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[发明专利]一种抗反射涂料组合物及其制备方法以及光刻胶图案的形成方法-CN202310094469.5有效
发明人：易荣坤;林国清;王静;毛鸿超 -专利权人： 厦门恒坤新材料科技股份有限公司
申请日： 2023-02-10 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C09D161/32 文献下载
摘要：本发明属于光刻领域，涉及一种抗反射涂料组合物及其制备方法以及光刻胶图案的形成方法。所述抗反射涂料组合物中含有聚硫代缩醛、产酸剂、有机溶剂以及任选的添加剂；所述聚硫代缩醛包括衍生自硫代二醇的结构单元以及衍生自烷氧基甘脲的结构单元。本发明提供的抗反射涂料组合物兼具有高折射率和优异的刻蚀速率，极具工业应用前景。
一种反射涂料组合及其制备方法以及光刻图案形成

[发明专利]一种光刻胶中光致产酸剂的鉴定方法-CN202310421822.6在审
发明人：牛玉芳;毛鸿超;王静 -专利权人： 厦门恒坤新材料科技股份有限公司
申请日： 2023-04-19 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： G01N30/02 文献下载
摘要：本发明属于光刻胶领域，涉及一种光刻胶中光致产酸剂的鉴定方法，包括：将未固化的光刻胶依次进行加热处理、研磨、浸提、过滤，再将所得待测清液进行LC‑MS检测，得到LC‑MS总离子流色谱图；在正离子模式下，从LC‑MS总离子流色谱图中获取光致产酸剂中正离子的分子式；在负离子模式下，从LC‑MS总离子流色谱图中获取光致产酸剂中负离子的分子式；根据所获取的正负离子的分子式判断光刻胶中光致产酸剂的具体分子式。采用本发明提供的方法能够准确鉴定光刻胶中的光致产酸剂。
一种光刻胶中光致产酸剂鉴定方法

[发明专利]正性光刻胶用聚酰亚胺树脂及其制备方法和应用-CN202310618190.2在审
发明人：毛鸿超;李禾禾;王静;陈晓东;肖楠 -专利权人： 厦门恒坤新材料科技股份有限公司
申请日： 2023-05-29 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： C08G73/10 文献下载
摘要：本发明提供一种正性光刻胶用聚酰亚胺树脂，按重量百分比，包括聚酰亚胺前驱体(PAA)75‑92.5％，超支化链前聚体11.5‑15.5％，光致酸剂1.2‑4.5％；所述聚酰亚胺前驱体(PAA)通过含氟二胺单体和含氟二酐单体聚合制得；所述超支化链前聚体为链式超支化烯基叔丁酯，所述链式超支化烯基叔丁酯由多元醇与烯基叔丁酯聚合制得。通过超支化聚合PAA、超支化链前聚体/共混光致酸剂或超支化聚合PAA、光致酸剂、超支化链前聚体得到两种链式结构的低Tg值、耐化的含氟聚酰亚胺树脂。
光刻聚酰亚胺树脂及其制备方法应用

[发明专利]一种KrF光刻胶及其制备方法和图案化方法-CN202310568802.1在审
发明人：李禾禾;王静;王雪枫;毛鸿超 -专利权人： 厦门恒坤新材料科技股份有限公司
申请日： 2023-05-19 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种KrF光刻胶，其特征在于：按重量百分比，包括超支化光致酸聚合树脂48.5‑60.5％，淬灭剂0.5‑1％，流平剂0.03‑0.5％，溶剂50％‑72％；所述超支化光致酸聚合树脂由多元醇、对羟基苯乙烯单体、烯基叔丁酯、光致酸单体、4‑(1‑苯基‑1‑羟基乙基)苯乙烯超支化聚合制得；所述4‑(1‑苯基‑1‑羟基乙基)苯乙烯超支化接枝聚合在所述对羟基苯乙烯单体、烯基叔丁酯、光致酸单体聚合后的端基区。同时，本发明还提供了KrF光刻胶的制备方法及其图案化的方法。本发明链式结构可减少易光酸的基团产生的质子酸扩散到非曝光区域及减少了分子链缠结，提高分辨率、LER性能，并降低了Tg数值。
一种 krf 光刻及其制备方法图案

