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- [发明专利]光学层叠体-CN202210387596.X在审
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北河佑介;幡中伸行
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住友化学株式会社
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2022-04-13
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2022-10-21
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G02B5/30
- 本发明的目的在于提供一种光学层叠体，其为薄型，并且在转印至被转印体时抑制贴合偏移、褶皱的产生，能够容易地转印至任意的被转印体。所述光学层叠体依次包含第1基材膜、第1应力缓和层、偏振层、粘合粘接层、相位差层、第2应力缓和层和第2基材膜，位于第1应力缓和层与第2应力缓和层之间的层的合计厚度为20μm以下，第1基材膜在23℃时的弹性模量为2,500～6,000MPa，第1应力缓和层能够在与第1应力缓和层的与第1基材膜相反侧的面所相邻的层之间剥离，第2基材膜为能够剥离的基材膜。
- 光学层叠
- [发明专利]光学层叠体-CN202210113462.9在审
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北河佑介;幡中伸行
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住友化学株式会社
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2022-01-29
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2022-08-02
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G02B5/30
- 本发明的目的在于，提供一种光学层叠体，其能够在向被转印体转印时抑制拉链现象的产生、剥离界面的翘起，能够向任意的被转印体容易地转印。本发明的光学层叠体依次包含第1基材、取向膜、偏振膜、粘合粘接层、相位差膜及第2基材，所述偏振膜及相位差膜各自为包含液晶化合物的液晶组合物的固化膜，从该光学层叠体剥离第1基材时的剥离力F1和从该光学层叠体剥离第2基材时的剥离力F2满足式(1)、(2)及(3)：0.02(N/25mm)≤F1≤0.30(N/25mm) (1)0.02(N/25mm)≤F2≤0.30(N/25mm) (2)0.02(N/25mm)≤|F1‑F2| (3)。
- 光学层叠
- [发明专利]偏振膜的制造方法-CN202110609372.4在审
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松久英树;白川庆一;北河佑介
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住友化学株式会社
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2021-06-01
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2021-12-07
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B29D7/01
- 本发明提供一种抑制了形成斑点缺陷的现象的偏振膜的制造方法。本发明是由聚乙烯醇系树脂膜制作偏振膜的偏振膜的制造方法，依次具有：覆盖面形成工序，通过使处理液附着于所述聚乙烯醇系树脂膜而在所述聚乙烯醇系树脂膜形成由所述处理液覆盖的第1面；和调整工序，调整所述第1面的所述处理液的量，所述调整工序是通过向所述第1面补充所述处理液而维持被覆盖的状态的工序、或通过从所述聚乙烯醇系树脂膜除去所述处理液而将所述第1面调整为实质上不具有所述处理液的液滴的状态的工序的任意者。
- 偏振制造方法
- [发明专利]偏振膜的制造方法-CN201680071253.5有效
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古谷勉;北河佑介;田中阳祐
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住友化学株式会社
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2016-12-02
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2020-07-31
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G02B5/30
- 本发明提供一种制造偏振膜的方法，该偏振膜尽管硼含量受到抑制，收缩力被降低，然而仍然具有高的光学特性。本发明的偏振膜的制造方法是由聚乙烯醇系树脂膜制造硼含有率为1.5～3.0重量％的偏振膜的方法，该方法包括：染色工序，将聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素染色；交联工序，将染色工序后的膜用至少包含硼酸的交联剂进行处理；第一拉伸工序，在所述交联工序中和/或其之前，对聚乙烯醇系树脂膜进行单轴拉伸；以及第二拉伸工序，在所述交联工序后，对聚乙烯醇系树脂膜进行单轴拉伸。
- 偏振制造方法
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