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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种光学玻璃蚀刻装置及方法-CN200810132179.0无效
发明人：严立巍;范国胜 -专利权人： 光捷国际股份有限公司
申请日： 2008-07-22 - 公布日： 2010-01-27 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学玻璃蚀刻装置及方法，应用于将大尺寸玻璃予以蚀刻及/或薄化的情况下，使用具斜度的传动线方式而减少光学玻璃应力，并采取扫描式瀑布层流酸液涂布型式，自光学玻璃上方以前后及/或左右来回扫描的移动方式，均匀地释出蚀刻溶液，以均匀地蚀刻及/或薄化光学玻璃。利用本发明的光学玻璃蚀刻装置进行光学玻璃蚀刻方法时，由于光学玻璃呈现倾斜状态，因而减少了于输送传动时玻璃本身的机械强度及物性限制，避免了采用直立式垂直输送传动时所产生的问题，且，由于对光学玻璃采取扫描式瀑布层流酸液涂布，因而可提升蚀刻速率、以及光学玻璃蚀刻均匀性。
一种光学玻璃蚀刻装置方法

[发明专利]用于玻璃的回收处理系统-CN200710194620.3无效
发明人：严立巍;范国胜 -专利权人： 光捷国际股份有限公司
申请日： 2007-11-27 - 公布日： 2009-06-03 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：在本发明用于玻璃的回收处理系统中，主要包含储存槽、以及释放化学溶液至储存槽的化学溶液释放器。当化学溶液释放器的化学溶液自然溢出时，化学溶液会流入储存槽中，并从排放阀被排除，以便利用化学溶液的化学特性，去除光学玻璃上有瑕疵的薄膜层。被去除薄膜层的光学玻璃可直接再次被利用来形成没有瑕疵的薄膜层，而无须完全销毁光学玻璃。
用于玻璃回收处理系统

[发明专利]用于玻璃的表面处理系统-CN200710194618.6无效
发明人：严立巍;范国胜 -专利权人： 光捷国际股份有限公司
申请日： 2007-11-27 - 公布日： 2009-06-03 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：在本发明用于玻璃的表面处理系统中，主要包含浸泡玻璃的储存槽、以及释放化学溶液至储存槽的化学溶液释放器。当化学溶液释放器的化学溶液自然溢出时，化学溶液会流入该储存槽中，并从该排放阀被排除，以便利用化学溶液的化学特性处理被浸入在储存槽中的光学玻璃，但又不会在储存槽中残留生成物。
用于玻璃表面处理系统

[发明专利]瀑布式层流蚀刻切割方法-CN200710194619.0无效
发明人：严立巍;范国胜 -专利权人： 光捷国际股份有限公司
申请日： 2007-11-27 - 公布日： 2009-06-03 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：在本发明瀑布式层流蚀刻切割方法中，在光学玻璃上覆盖有保护膜，并使光学玻璃呈现倾斜状，以便在蚀刻溶液释放器溢出蚀刻溶液时，蚀刻溶液可自然流经光学玻璃，以便利用蚀刻溶液的蚀刻能力去除属于切除区域的部分光学玻璃，进而达到蚀刻切割光学玻璃成多个子玻璃的目的。如此，采用本发明瀑布式层流蚀刻切割方法，不但可以达到低成本切割的目的，而且成功切割薄玻璃的机率也较高。
瀑布层流蚀刻切割方法

[发明专利]瀑布式层流蚀刻装置-CN200710164274.4无效
发明人：严立魏;李景贤;冯庆国;范国胜 -专利权人： 光捷国际股份有限公司
申请日： 2007-10-23 - 公布日： 2009-04-29 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：在本发明提供一种瀑布式层流蚀刻装置，其主要包含载台、在载台表面上的凸状物、以及蚀刻溶液释放器。在操作时，主要先使光学玻璃呈现倾斜状态，且由蚀刻溶液释放器的凹槽溢出的蚀刻溶液，利用瀑布流下方式均匀地流经已摆放在载台上的光学玻璃，使光学玻璃被均匀地蚀刻薄化。这样，基于倾斜状态的光学玻璃，蚀刻光学玻璃所产生的生成物，将随着剩余的蚀刻溶液一起顺着光学玻璃的倾斜方向流下。
瀑布层流蚀刻装置

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