[发明专利]一种含硅聚合物和底部抗反射涂层组合物及其制备方法-CN202310427438.7在审
发明人：马丽丽;毛鸿超;王静 -专利权人： 厦门恒坤新材料科技股份有限公司
申请日： 2023-04-20 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： C08F230/08 文献下载
摘要：本发明属于光刻胶技术领域，涉及一种含硅聚合物和底部抗反射涂层组合物及其制备方法。所述含硅聚合物具有式(1)所示的结构，R1、R3、R5和R7各自独立地为H、任选取代的C1‑C30烷基或任选取代的C3‑C20的环烷基；R2为含硅基团；R4为可交联基团；R6为吸光基团；R8为H、任选取代的C1‑C30烷基、任选取代的C3‑C20的环烷基或卤素原子；a:b:c:d＝(5％～50％):(10％～80％):(5％～80％):(0～80％)。本发明提供的底部抗反射涂层组合物刻蚀速率快，膜厚变化小，不与光刻胶发生互溶，且具有抗反射消除驻波的效果。
一种聚合物底部反射涂层组合及其制备方法

[发明专利]一种可自交联异氰尿酸酯聚合物和抗反射涂层组合物及其制备方法和图案形成方法-CN202111196544.6有效
发明人：曾成财;王静 -专利权人： 厦门恒坤新材料科技股份有限公司
申请日： 2021-10-14 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： C08G73/06 文献下载
摘要：本发明属于半导体材料领域，涉及一种可自交联异氰尿酸酯聚合物和抗反射涂层组合物及其制备方法和图案形成方法。所述抗反射涂层组合物中含有可自交联异氰尿酸酯聚合物、酸产生剂、有机溶剂及任选的表面活性剂，所述可自交联异氰尿酸酯聚合物具有式(1)表示的重复单元。本发明所采用的成膜物质为分子链上同时具有活性巯基和甘脲基团的异氰尿酸酯聚合物，这种特定结构的异氰尿酸酯聚合物本身具有自交联性能，后续作为抗反射涂层组合物使用时无需额外添加交联剂，涂层性能稳定，更为重要的是，以这种特定结构的自交联异氰尿酸酯聚合物作为成膜物质所得抗反射涂层组合物在不同温度下烘烤固化所得抗反射涂层具有稳定的折射率n和消光系数k。
一种交联氰尿酸聚合物反射涂层组合及其制备方法图案形成

[发明专利]一种聚醚高聚物和抗反射涂层溶液及其制备方法-CN202111201706.0有效
发明人：王雪枫;肖楠;王静;宋里千;毛鸿超 -专利权人： 厦门恒坤新材料科技股份有限公司
申请日： 2021-10-15 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： C08G65/34 文献下载
摘要：本发明属于半导体领域，涉及一种聚醚高聚物和抗反射涂层溶液及其制备方法。所述聚醚高聚物通过将四烷氧甲基甘脲中间体与二醇进行缩合反应得到，且所述聚醚高聚物的重均分子量为5000～20000g/mol。本发明通过在由四甲氧基甲基甘脲与二醇类化合物缩聚形成的聚醚主链上引入PGME链段，由此能够使所得聚醚高聚物本身的稳定性得以明显提升，由该聚醚高聚物与产酸剂和有机溶剂以及任选的表面活性剂组成的底部抗反射溶液以及相应的底部抗反射涂层的稳定性同样能够得以显著提升。
一种聚醚高聚物反射涂层溶液及其制备方法

