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[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板以及显示装置-CN201711122259.3有效
发明人：周鑫博;剧永波;刘伟;靳希康;高建斌;王志敏 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2017-11-14 - 公布日： 2022-01-21 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明提供了阵列基板及其制备方法、显示面板以及显示装置。其中，所述阵列基板包括：衬底，所述衬底设置有多个像素区；薄膜晶体管，所述薄膜晶体管设置在所述像素区中，且所述薄膜晶体管的栅极和源漏极之间的层间介质层具有开口，所述开口在所述衬底上的正投影覆盖所述像素区的至少一部分透光区域。发明人发现，在薄膜晶体管中的层间介质层上设置部分对应像素区透光区域的开口可以有效提高上述阵列基板的透光率，并且能够减少大视角类不良的发生，进而提高含有上述薄膜晶体管的显示装置的显示质量，提高消费者的消费体验。
阵列及其制备方法显示面板以及显示装置

[发明专利]数据存储电路及数据读写方法、阵列基板、显示装置-CN201811123121.X有效
发明人：刘影;陈志龙;沈祥凯;崔錣奎;剧永波;金贤镇;申澈;唐欢;李小华;黎文秀;彭利满;徐海峰;简月圆;王静;朱芳;刘春景;刘国锋;张群立 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2018-09-26 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： G11C16/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种数据存储电路，包括至少一个阻变单元；在经过不同电流的置位过程后，所述阻变单元能够形成不同的电阻值以作为数据进行存储。本发明还公开了一种阵列基板、显示装置和数据写入方法、数据读取方法。本发明提供的数据存储电路及其数据读写方法、阵列基板、显示装置，能够解决现有的生产信息设置困难或读取困难的问题。
数据存储电路读写方法阵列显示装置

[发明专利]阵列基板及显示装置-CN202010479718.9在审
发明人： 剧永波;崔鹏飞;孙建;王德帅;沈祥凯;高建斌;王建南;王广帅 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2020-05-29 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本公开实施例公开了一种阵列基板及显示装置，涉及显示技术领域，用于避免对源漏导电层造成腐蚀，进而避免应用有该阵列基板的显示装置出现撕膜斜纹不良，改善该显示装置的显示效果。该阵列基板，具有显示区和位于所述显示区的旁侧的绑定区。所述阵列基板包括：衬底、多个第一晶体管、以及多个导电电极。所述多个第一晶体管设置在所述衬底的一侧、且位于所述显示区，第一晶体管包括第一栅极、第一源极和第一漏极。所述多个导电引脚设置在所述衬底的一侧、且位于所述绑定区，所述多个导电引脚与所述第一栅极同层设置。所述多个导电电极分别设置在所述多个导电引脚远离所述衬底一侧表面。本公开提供的阵列基板及显示装置用于实现触控及显示。
阵列显示装置

[发明专利]一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示装置-CN201711137106.6在审
发明人：刘伟;剧永波;靳希康;王志敏;高建斌;陈小广;周鑫博;陈建军 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2017-11-16 - 公布日： 2019-05-24 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明提供一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的LTPS中多晶硅容易被过刻的问题。本发明的薄膜晶体管中包括多层绝缘层，其中，至少一层设于低温多晶硅层上方的绝缘层采用树脂材料形成，后续的在该树脂材料中形成过孔时，无需干刻工艺，采用曝光显影的方法即可，可以有效避免该绝缘层下方的低温多晶硅层被过刻。本发明的薄膜晶体管的制备方法还可以增加漏极与低温多晶硅材料层的接触面积和均一性，提高电导率；第二绝缘层的第二过孔与第一绝缘层的第一过孔的曝光显影工艺可以一步完成，大幅减少产品的生产周期，提高设备产能。
绝缘层薄膜晶体管低温多晶硅制备曝光显影树脂材料显示装置阵列基板生产周期电导率多层绝缘层设备产能一步完成材料层多晶硅均一性面积和漏极

[实用新型]一种薄膜晶体管、阵列基板、显示装置-CN201721532908.2有效
发明人：刘伟;剧永波;靳希康;王志敏;高建斌;陈小广;周鑫博;陈建军 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2017-11-16 - 公布日： 2018-05-15 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本实用新型提供一种薄膜晶体管、阵列基板、显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的LTPS中多晶硅容易被过刻的问题。本实用新型的薄膜晶体管中包括多层绝缘层，其中，至少一层设于低温多晶硅层上方的绝缘层采用树脂材料形成，后续的在该树脂材料中形成过孔时，无需干刻工艺，采用曝光显影的方法即可，可以有效避免该绝缘层下方的低温多晶硅层被过刻。本实用新型的薄膜晶体管还可以增加漏极与低温多晶硅材料层的接触面积和均一性，提高电导率；第二绝缘层的第二过孔与第一绝缘层的第一过孔的曝光显影工艺可以一步完成，大幅减少产品的生产周期，提高设备产能。
一种薄膜晶体管阵列显示装置

[实用新型]涂布喷嘴保护装置-CN201020676365.3有效
发明人： 剧永波;张学智;吴超;刘杰 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2010-12-22 - 公布日： 2011-08-24 - 主分类号： B05C11/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种保护其它设备的装置，尤其涉及一种涂布喷嘴保护装置，增强了涂布喷嘴的保护效果，涂布喷嘴保护装置包括执行单元和位于涂布喷嘴运动方向的前方的触头，触头单次运动探测区域的宽度与涂布喷嘴单次运动喷涂区域的宽度相匹配，触头碰触到异物时被异物顶起；触头上设置至少一个感应装置，感应装置感应触头被顶起时的压力变化，并将压力变化转化为电信号发送至执行单元，执行单元执行对涂布喷嘴的保护；本实用新型实施例可以应用于各种涂布技术，主要应用于液晶面板制造过程中的涂布光刻胶中的涂布喷嘴保护。
喷嘴保护装置

[实用新型]基板烘烤设备-CN201020679277.9有效
发明人：刘杰;焦宇;吴超;宋篷磊;剧永波 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2010-12-23 - 公布日： 2011-08-17 - 主分类号： G03F7/38 文献下载
摘要：本实用新型提供一种基板烘烤设备，属于烘烤技术领域，其可解决现有的基板烘烤设备易于造成基板损伤的问题。本实用新型的基板烘烤设备包括：用于沿与基板平行的方向输送基板的输送机构；至少一个用于加热位于所述输送机构上的所述基板的加热机构。本实用新型可用于在液晶显示面板的光刻工艺中烘烤玻璃基板。
烘烤设备

[实用新型]液体回收装置及显影设备-CN201020201731.X有效
发明人： 剧永波;张学智;宋瑞涛;苏九端;焦宇 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2010-05-19 - 公布日： 2010-11-24 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种液体回收装置及显影设备，涉及显示技术领域，能够解决现有技术中显影液的回收率偏低的问题。所述液体回收装置，包括支架和设于所述支架上的传送辊子，所述支架上设有平行于所述传送辊子的单侧刮液气刀。本实用新型适用于液晶面板及半导体等制造行业中。
液体回收装置显影设备

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