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[发明专利]一种掩模版并行化合成方法、装置、曝光设备及存储介质-CN202311111062.5有效
发明人：韦炳威;牛志元 -专利权人： 光科芯图（北京）科技有限公司
申请日： 2023-08-31 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及光刻技术领域，公开了一种掩模版并行化合成方法、装置、曝光设备及存储介质。其中，该方法应用于芯片制备工艺的曝光设备，掩模版为全息掩模版，具体包括获取成像面的目标图形，将成像面的目标图形拆分为图形子块；基于图形子块构建掩模子块，并获取掩模子块的重叠区域；在掩模子块的重叠区域内交错排布像素格点，生成掩模子块的像素格点；基于掩模子块的像素格点，并行计算掩模子块中像素格点的目标像素格点参数；基于掩模子块中像素格点的目标像素格点参数，将掩模子块合成目标全息掩模版。本发明通过全息掩模版并行化合成，以实现缩短全息掩模版的合成时间。
一种模版并行化合成方装置曝光设备存储介质

[发明专利]掩模版优化方法、装置及曝光设备-CN202311197950.3在审
发明人：和琨;牛志元;菅彦彬;杜德川;韦炳威 -专利权人： 光科芯图（北京）科技有限公司
申请日： 2023-09-18 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G03F1/68 文献下载
摘要：本发明涉及计算光刻技术领域，公开了掩模版优化方法、装置及曝光设备，包括：获取初始图形区域、初始平面与全息面，初始图形区域位于初始平面上；基于初始图形区域，在全息面上划分得到第二图形区域；根据全息面的全息透射率分布，确定第二图形区域的对应的全息二值振幅掩模版，实现掩模优化。本发明通过在原掩模版上设置零透过光区域，在未增加任何计算复杂度及加工制造难度的情况下，减弱了零级衍射光对重建像的影响，提高了重建质量。
模版优化方法装置曝光设备

[发明专利]一种掩模的曝光标定装置及方法-CN202311111047.0在审
发明人：张丽丽;杨振;谢稳;马卫民;菅彦斌;和琨;程智;牛志元 -专利权人： 光科芯图（北京）科技有限公司
申请日： 2023-08-31 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及光刻技术领域，具体涉及一种掩模的曝光标定装置及方法，应用于光刻机，装置包括光源、准直结构和标准掩模。其中，光源用于产生激光光束，形成标定光路；准直结构沿标定光路设置在光源和对应准直结构的成像位置之间，用于对激光光束进行准直以形成入射至成像位置的准直光束；其中，成像位置用于作为全息掩模的曝光位置；标准掩模对应于准直光束，在第一状态下以第一位姿设置在成像位置上，根据准直光束入射标准掩模之后产生的第一成像结果调节准直结构；其中，基于调节之后的准直结构，全息掩模在第二状态下以第一位姿在成像位置实现曝光，从而完成曝光标定。本发明通过标准掩模实现了曝光标定，从而确保了后续光刻曝光精准度。
一种曝光标定装置方法

[发明专利]显微镜物镜热稳定性的控制装置及方法-CN202311111063.X在审
发明人：杜建科;张振刚;李玉洁;薛书亮;张晓芳;黄征;丛敏;姜言明;秦宏鹏 -专利权人： 光科芯图（北京）科技有限公司
申请日： 2023-08-31 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种显微镜物镜热稳定性的控制装置及方法，所述装置包括控温部件、至少一个传感器、循环介质控制单元和温度采集计算单元。控温部件设置在显微镜物镜的外围；保温壳体与控温壳体之间形成导热腔体，控温壳体与显微镜物镜侧壁之间形成空气夹层；介质输送管均匀布设在导热腔体内部，且内部充装有介质；传感器固定设置在显微镜物镜的外壁上；循环介质控制单元用于向介质输送管提供介质；温度采集计算单元用于根据传感器采集到的显微镜物镜温度，与设定要求的温度进行比较，调节循环介质控制单元处的循环介质温度以及输送量。本发明能够保证显微镜物镜温度均匀性与稳定性，不易产生离焦现象，能够在CCD上得到清晰的图像。
显微镜物镜热稳定性控制装置方法

