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[发明专利]透明导电膜的修复和再生方法及透明导电层积体-CN201510109016.0有效
发明人： 大堀达也;久留岛康功;常田义真 -专利权人：长濑化成株式会社
申请日： 2015-03-12 - 公布日： 2020-08-18 - 主分类号： H01B5/14 文献下载
摘要：本发明提供透明导电膜的修复和再生方法及透明导电层积体，提供在透明导电膜中存在一定范围的全长的膜缺陷时将膜缺陷部不可见化而将透明导电膜修复和再生的方法。还提供具备通过该方法进行了修复和再生的透明导电膜的透明导电层积体。本发明涉及透明导电膜的修复和再生方法，该方法的特征在于，包括在透明导电膜上的凹部层积透明树脂层的工序，透明导电膜通过涂布含有导电材料的透明导电膜形成用组合物而形成，其配置于基材的至少一个面上，凹部为选自由起因于基材形状的凹陷、存在于透明导电膜的损伤或缺损、将存在于透明导电膜的异物除去而形成的凹陷、以及对存在于透明导电膜的缺损加压而形成的凹陷组成的组中的至少一种，凹部的全长为10～300μm。
透明导电修复再生方法层积

[发明专利]导电性树脂组合物和透明导电层积体-CN201410645158.4有效
发明人： 大堀达也;久留岛康功;长谷川贵志;樱井隆裕 -专利权人：长濑化成株式会社
申请日： 2014-11-12 - 公布日： 2019-04-05 - 主分类号： C08L65/00 文献下载
摘要：本发明提供导电性树脂组合物和透明导电层积体，提供一种适合于形成外观良好且透明性也优异的透明导电膜的导电性树脂组合物。一种导电性树脂组合物，其含有(A)导电性聚合物、(B)导电性提高剂、(C)粘结剂以及(D)增稠剂，该组合物在25℃下的粘度为50～8000dPa·s，相对于(A)导电性聚合物的固体成分100重量份，(D)增稠剂的含量小于200重量份。
导电性树脂组合物导电性聚合物透明导电层增稠剂重量份积体导电性透明导电膜粘结剂

[发明专利]导电性纤维结构物、电极部件及导电性纤维结构物的制造方法-CN201780023879.3在审
发明人：长井典子;竹田惠司;川上润;永田裕;大堀达也 -专利权人：东丽株式会社;长濑化成株式会社
申请日： 2017-03-30 - 公布日： 2018-12-21 - 主分类号： D06M15/63 文献下载
摘要：本发明提供反复洗涤后仍能够保持高的导电性、并且也可适用于生物体信号获取电极的导电性纤维结构物。本发明的导电性纤维结构物由包含导电性高分子的织物等构成。上述导电性纤维结构物的特征在于，包含上述导电性高分子的导电性树脂载带于构成纤维结构物的单纤维与单纤维的间隙，观察上述纤维结构物的厚度方向的截面时，存在于距表层15～30μm的区域的上述导电性树脂的面积比率为15％以上。
导电性纤维结构物导电性高分子导电性树脂纤维结构物单纤维导电性生物体信号电极部件反复洗涤面积比率电极载带观察制造

[发明专利]透明导电体、液晶显示装置和透明导电体的制造方法-CN201580042371.9在审
发明人： 大堀达也;久留岛康功;常田义真 -专利权人：长濑化成株式会社
申请日： 2015-08-06 - 公布日： 2017-04-19 - 主分类号： G02F1/1333 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种透明导电体，其可以容易地以均匀的厚度形成导电层，并且在生产率及制造成本的方面优异。本发明的透明导电体是在经研磨处理的玻璃基材的至少一个面依次层积有粘合层、偏振层和导电层的透明导电体，导电层使用包含导电性高分子的涂布组合物来形成，表面电阻率为102Ω/□～105Ω/□。
透明导电液晶显示装置制造方法

[发明专利]油墨用组合物和透明电极-CN201510069764.0在审
发明人： 大堀达也;久留岛康功;樱井隆裕 -专利权人：长濑化成株式会社
申请日： 2015-02-10 - 公布日： 2015-08-12 - 主分类号： C09D11/52 文献下载
摘要：本发明涉及油墨用组合物和透明电极，课题在于提供一种油墨用组合物，其即使在用于凹版胶印或移印的情况下也可以得到膜厚较厚、表面电阻率低的透明导电膜，而且印刷性优异。一种油墨用组合物，其特征在于，其为含有(A)导电性高分子、(B)粘结剂和(C)导电性提高剂的组合物，该油墨用组合物的在25℃的粘度为5dPa·s～500dPa·s，固体成分比例为10重量％～80重量％，以湿膜厚15μm进行了涂布时的表面电阻率为2000Ω/□以下且全光线透过率为70％以上。
油墨组合透明电极

[发明专利]气相生长装置-CN200610128672.6无效
发明人： 大堀达也;椎名一成;家近泰;须田升;高松勇吉;石滨义康;米山岳夫;小宫由直 -专利权人：日本派欧尼株式会社
申请日： 2006-09-04 - 公布日： 2007-03-14 - 主分类号： C23C16/30 文献下载
摘要：本发明提供一种气相生长装置，其中，即使在采用氮化镓系化合物半导体这样的在高温下腐蚀性高的气体进行气相生长反应的情况下，也不会对半导体膜的品质造成不利影响，可抑制加热器的断线等，可形成长期稳定的膜。一种气相生长装置，该气相生长装置包括用于放置基板的基座；对该基板进行加热的加热器；原料气体导入部，该原料气体导入部将原料气体供给该基板；以及反应气体排出部，在该加热器和基板的放置位置之间，具有通过支承部件保持或增强的光透过性陶瓷板。
相生装置