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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种正性光刻胶组合物-CN202211201671.5在审
发明人： 吴世泰;韩冬 -专利权人：天津汉匠科技发展有限公司
申请日： 2022-09-29 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了一种正性光刻胶组合物，该组合物是按质量比为10‑30：100的比例，由固体成分和有机溶剂组成，所述固体成分由重量百分含量为65％‑80％的成膜树脂、19％‑30％的光敏剂和0.001％‑5％表面活性剂组成。本发明的正性光刻胶组合物，应用于现有的曝光设备以及光刻工序(涂胶，曝光和显影)，可以避免在光刻工艺中产生镜头缺陷。
一种光刻组合

[发明专利]可用于平板显示器制造工艺的化学放大型光致抗蚀组合物-CN202211202716.0在审
发明人： 吴世泰;韩冬 -专利权人：天津汉匠科技发展有限公司
申请日： 2022-09-29 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了可用于平板显示器制造工艺的化学放大型光致抗蚀组合物，该组合物由质量比为10‑30：100的固体成分和有机溶剂组成，所述固体成分包括成膜树脂、光敏剂和表面活性剂；与现有的PAC TYPE PHOTORESIST(光敏剂类型光刻胶)相比分辨率更高，可以制作出更精密的图形(pattern)，可以制作出更精密的面板。
用于平板显示器制造工艺化学大型光致抗蚀组合

[发明专利]光刻胶树脂、及利用其形成图案的方法和制造显示面板的方法-CN200910134442.4有效
发明人：朴廷敏;郑斗喜;李政洙;李羲国;吴世泰;姜德万;崔宰荣 -专利权人：三星电子株式会社;AZ电子材料(日本)株式会社
申请日： 2009-04-14 - 公布日： 2009-10-21 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶树脂组合物、用于形成图案的方法、以及使用该光刻胶树脂组合物制造显示面板的方法。该光刻胶树脂组合物包括碱溶性树脂、光刻胶化合物和溶剂，其中碱溶性树脂包括由上面化学式1表示的第一聚合物树脂，其中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅和R₆中的至少一个是羟基，至少两个是甲基且其余的任意基团是氢，而R₇、R₈、R₉、R₁₀和R₁₁中的至少一个是羟基，至少两个是甲基且其余的任意基团是氢。
光刻树脂利用形成图案方法制造显示面板

[发明专利]抗蚀剂组合物以及用于除去抗蚀剂的有机溶剂-CN200480010756.9有效
发明人：姜德万;吴世泰;权赫重;内藤荣治 -专利权人： AZ电子材料(日本)株式会社
申请日： 2004-04-23 - 公布日： 2006-05-24 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供了一种包含苯甲醇或其衍生物作为有机溶剂的抗蚀剂组合物。本发明还提供了一种用于除去抗蚀剂的有机溶剂，其中该有机溶剂包含苯甲醇或其衍生物。利用由UV射线辐射的辐射部分和非辐射部分之间的溶解度差异，本发明的抗蚀剂组合物被应用于形成微图案的平版印刷工艺中在涂布薄膜的时候极大地改进薄膜厚度的均匀度。此外，通过从装置上除去光敏材料，根据本发明的有机溶剂可以用来清洗在微电路形成过程中与光敏材料接触的装置。其还可以除去残留在光敏材料所涂布的基底的不希望部分上的光敏材料。
抗蚀剂组合以及用于除去有机溶剂

[发明专利]一种用于正性或负性光刻胶的清洗剂组合物-CN03802089.0无效
发明人： 吴世泰;姜德万;崔景洙 -专利权人：克拉瑞特国际有限公司
申请日： 2003-01-09 - 公布日： 2005-05-11 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于清洗光刻胶的组合物并提供一种清洗组合物，其中，含颜料的负性光刻胶在经清洗、温和烘干、曝光和显影之后，在所述清洗区域与未清洗区域之间的边界面上不存在所述光刻胶残余物。本发明提供一种用于清洗正性或负性光刻胶的组合物，包括：(a)0.1－20wt％的分子量为50－2000的烷基醚聚合物；和(b)80－99.9wt％的一种有机溶剂，包括(b－1)1－20重量份的二丙二醇甲基醚(DPGME)、10－50重量份的N－甲基吡咯烷酮(NMP)和50－90重量份的甲基异丁基酮(MIBK)，或(b－2)10－90重量份的二甲基甲酰胺(DMF)或二甲基乙酰胺(DMAc)和10－50重量份的正丁基乙酸酯。
一种用于光刻洗剂组合

[发明专利]一种生产真丝记忆丝的工艺方法及其产品-CN92107754.8无效
发明人： 吴世泰 -专利权人：镇江丝绸工艺厂
申请日： 1992-09-12 - 公布日： 1995-09-06 - 主分类号： D01C3/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种生产真丝弹性卷曲丝的工艺方法及其产品。已有的工艺方法生产出来的产品伸缩性和膨松性都不十分明显，且需要特殊的设备及装置。本发明改进了生产工艺，采用了两次化学处理及蒸气定型，使得生产出来的真丝记忆丝在一定的热湿状态下具有形状记忆功能，卷曲收缩率达到30～75％，卷曲模量达到10～50％，卷曲稳定度达到65～90％，弹性恢复率达到80～100％。
一种生产真丝记忆工艺方法及其产品

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