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[实用新型]抽真空装置-CN201620558727.6有效
发明人：冯强;陈启超;汪直超;关永兵;甄慧慧;谈太奇 -专利权人：重庆京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2016-06-07 - 公布日： 2016-11-09 - 主分类号： F04B39/00 文献下载
摘要：本实用新型公开一种抽真空装置，属于抽真空技术领域。抽真空装置包括：真空泵、管道、检测组件和阻挡组件，真空泵设置在密闭腔室的外部，且与密闭腔室通过管道连接，检测组件和阻挡组件按照从靠近密闭腔室到远离密闭腔室的顺序设置在管道内，且检测组件与阻挡组件电连接；检测组件用于在有物体通过管道时生成检测信号，并向阻挡组件发送检测信号；阻挡组件用于根据检测信号，对物体进行阻挡。本实用新型解决了抽真空装置运行的稳定性较差的问题，达到了提高抽真空装置运行的稳定性的效果。本实用新型用于抽真空。
真空装置

[实用新型]一种缓存装置及设有该缓存装置的涂胶显影机-CN201620433712.7有效
发明人：汪直超;宋翔宇;关永兵;刘丙强;曹坤 -专利权人：重庆京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2016-05-11 - 公布日： 2016-09-28 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型涉及集成电路生产设备技术领域，尤其涉及一种缓存装置及设有该缓存装置的涂胶显影机。缓存装置包括框架和设于所述框架内沿其高度方向依次设置的多层支撑板，所述支撑板用于放置待曝光的基板，所述框架上相应地设有多层支撑部件，每层所述支撑板均滑动地安装于所述支撑部件上。本实用新型提供的缓存装置缩短了维护保养的时间，提高了工作效率以及设备的稼动率。
一种缓存装置设有涂胶显影

[发明专利]口腔正畸用的高透明陶瓷托槽及其制备方法-CN201310169282.3有效
发明人：卢铁城;张伟;韦建军;魏念;关永兵;谢修敏;马奔原 -专利权人：四川大学
申请日： 2013-05-09 - 公布日： 2013-08-28 - 主分类号： A61C7/14 文献下载
摘要：口腔正畸用的高透明陶瓷托槽，包括底板及底板上设置的槽翼、槽沟和结扎翼沟，所述陶瓷托槽为钇铝石榴石陶瓷托槽、镁铝尖晶石陶瓷托槽或尖晶石型氮氧化铝陶瓷托槽，其直线透过率大于70%。上述高透明陶瓷托槽的制备方法：（1）制备浆料：原料为透明陶瓷粉体、复合烧结助剂、聚丙烯酸和去离子水，复合烧结助剂为所述透明陶瓷粉体重量的0.1%～0.6%，聚丙烯酸为所述透明陶瓷粉体重量的1%～5%，透明陶瓷粉体、复合烧结助剂、聚丙烯酸的总重量与去离子水重量之比为1:4～8，以 Al2O3球为球磨介质，球磨时间为24～48小时；所述透明陶瓷粉体为钇铝石榴石陶瓷粉体、镁铝尖晶石陶瓷粉体或尖晶石型氮氧化铝陶瓷粉体；（2）成型与素坯处理；（3）烧结。
口腔正畸用透明陶瓷及其制备方法