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[发明专利]改性陶瓷分离膜及其制备方法-CN202210551923.0在审
发明人：刘忠范;薛载坤;孙靖宇;刘冰之 -专利权人：北京石墨烯研究院;北京大学;苏州大学
申请日： 2022-05-18 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： C04B41/87 文献下载
摘要：本发明公开一种改性陶瓷分离膜，包括陶瓷分离膜和直接生长在所述陶瓷分离膜表面的石墨烯层。本发明的改性陶瓷分离膜，在陶瓷分离膜表面直接生长石墨烯层，经过石墨烯层的改性，陶瓷分离膜具有良好的疏水性能，同时石墨烯层具有独特的孔状结构，有利于油脂类化合物的有效通过，降低陶瓷分离膜的平均孔径，提升离子以及大分子物质的截留率，实现物质的油水分离性能，可以应用于含油废水的处理以及高价值油水的回收等。
改性陶瓷分离及其制备方法

[发明专利]一种化学气相沉积装置-CN202010454127.6在审
发明人：顾伟;刘冰之;郑凯强;高翾 -专利权人：北京石墨烯研究院
申请日： 2020-05-26 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本发明提供了一种化学气相沉积装置，包括反应单元和承载面板；所述反应单元用于通过化学气相沉积反应在基底上生成薄膜；所述承载面板用于承载所述基底，并能够带着所述基底进出所述反应单元；其中，所述反应单元包括一个或多个反应室，在所述反应室内设置有保温腔，所述保温腔为两端开口的筒状体。本发明的一实施方式化学气相沉积装置，可实现石墨烯玻璃的连续生产。
一种化学沉积装置

[发明专利]一种用于制备石墨烯薄膜的化学气相沉积装置及方法-CN202010454155.8在审
发明人：顾伟;郑凯强;刘冰之;单婧媛;高翾 -专利权人：北京石墨烯研究院
申请日： 2020-05-26 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： C23C16/448 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于制备石墨烯薄膜的化学气相沉积装置及方法，该装置包括反应单元、碳源进给单元和真空检控单元；其中，所述反应单元用于进行化学气相沉积反应，所述碳源进给单元用于为所述反应单元提供气态碳源，所述真空检控单元用于控制和检测所述反应单元的真空度；所述碳源进给单元包括雾化器和汽化器。本发明一实施方式的用于制备石墨烯薄膜的化学气相沉积装置，通过设计结构简单的碳源进给器，替代传统的注射泵法、鼓泡法和加热法，使得碳源的控制更加精确稳定，且降低了生产成本。
一种用于制备石墨薄膜化学沉积装置方法

[发明专利]石墨烯玻璃及其制备方法-CN202011221192.0在审
发明人：顾伟;郑凯强;刘冰之;杨贵奇;余嫦;王文;高翾 -专利权人：北京石墨烯研究院
申请日： 2020-11-05 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： C03C17/22 文献下载
摘要：本发明提供一种石墨烯玻璃及其制备方法。所述石墨烯玻璃包括玻璃基底和直接生长在所述玻璃基底上的石墨烯层；所述石墨烯玻璃的光学透过率为82.1％～90.0％，面电阻为786～1133Ω/sq。所述石墨烯玻璃的制备方法，其特征在于，在玻璃基底通过化学气相沉积直接生长石墨烯层，在生长过程中通入水蒸气和/或水蒸气前驱体。本发明供一种无金属催化剂下直接制备层数均匀的高质量石墨烯玻璃及其制备方法，通过在化学气相沉积过程中引入水蒸气，实现石墨烯成长过程中的成核密度和畴区尺寸控制，进而实现石墨烯玻璃的高透过率和低面电阻。
石墨玻璃及其制备方法

[发明专利]一种石墨烯玻璃的连续生产系统及方法-CN202010454170.2在审
发明人：顾伟;郑凯强;刘冰之;高翾 -专利权人：北京石墨烯研究院
申请日： 2020-05-26 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： C03C17/22 文献下载
摘要：本发明提供了一种石墨烯玻璃的连续生产系统及方法，该生产系统包括备样单元、反应单元、取样单元和传送装置；其中，所述传送装置能够载着玻璃基底在所述备样单元、所述反应单元、所述取样单元之间移动。本发明一实施方式的石墨烯玻璃的生产系统/方法，能够实现石墨烯玻璃的连续化生产，制备效率高，降低了石墨烯玻璃制备的生产成本。
一种石墨玻璃连续生产系统方法

[发明专利]一种基于石墨烯玻璃制备智能调光玻璃的方法-CN201610533652.0有效
发明人：刘忠范;王慧慧;张艳锋;陈旭东;刘冰之 -专利权人：北京石墨烯研究院有限公司
申请日： 2016-07-07 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： G02F1/1334 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于石墨烯玻璃制备智能调光玻璃的方法，所述方法包括以下步骤：第一步：玻璃基底在常压环境下与通入的碳源在400‑1100℃下，化学气相沉积30min‑480min，获得石墨烯玻璃基板；第二步：将紫外光可聚合体系以及与其折射率匹配的向列相液晶按质量比3:2～3:7混合均匀，得到各向同性液体，再加入占各向同性液体总质量0.1～10.0wt％的自由基光引发剂和占各向同性液体总质量1.0～10.0wt％的玻璃微珠后混合均匀，灌入用石墨烯玻璃基板制作的液晶盒中，在温度0～60℃条件下，使用波长为365nm的紫外光辐照1.0～30.0分钟，固化形成智能调光玻璃。本发明的智能调光玻璃界面粘结力强，稳定性好。
一种基于石墨玻璃制备智能调光方法