[实用新型]光刻胶冷藏包装箱-CN202320187873.2有效
发明人：周国波;赖艺珠;陈洁伟 -专利权人： 厦门恒坤新材料科技股份有限公司
申请日： 2023-02-07 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： B65D25/10 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种光刻胶冷藏包装箱，包括：盒体、盒盖和盖板。盒体包括：容置槽，顶部具有位于盒体顶面的开口；下储瓶槽，位于容置槽的下方，顶部连通容置槽；多个下储瓶槽呈阵列布置；下抵接面，位于容置槽的外周侧，且高于容置槽底面。盒盖包括：定位台，突设于盒盖底部；上储瓶槽，底部具有位于定位台的底面的开口，多个上储瓶槽呈阵列布置；让位槽，顶部具有位于盒盖顶面的开口；储冰槽，位于让位槽的下方，顶部连通让位槽，储冰槽设有多个，呈横纵交叉布置，并在相邻的两上储瓶槽之间延伸，储冰槽和上储瓶槽还设有相连通的通气口；上抵接面，位于定位台的外周侧，且高于定位台的底面。在高度方向上储冰槽和上储瓶槽具有重叠的部分。
光刻冷藏包装箱

[实用新型]一种圆瓶贴标机-CN202223436713.1有效
发明人：范国清;郑志南;陈武档 -专利权人： 厦门恒坤新材料科技股份有限公司
申请日： 2022-12-21 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： B65C9/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种圆瓶贴标机，涉及贴标设备领域，包括圆瓶输送带、辊筒组件、贴标装置和调节机构。圆瓶输送带用于输送圆瓶；辊筒组件包括标签卷盘及位于标签卷盘后端的辊筒；贴标装置设置于辊筒组件末端，并位于圆瓶输送带一侧，用于将标签贴附于圆瓶上；调节机构包括内箍、弹性件和外箍，内箍套设于辊筒外，并开设有一开口，内箍在开口两侧各设置一连接耳，弹性件连接于连接耳之间，外箍套设在内箍外，并为弹性变形材料，外箍包括两个活动端，活动端朝向连接耳设置，并活动于锁紧位置和活动位置。本实用新型的圆盘贴标机通过在辊筒上设置调节机构适应不同尺寸标签输送时的限位要求，调节操作简单快捷，提高对不同尺寸标签的适用性。
一种圆瓶贴标机

[实用新型]一种光刻胶挥发物取样的高温烘烤设备-CN202223392163.8有效
发明人：陈武档;范国清;林伟城;邱鹏煌 -专利权人： 厦门恒坤新材料科技股份有限公司
申请日： 2022-12-16 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： F26B9/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光刻胶挥发物取样的高温烘烤设备，涉及光刻胶生产设备领域，其包括：机体、加热台、样品治具、密封盖和控制装置；加热台设置于机体上，并包括环形加热件及设置于环形加热件内侧的温度传感器；样品治具其可拆卸的设置于加热台上，并包括盖板，盖板上开设有用于放置挥发物的治具槽；密封盖，其活动设置于机体上，并罩设在样品治具外围；控制装置包括与温度传感器及环形加热件连接的控制器及与控制器连接的计时器和警报器。本实用新型的光刻胶挥发物取样的高温烘烤设备通过样品治具更加方便样品取样，且通过密封罩减少了加热温度对外部环境的影响。
一种光刻挥发物取样高温烘烤设备

[发明专利]一种有机抗反射涂层组合物及其制备方法和图案形成方法-CN202211485550.8在审
发明人：曾成财;王静;宋里千;肖楠 -专利权人： 厦门恒坤新材料科技股份有限公司
申请日： 2022-11-24 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： C09D163/00 文献下载
摘要：本发明属于半导体材料领域，涉及一种有机抗反射涂层组合物及其制备方法和图案形成方法。所述有机抗反射涂层组合物中含有成膜物质，所述成膜物质为式(1)所示含环氧基异氰脲酸酯单体与式(2)所示含羧酸基异氰脲酸酯单体的亲电加成反应产物；式(1)中，R1表示C1‑C6的烷基、C6‑C20的芳基或环氧基；式(2)中，R2和R3各自独立地表示C1‑C6的烷基、C1‑C6的羧基、C6‑C20的芳基、卤素取代基、C1‑C6的烷烯基或C1‑C6的酰基，n为1‑10。本发明提供的抗反射涂层组合物烘烤固化形成的涂层兼具有高折射率和低消光系数。
一种有机反射涂层组合及其制备方法图案形成

