相沉积法一步制备微米级清晰界面的横向异质结。本发明生长横向异质结的方法是,在可精确控温的管式炉中,使用惰性气体作为反应源(钼源、钨源和硫源)的输运气体,控制发生不同的化学气相沉积反应形成横向异质结。本发明制备的单层MoS2‑WS2横向异质结,具有微米级清晰的异质结分界线,横向尺寸可达到一百微米以上。该方法生长过程可控性高,能够有效的扩宽生长温度窗口,降低生长温度,实现尺寸、界面可控生长。
  • 一种单层mosbasesub

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