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- [发明专利]一种净化回收砷化氢气体的装置及方法-CN201710954638.2有效
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庞云玲
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北京创昱科技有限公司
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2017-10-13
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2019-11-05
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F17C3/00
- 本发明涉及工业废气回收技术领域，尤其涉及一种净化回收砷化氢气体的装置及方法，包括高低温箱、收集瓶以及设置于收集瓶内的气体通道和导热片，收集瓶位于高低温箱内；气体通道上具有分散孔，且气体通道沿收集瓶的高度方向设置，并与收集瓶的进气口连接；导热片沿收集瓶的高度方向设置，且沿周向设置在收集瓶的内壁上。本发明净化回收砷化氢气体的装置及方法采用低温吸附，吸附效率高，可实现尾气中砷化氢气体的回收，通过控制高低温箱的温度即可完成工作，处理工序操作简单，设备简单，所需成本低，为空气污染控制、冶炼尾气和半导体产品生产的尾气处理提供了一条新途径。
- 一种净化回收氢气装置方法
- [发明专利]一种离子源束流均匀性测量装置-CN201711228571.0有效
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胡庆为
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北京创昱科技有限公司
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2017-11-29
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2019-11-05
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G01T1/29
- 本发明涉及真空中电源束流测量技术领域，尤其涉及一种离子源束流均匀性测量装置。该测量装置包括离子源和栅网，所述栅网设于所述离子源的离子出口，以从所述离子源内吸引出离子并形成离子源束流，还包括支架、电流表和多个安装于所述支架上的探头，多个所述探头均位于所述离子源束流的区域内，所述探头的第一端用于接收所述离子源发出的正离子，所述探头的第二端与所述电流表的输入端连接，所述电流表的输出端接地。本测量装置放置在离子源束流的区域内，能够有效测量离子源束流区域内的均匀性状况。本测量装置结构简单，成本低廉，操作方便，大大节省了操作人员的时间及精力。
- 一种离子源均匀测量装置
- [发明专利]晶片定位及装载系统-CN201711138110.4有效
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申兵兵;魏民
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北京创昱科技有限公司
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2017-11-16
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2019-09-20
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H01L21/677
- 本发明涉及晶片生产技术领域，特别是涉及一种晶片定位及装载系统，其包括取料机构、视觉定位系统、送料机构以及包括多个子对位平台的对位平台系统，取料机构包括X向取料机械手和YZ向输送单元，在X向取料机械手上设置有多个间隔设置用于吸取晶片的第一真空吸盘，多个第一真空吸盘的分布与多个子对位平台一一对应；视觉定位系统架设在对位平台系统上方，用于获取晶片位置；每个子对位平台根据所获取的晶片位置进行调整，使其与预先设定的基准位置重合；送料机构用于将多个子对位平台上调整后的多个晶片输送到目的位置。该晶片定位及装载系统能够同时对多片晶片进行操作，减少设备重复动作做占用的时间,因而提高了工作效率，并且降低了成本。
- 晶片定位装载系统
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