[发明专利]基于折线误差扩散的掩模合成方法、装置、设备及介质-CN202311111053.6在审
发明人：范鹏;牛志元;杜德川;魏建业;陈健;鲁仲杰;和琨 -专利权人： 光科芯图（北京）科技有限公司
申请日： 2023-08-31 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及计算光刻技术领域，公开了基于折线误差扩散的掩模合成方法、装置、设备及介质，方法包括：获取复振幅全息图并提取其四个像素顶点；以四个像素顶点中任意一个像素顶点为端点，按照预设折线扫描路径对复振幅全息图进行扫描，每个像素点在被扫描过程中，像素点上的误差沿预设折线扫描路径向相邻像素点扩散；在扫描过程中，将预设折线扫描路径上的所有像素点的振幅更新为1，使得扫描经过的像素点成为纯相位像素点，得到复振幅全息图对应的纯相位全息图并对其进行离散化处理得到目标掩模。本发明通过增加扫描转折点，解决了扫描路径方向上的滞后问题，减小了误差向全局扩散对其他像素点的影响，提高了合成掩模的成像质量。
基于折线误差扩散合成方法装置设备介质

[发明专利]一种五轴调节装置及曝光系统-CN202311111065.9在审
发明人：黄征;张振刚;张晓芳;杜建科;薛书亮;李玉洁;朱林兵 -专利权人： 光科芯图（北京）科技有限公司
申请日： 2023-08-31 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉芯片制备技术领域和光刻技术领域，具体涉及一种五轴调节装置及曝光系统。一种五轴调节装置，包括高度调节组件，高度调节组件包括相对设置的第一底板和第一顶板；所述第一底板上设有滑动柱，所述第一顶板内穿设有滑动柱，所述第一底板和第一顶板间设有至少一个斜向滑轨对，所述斜向滑轨对包括斜向滑槽和与所述斜向滑槽适配的斜向导轨，所述斜向导轨与第一顶板固定连接，沿水平方向朝向斜向导轨施加力带动斜向导轨进行移动，以使第一顶板沿滑动柱的中心轴线上升或下降。本发明解决针对曝光操作相关结构的位姿调节结构在高度等方向调节上无法有效兼顾调节精度、防止干扰以及投入成本的问题，从而提供一种五轴调节装置及曝光系统。
一种调节装置曝光系统

[发明专利]掩模图案的优化方法、装置、曝光设备及存储介质-CN202311111059.3在审
发明人：和琨;牛志元;陈健;杜德川 -专利权人： 光科芯图（北京）科技有限公司
申请日： 2023-08-31 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请涉及半导体制造的光刻技术领域，公开了掩模图案的优化方法、装置、曝光设备及存储介质，主节点和不同的从节点可以独立并行地根据元素组合中的元素以及自身存储的掩模图案，分别确定一个新的成像图案与目标图案之间的差异度，以便后续根据所有节点分别确定的差异度以及初始差异度确定在当前迭代周期内预设掩模图案的优化结果，以确定是否停止优化操作。不再需要像传统的直接搜索算法那样一次又一次地计算掩模图案中某个像素点所处位置的状态变化后，掩模图案对应成像图案与目标图案之间的差异度，大大加快差异度的计算效率，从而加快了掩模图案的优化效率。
图案优化方法装置曝光设备存储介质