[发明专利]一种成膜物质及抗反射涂层液和抗反射膜及其应用以及图案形成方法-CN202211485049.1在审
发明人：曾成财;王静;宋里千;肖楠 -专利权人： 厦门恒坤新材料科技股份有限公司
申请日： 2022-11-24 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明属于光致刻蚀剂的技术领域，公开了一种成膜物质及抗反射涂层液和抗反射膜及其应用以及图案形成方法。所述成膜物质为含有环己烷基甲酸化合物与含有环氧基异氰脲酸酯化合物的亲电加成反应产物；含有环氧基异氰脲酸酯化合物的结构如式(1)所示，含有环己烷基甲酸化合物的结构如式(2)所示。由上述成膜物质作为主要成分制备得到的抗反射膜具有良好的抗反射性能，能够有效消除光反射形成的干涉驻波，同时具有良好的耐溶剂性能。
一种物质反射涂层及其应用以及图案形成方法

[发明专利]聚合物、硬掩膜组合物及形成图案的方法-CN201910609647.7有效
发明人：王静;肖楠 -专利权人： 厦门恒坤新材料科技股份有限公司
申请日： 2019-07-08 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： C08G61/12 文献下载
摘要：本发明涉及光刻领域，尤其涉及聚合物、硬掩膜组合物及形成图案的方法。本发明提供一种聚合物，包括由式(1)所示化合物形成的重复单元。本发明还提供一种硬掩膜组合物，包括所述聚合物和溶剂。本发明中的聚合物由含有高碳含量的咔唑与芘基稠合在一起形成。包含该聚合物的硬掩膜组合物，具有优异的耐刻蚀性和热稳定性，可以通过旋涂的方法形成性能良好的硬掩膜。利用所述硬掩膜组合物进行光刻图案化，简单方便。
聚合物硬掩膜组合形成图案方法

[发明专利]一种功能性聚合物和底部抗反射涂层组合物及其制备方法-CN202111201717.9有效
发明人：马丽丽;王静;毛鸿超;宋里千;肖楠 -专利权人： 厦门恒坤新材料科技股份有限公司
申请日： 2021-10-15 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： C08F220/18 文献下载
摘要：本发明属于光刻技术领域，具体涉及一种功能性聚合物和底部抗反射涂层组合物及其制备方法。所述功能性聚合物具有式(1)所示的结构，这种特定结构的功能性聚合物能够赋予底部抗反射涂层组合物良好的附着力、流平性和膜收缩率。此外，含有这种特定结构的抗反射涂层组合物可溶于水碱性显影液中，减少了刻蚀工艺，减少一定的刻蚀能量。
一种功能聚合物底部反射涂层组合及其制备方法

[发明专利]一种硫代缩醛聚合物及其制备方法和应用-CN202310094446.4在审
发明人：林国清;易荣坤;王静;毛鸿超 -专利权人： 厦门恒坤新材料科技股份有限公司
申请日： 2023-02-10 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： C08G12/40 文献下载
摘要：本发明属于光刻领域，涉及一种硫代缩醛聚合物及其制备方法和应用。所述硫代缩醛聚合物包括衍生自硫代缩醛二醇的结构单元以及衍生自四(烷氧基烷基)甘脲的结构单元。含有本发明提供的硫代缩醛聚合物的抗反射涂料组合物兼具有高折射率和优异的刻蚀速率，极具工业应用前景。
一种硫代缩醛聚合物及其制备方法应用

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