[实用新型]溅射铜0R电阻器-CN201820925694.3有效
发明人：凌东;冯会军;刘冰之;史勤峰;陈卫东;许永利;寇红英 -专利权人：昆山厚声电子工业有限公司
申请日： 2018-06-14 - 公布日： 2019-05-17 - 主分类号： H01C3/00 文献下载
摘要：一种溅射铜0R电阻器，绝缘基板(1)正面有铜层(3)，在铜层(3)上侧中部有保护层(4)，在绝缘基板(1)背面左、右外侧边缘有背面电极(2)，在绝缘基板(1)左、右侧外壁上分别有侧面导电层(7)，侧面导电层(7)连接铜层(3)和背面电极(2)，在铜层(3)、背面电极(2)和侧面导电层(7)外侧表面有镍层(9)。采用在绝缘基板正面整片溅射铜层改进结构，使表面电极及电阻层连接成为整体，更适用于批量性的生产，溅射形成的真空镀膜层表面均匀性好，膜层结构致密，其质量性能较稳定且制造成本较低，电阻表面散热能力强，产品体积小，有效提高生产效能并显著降低制造成本。
绝缘基板铜层侧面导电层背面电极溅射制造成本电阻器致密表面均匀性真空镀膜层表面电极电阻表面改进结构溅射铜层膜层结构散热能力外侧边缘外侧表面右侧外壁保护层侧中部电阻层批量性体积小镍层整片背面生产

[发明专利]溅射铜0R电阻器的制造方法-CN201810615596.4在审
发明人：凌东;冯会军;刘冰之;史勤峰;陈卫东;许永利;寇红英 -专利权人：昆山厚声电子工业有限公司
申请日： 2018-06-14 - 公布日： 2018-11-06 - 主分类号： H01C17/00 文献下载
摘要：溅射铜0R电阻器的制造方法，在绝缘基板(1)的背面印刷背面电极(2)，并进行烧成，在绝缘基板(1)的正面用溅射的方式镀上一层铜层(3)；沿绝缘基板1上的横向刻痕线将绝缘基板(1)折断成条状基板(6)，采用真空溅射炉对各条状基板(6)进行侧面溅射，形成侧面导电层(7)；0R电阻半成品(8)的正面铜层(3)电极、背面电极(2)和侧面导电层(7)上均电镀形成一层镍层(9)，然后再在镍层(9)的表面电镀一层锡层(10)，并经过清洗及烘干后形成成品溅射铜0R电阻。采用在绝缘基板正面整片溅射铜层的工艺，使表面电极及电阻层成为整体结构，更适用于批量性的生产，溅射形成的真空镀膜层表面均匀性好，膜层结构致密，其质量性能较稳定且制造成本较低，电阻表面散热能力强，产品体积小，有效提高生产效能并显著降低制造成本。
溅射绝缘基板侧面导电层背面电极制造成本电阻器电阻镍层致密表面均匀性横向刻痕线真空镀膜层真空溅射炉表面电镀表面电极电阻表面溅射铜层膜层结构散热能力条状基板正面铜层电阻层批量性体积小电镀电极折断烘干基板烧成铜层锡层整片半成品背面制造清洗印刷侧面生产

[发明专利]小尺寸薄膜高精度电阻器的制造方法-CN201810616280.7在审
发明人：凌东;冯会军;刘冰之;韩胜友;张行国;赵砚武 -专利权人：昆山厚声电子工业有限公司
申请日： 2018-06-14 - 公布日： 2018-09-18 - 主分类号： H01C17/08 文献下载
摘要：小尺寸薄膜高精度电阻器的制造方法，在绝缘基板(1)的背面均匀的刻出纵向刻痕线(2)，并印刷背面电极(3)，在绝缘基板(1)的正面印刷正面电极(5)和条状掩膜层(4)，并先后溅射镀电阻层(6)、保护层(10)以及侧面导电层(12)，再刻出横向刻痕线(7)；绝缘基板(1)先后沿纵、横刻痕折断成贴片电阻分层电镀生成镍层(14)和锡层(15)。使绝缘基板形成所需形状，采用整片溅射电阻层与溅射保护层的方式，使表面电极及电阻层成为一个整体，使电阻层图形更完好规整，改善电阻表面散热效果，且溅射形成的真空镀膜层结构致密，膜层表面均匀性优良，品质精度高而且性能稳定，有效降低成本，尤其适用于批量性的生产。
绝缘基板电阻层溅射高精度电阻器尺寸薄膜保护层有效降低成本侧面导电层横向刻痕线真空镀膜层纵向刻痕线背面电极表面电极电阻表面结构致密膜层表面散热效果条状掩膜贴片电阻正面电极正面印刷规整电镀均匀性批量性折断分层刻痕镍层锡层整片制造背面印刷生产

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