[发明专利]气浴装置、温控系统以及曝光设备-CN202311111066.3在审
发明人：苏国兵;牛志元;丛敏;杜建科;张晓芳 -专利权人： 光科芯图（北京）科技有限公司
申请日： 2023-08-31 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种气浴装置、温控系统以及曝光设备，其涉及光刻机技术领域。该气浴装置包括温控本体及匀流件；温控本体设有一次匀化流道及与一次匀化流道分别连通的进气口和出气口；匀流件设于一次匀化流道内，匀流件形成有温控区及与温控区连通的二次匀化流道，二次匀化流道与一次匀化流道连通；一次匀化流道用于使气体形成层流流场；二次匀化流道用于减小温控区中不同位置的流速差值，并使温控区内的流场以层流形式出现，从进气口流至出气口，减小气流扰动对成像质量的影响。本发明改进了气浴装置的结构，通过两级流速匀化、气流流场控制，实现了微环境高精度温度控制，温控温度波动小，局部温度更均匀，有效降低了温控区的流速差值和温差。
装置温控系统以及曝光设备

[发明专利]一种掩模板、曝光设备及掩模板对准方法-CN202311111046.6在审
发明人：秦宏鹏;牛志元;丛敏;姜言明;傅俊隆 -专利权人： 光科芯图（北京）科技有限公司
申请日： 2023-08-31 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明涉及芯片制备技术及光刻技术领域，具体涉及一种掩模板、曝光设备及掩模板对准方法。掩模板包括：基底，作为掩模板的支撑基板；对准标记结构，设置在基底表面，对准标记结构包括位于对准标记结构中心的具有正透镜相位的相位调制器和位于相位调制器外围的透光区域；其中，当输入光束入射至对准标记结构上时形成干涉图案，干涉图案为对称图案时，输入光束和掩模板垂直，实现掩模板相对输入光束的对准。通过在掩模板上设置对准标记结构，通过输入光束入射至对准标记结构上时形成的干涉图案是否对称即可实现对准检测。该对准标记结构简单、加工成本低，避免了采用光栅型对准标记需要楔块列阵成像时存在的难度大成本高的问题。
一种模板曝光设备对准方法

[发明专利]掩模倾斜角度测量装置及曝光设备-CN202311111043.2在审
发明人：谢稳;杨振;张丽丽;马卫民 -专利权人： 光科芯图（北京）科技有限公司
申请日： 2023-08-31 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本发明涉及光刻技术领域，公开了一种掩模倾斜角度测量装置及曝光设备，该掩模倾斜角度测量装置包括：光束输出部，用于输出光束；全息掩模，设置在所述光束输出部输出的光束的光路上，所述全息掩模上设有至少两个对称的斜坡；波前探测器，设置在经过所述全息掩模后的光束的光路上，用于测量经过两个所述斜坡的光束的波前；其中，所述斜坡的参数满足以预设倾斜角度经过两个所述斜坡的光束的波前差大于所述波前探测器的测量精度。本发明使用斜坡这一简单的结构，不需要进行套刻和大量复杂的采集计算，通过对波前的观察就能实现对全息掩模角度的测量，因此本发明具有精度高、成本低、操作简单的优点。
倾斜角度测量装置曝光设备

[发明专利]一种红外种子光源及激光系统-CN202311111045.1在审
发明人：彭耀梅;牛志元;丛敏;程智;李硕;苏国兵 -专利权人： 光科芯图（北京）科技有限公司
申请日： 2023-08-31 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： H01S3/094 文献下载
摘要：本发明涉及光刻激光技术领域，公开了一种红外种子光源及激光系统，该红外种子光源包括：第一泵浦源、第二泵浦源、第一波分复用器、增益光纤、第二波分复用器和光纤耦合器；第一泵浦源输出的激光从增益光纤的一端进入增益光纤为增益光纤提供泵浦能量；第二泵浦源输出的激光从增益光纤的另一端进入增益光纤为增益光纤提供泵浦能量；增益光纤在泵浦能量激励下产生第一红外激光，第一红外激光在环形谐振腔中振荡放大并通过光纤耦合器输出。本发明采用双向泵浦的方式，通过调节第一泵浦源和第二泵浦源的功率，可以使超过最佳长度的增益光纤也能够吸收泵浦光参与环形谐振腔内的激光振荡放大，实现高功率的激光输出。
一种红外种子光源激光系统

