专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]气爆贴膜模具、气爆贴膜系统和使用其进行贴膜的方法-CN201911354463.7有效
  • 柯志强;吴献明;李维超;陈志斌 - 深圳市万普拉斯科技有限公司
  • 2019-12-25 - 2022-11-15 - B29C63/02
  • 本发明提供了一种气爆贴膜模具、气爆贴膜系统和使用其进行贴膜的方法。气爆贴膜模具,包括上模和下模。气爆贴膜系统包括气爆贴膜模具和用于承载膜片的承载膜。气爆贴膜方法:将贴膜对象、贴有膜片的承载膜与气爆贴膜模具检测定位后合模;通过第一通孔抽真空使承载膜和膜片贴附在上模的下表面;加热贴膜对象、承载膜和膜片,通过第二通孔和第三通孔抽真空、通过第一通孔吹气并保压,使得膜片贴合在贴膜对象的内表面、承载膜贴合在阶梯状凹坑的表面;停止通过第一通孔吹气并待膜片完全贴合后停止加热和抽真空,然后去除承载膜。本申请提供的气爆贴膜模具、气爆贴膜系统和气爆贴膜方法可以有效解决气泡、溢胶等贴膜问题。
  • 气爆贴膜模具系统使用进行方法
  • [发明专利]陶瓷件及其制备方法和电子设备-CN202110894913.2有效
  • 吴献明;滕双双 - OPPO广东移动通信有限公司
  • 2021-08-04 - 2022-05-13 - B32B15/04
  • 本申请提供了一种陶瓷件,所述陶瓷件包括层叠设置的聚合物陶瓷层、打底层和镀膜层,所述打底层的材质包括硅和金属中的至少一种。该陶瓷件采用聚合物陶瓷层,使得陶瓷件既具有陶瓷质感,同时又减轻了陶瓷件的质量,并且还具有镀膜层,进一步改善了陶瓷件的视觉效果,同时在聚合物陶瓷层和镀膜层之间设置打底层,提高了聚合物陶瓷层和镀膜层之间的结合力,保证了陶瓷件整体结构的长期稳定性和使用寿命,有利于其在电子设备中的应用。本申请还提供了陶瓷件的制备方法和电子设备。
  • 陶瓷及其制备方法电子设备
  • [发明专利]壳体及其制作方法、电子设备-CN202210178709.5在审
  • 成乐;吴献明 - OPPO广东移动通信有限公司
  • 2022-02-25 - 2022-04-29 - H05K5/02
  • 本申请提供了一种壳体及其制作方法、电子设备,壳体包括:基材、底色层、颜色层以及外观层;底色层设于基材的一侧;颜色层设于底色层背离基材的一侧;外观层设于颜色层背离基材的一侧;其中,通过堆叠于颜色层上的若干油墨颗粒形成一体结构的外观层,外观层背离颜色层的表面呈波浪型起伏形态。本申请实施例提供的壳体,通过颜色层与底色层相互配合以形成丰富饱满的外观色彩效果;并通过设置外观层的表面呈波浪型起伏形态使得壳体可以实现颗粒的闪光效果以及爽滑的磨砂感;另外,通过堆叠于颜色层上的若干油墨颗粒形成一体结构的外观层,可以避免壳体表面出现肥边以及棱线不清晰等不良现象。
  • 壳体及其制作方法电子设备
  • [发明专利]镭雕方法-CN201910371220.8有效
  • 吴献明;陈志斌 - 深圳市万普拉斯科技有限公司
  • 2019-05-06 - 2021-12-07 - B23K26/362
  • 本发明涉及一种镭雕方法,应用于表面具有PVD膜层的待加工件,所述方法包括:提确认所述待加工件的镭雕区域,所述待加工件包括第一材料和第二材料,所述镭雕区域位于所述第一材料;调节激光器的激光参数,以使激光对所述第一材料表面的膜层有作用力而对所述第二材料表面的膜层无作用力;根据所述激光参数,所述激光器对所述镭雕区域进行激光镭雕,以去除所述镭雕区域表面的膜层。上述镭雕方法,通过调节激光参数,使得激光只对第一材料表面的膜层有作用力而对第二材料表面的膜层无作用力,进而激光只与第一材料表面的膜层发生反应以去除第一材料上镭雕区域表面的膜层。对遮蔽治具以及遮蔽技术要求不高,可以降低设备成本。
  • 方法
  • [发明专利]一种镀膜治具、镀膜设备及镀膜方法-CN201911293000.4在审
  • 吴献明;陈志斌 - 深圳市万普拉斯科技有限公司
  • 2019-12-16 - 2021-07-02 - C23C14/50
  • 本发明公开了一种镀膜治具、镀膜设备及镀膜方法,涉及玻璃镀膜技术领域。所述镀膜设备包括真空室、偏压电源及镀膜治具,所述镀膜治具包括金属本体,所述金属本体上设有仿形凹坑,所述仿形凹坑的内壁与镀膜工件的镀膜面相契合;真空室内设有工件架及靶源,所述镀膜治具连接于所述工件架,所述靶源正对所述镀膜治具;所述工件架连接所述偏压电源的其中一个电极,所述靶源接地或者连接偏压电源的另一个电极。本发明在镀膜时,镀膜工件的紧贴在仿形凹坑的内壁上,通入偏压电源后,能在镀膜工件的镀膜面上形成各处均匀的电场,膜层物质在电场作用下沉积在镀膜面上,最终形成各处厚度均匀的光学膜。本发明还提供了一种镀膜方法。
  • 一种镀膜设备方法
  • [发明专利]实现壳体表面纹理的方法及终端-CN201710526878.2有效
  • 吴献明;魏美贤 - 捷开通讯(深圳)有限公司
  • 2017-06-30 - 2021-05-04 - H05K5/02
  • 本发明公开了一种实现壳体表面纹理的方法,该方法包括:提供一壳体;采用激光镭雕在所述壳体一侧形成具有细孔和/或凹槽的纹理图案;在所述壳体的具有所述纹理图案一侧形成膜层。以上方案采用激光镭雕在壳体面向用户一侧形成具有细孔和/或凹槽的纹理图案,并在此基础上于外壳具有纹理图案一侧形成膜层,使金属外壳具有纹理效果,并且无需通过腐蚀、氧化等工艺,对金属材质没有要求。本发明还提供了一种具有如上所述壳体及膜层的终端。
  • 实现壳体表面纹理方法终端

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