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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]EL器件的制造方法-CN201210278171.1无效
发明人： 唐木哲也 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2012-08-07 - 公布日： 2013-03-06 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明公开了EL器件的制造方法。提供了在基板上以矩阵形式排列的多个区段中的每一个中形成的EL器件的制造方法，该方法包括以下的步骤：通过保持于基板和与基板相对的蒸镀源之间的掩模将蒸镀物沉积于基板上，该掩模具有沿列方向的所有区段的沉积图案作为开口，其中，在一次一列地沿区段的行方向移动基板的同时重复该步骤。
el 器件制造方法

[发明专利]用于制造有机电致发光显示设备的方法-CN201080021158.7无效
发明人：盐崎笃志;三村敏彦;海部纪之;大矢克典;唐木哲也 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2010-05-13 - 公布日： 2012-04-25 - 主分类号： H05B33/10 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于制造有机电致发光显示设备的方法，所述有机电致发光显示设备包括衬底和多个像素，每个像素包括两种或更多种类型的子像素，所述像素被布置在所述衬底的显示区域中，并且在子像素之中，一种类型的子像素为以一定的间隔设置的指定子像素。通过使用在与从显示区域的侧端起计数的第(2n-1)个指定子像素对应的位置处具有开口的掩模选择性地形成从显示区域的侧端起计数的第(2n-1)个指定子像素(其中n表示1或更大的整数)、并且使用在与从侧端起计数的第(2n)个指定子像素对应的位置处具有开口的掩模选择性地形成从侧端起计数的第(2n)个指定子像素，来形成所述指定子像素。
用于制造有机电致发光显示设备方法

[发明专利]成膜掩模-CN201110230279.9有效
发明人： 唐木哲也 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2011-08-12 - 公布日： 2012-03-14 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及成膜掩模。本发明提供了能够防止缝隙状开口由于振动而闭塞的成膜掩模，从而稳定地形成高精细的图形化的膜。在通过在金属箔中设置多个缝隙状开口而形成的成膜掩模中，缝隙状开口的至少一个端部的开口的形状关于缝隙状开口的宽度方向的中心线不对称。
成膜掩模

[发明专利]蒸发设备-CN201110083128.5无效
发明人：中川善之;吉田正典;増田正道;大山淳史;小金井昭雄;宫町尚利;山口裕人;唐木哲也;浮贺谷信贵;吉川俊明 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2011-04-02 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及蒸发设备，该蒸发设备减少掩模的变形、提高基板与蒸发掩模之间的附着性并且提高划分要形成膜的区域和不形成膜的区域的精度。该蒸发设备包括用于使设置在包括磁材料的蒸发掩模上的膜形成基板压靠蒸发掩模的施压机构。该施压机构包括用于将掩模至少吸引向膜形成基板的角部的磁体。
蒸发设备

[发明专利]电照相设备-CN95120234.0无效
发明人：江原俊幸;山崎晃司;唐木哲也 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 1995-12-07 - 公布日： 1996-10-09 - 主分类号： G03G15/00 文献下载
摘要：本发明提供一种电照相设备，它包括一个能够在其上承载调色剂的感光元件，一个用于在感光元件上形成潜影的潜影形成装置，一个用于把潜影用调色剂显影成调色剂影象的显影装置；一个用于把在感光元件上形成的调色剂影象在某一转印位置转移到转印材料上的转印装置，一个用于在感光元件的一个表面通过转印位置以后从该表面收集调色剂的收集装置，和一个调色剂输送装置。
照相设备

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共 5 条

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