[发明专利]掩模图案的优化方法、装置、曝光设备及存储介质-CN202311111057.4在审
发明人：和琨;牛志元;陈健;杜德川 -专利权人： 光科芯图（北京）科技有限公司
申请日： 2023-08-31 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请涉及半导体制造的光刻技术领域，公开了掩模图案的优化方法、装置、曝光设备及存储介质，本申请在每次迭代中主节点都会将目标像素点的像素值分别分发给不同的从节点，从而实现主节点和至少一个从节点一起并行地计算自身存储的局部图案与其对应的子成像图案之间的相似度，进而确定预设掩模图案的优化结果，不再需要传统的基于直接搜索算法优化掩模图案的方法中，对掩模图案对应的整个成像图案与整个目标图案之间相似度的计算，将计算时间缩短为原来的1/N，加速比为原来的N倍，N为曝光设备中所有节点的个数，实现了直接搜索算法的并行执行，从而提高了掩模图案的优化效率。
图案优化方法装置曝光设备存储介质

[发明专利]一种能够调节轴向参数的投影物镜及曝光设备-CN202311111070.X在审
发明人：朱林兵;丛敏;徐兴燃 -专利权人： 光科芯图（北京）科技有限公司
申请日： 2023-08-31 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及芯片制备以及光刻设备技术领域，提供了一种能够调节轴向参数的投影物镜及曝光设备，该能够调节轴向参数的投影物镜，至少包括：镜座；镜架，设置在镜座上，镜架与镜座之间留有第一间隔，镜架背对镜座的一侧适于安装镜片；调平驱动件，设置在第一间隔内，调平驱动件的连接端与镜座相连，调平驱动件的动作端与镜架相连，调平驱动件的动作端能够沿投影物镜的轴向方向运动并带动镜架发生形变以调节投影物镜的轴向参数。本发明提供的能够调节轴向参数的投影物镜，仅针对单个镜架的姿态进行调节，被控对象质量更轻，更容易保证控制稳定性，有利于降低在调节过程中对整体成像效果的影响。
一种能够调节轴向参数投影物镜曝光设备

[发明专利]一种数据压缩方法、装置、曝光设备及存储介质-CN202311111051.7在审
发明人：范鹏;牛志元;杜德川;和琨;张瑾轩;王向戎 -专利权人： 光科芯图（北京）科技有限公司
申请日： 2023-08-31 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及光刻计算技术领域，公开了一种数据压缩方法、装置、曝光设备及存储介质，本发明在获取到掩模面任一预设区域对应的点扩散函数之后，首先判断点扩散函数是否具备对称性。通过判断对称性方可得知数据间是否存在变换关系，从而确定是否可以对数据进行压缩。当点扩散函数具备对称性时，表示数据可以进行压缩，然后确定点扩散函数对应的对称特征。基于对称特征对所有满足点扩散函数的衍射数据进行压缩，从而得到目标衍射数据，目标衍射数据即与对称特征结合可以通过对称变换得到满足点扩散函数所有衍射数据的基础数据。本实施例通过上述方式，即可将待存储的数据量至少缩减至原来的一半，实现了对数据的压缩，降低了空间占用率。
一种数据压缩方法装置曝光设备存储介质

[发明专利]纯相位掩模图转换方法、装置、曝光设备及存储介质-CN202311111055.5在审
发明人：范鹏;牛志元;杜德川;陈晨;陈健;菅彦彬;王衡 -专利权人： 光科芯图（北京）科技有限公司
申请日： 2023-08-31 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及光刻技术领域，公开了纯相位掩模图转换方法、装置、曝光设备及存储介质，本发明通过获取复振幅掩模图，提取复振幅掩模图的任意两个相邻边的公共像素点和像素中心点，并以提取的公共像素点和像素中心点或以像素中心点为端点，进行螺旋式扫描，使得扫描过程中误差沿着扫描路径向像素中心点方向的相邻像素点扩散，实现了误差均匀的向周围扩散，即曝光得到的线条沿各个方向都比较均匀，且误差不会扩散到像素外部边缘，提高了合成掩模的成像质量。
相位掩模图转换方法装置曝光设备存储介质

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