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[发明专利]石英玻璃坩埚的评价方法、制造方法以及石英玻璃坩埚-CN202280018384.2在审
发明人：石原裕;马场裕二;上田哲司;横泽裕也 -专利权人： 信越石英株式会社
申请日： 2022-02-25 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C30B15/12 文献下载
摘要：本发明是对具有外层和内层的石英玻璃坩埚进行评价的方法，其中，外层由含有气泡的不透明石英玻璃构成，内层由透明石英玻璃构成，具有以下工序：准备评价对象即石英玻璃坩埚；向该评价对象即石英玻璃坩埚照射紫外线作为激励光；对从照射了所述紫外线的石英玻璃坩埚发出的蓝色荧光进行检测；以及根据有无所述蓝色荧光，对所述石英玻璃坩埚的外层上的氧缺乏缺陷的状态进行评价。由此，提供一种石英玻璃坩埚的评价方法，其能够以不破坏的方式简单地评价进行氢掺杂、水蒸气的导入等而在石英玻璃坩埚产生的氧缺乏缺陷的状态。
石英玻璃坩埚评价方法制造以及

[发明专利]反应管的清洗方法、半导体器件的制造方法及衬底处理装置-CN202110084725.3有效
发明人：森田慎也;中田彻;木村博至;濑川彻 -专利权人： 信越石英株式会社;株式会社国际电气
申请日： 2021-01-21 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： B08B9/032 文献下载
摘要：本发明涉及反应管的清洗方法、半导体器件的制造方法及衬底处理装置。用含氟化合物的药液清洗也能抑制氟化合物残留在反应管内周面。该技术具有：将具有对反应管进行退火第1退火工序、用含第1浓度的氟化合物的液体对第1退火工序后的反应管的内周面进行清洗的第1清洗工序及用纯水冲洗第1清洗工序中使用的氟化合物进行的第1漂洗工序且将第1漂洗工序进行1次以上的循环作为1个循环并将其进行1次或多次；对反应管进行退火的第2退火工序；用含比第1浓度高的第2浓度的氟化合物的液体对第2退火工序后的反应管的内周面进行清洗的第2清洗工序；用纯水冲洗第2清洗工序中使用的氟化合物的第2漂洗工序，第2漂洗工序进行2次以上。
反应清洗方法半导体器件制造衬底处理装置

[发明专利]暴露面积增大石英玻璃构件及其制造方法以及多重外周刃刀片-CN201780036879.7有效
发明人：土田昭祯;藤井纪和;牧田佳纪 -专利权人： 信越石英株式会社
申请日： 2017-06-08 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： H01L21/31 文献下载
摘要：本发明提供一种暴露面积增大石英玻璃构件及其制造方法以及该方法中使用的多重外周刃刀片，该暴露面积增大石英玻璃构件与表面平坦的石英玻璃构件相比相对于成膜处理气体的暴露面积增大，并且增大暴露面积被控制为向表面的吸附量恒定。该暴露面积增大石英玻璃构件为在半导体基板的成膜处理中与被成膜处理的所述半导体基板一起载置于反应室内并暴露于成膜处理气体的成膜处理气体暴露用的石英玻璃构件，具有石英玻璃构件主体、在所述石英玻璃构件主体的表面形成的多个凹凸部，该暴露面积增大石英玻璃构件的相对于成膜处理气体的暴露面积被控制而增大。
暴露面积增大石英玻璃构件及其制造方法以及多重外周刃刀片

[发明专利]CZ用坩埚-CN202180059406.5在审
发明人：友国和树;池田吉谦 -专利权人： 信越石英株式会社
申请日： 2021-07-02 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： C03B20/00 文献下载
摘要：本发明是一种CZ用坩埚，用于通过CZ法培育单晶硅锭，所述CZ用坩埚包含：有底筒状的石墨坩埚、以及配置于该石墨坩埚的内部的有底筒状的石英玻璃坩埚，在所述CZ用坩埚的中心轴上的所述石墨坩埚的底部的内表面与所述石英玻璃坩埚的底部的外表面之间具有间隙，所述间隙使得所述石墨坩埚的底部的内表面与所述石英玻璃坩埚的底部的外表面成为非接触。由此，提供一种CZ用坩埚，当将用于通过CZ法培育单晶硅锭的有底筒状的石英玻璃坩埚配置于有底筒状的石墨坩埚的内部时，石英玻璃坩埚能够稳定地自立。
cz 坩埚

[发明专利]石英玻璃坩埚-CN202180059345.2在审
发明人：友国和树;池田吉谦 -专利权人： 信越石英株式会社
申请日： 2021-07-02 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： C30B15/12 文献下载
摘要：本发明是一种石英玻璃坩埚，用于通过CZ法培育单晶硅锭，所述石英玻璃坩埚是有底筒状，并具有：圆筒状的直筒部；第一弯曲部，连续于该直筒部的下端且具有第一曲率R1；第二弯曲部，连续于该第一弯曲部且具有第二曲率R2；以及底部，连续于该第二弯曲部，所述第一曲率R1与所述第二曲率R2具有R1R2的关系，所述底部的外表面构成为正交于所述石英玻璃坩埚的中心轴的平坦面，或从所述平坦面凹陷的凹状面。由此，提供一种石英玻璃坩埚，用于通过CZ法培育单晶硅锭，当将有底筒状的石英玻璃坩埚配置于有底筒状的石墨坩埚的内部时，该石英玻璃坩埚能够稳定地自立。
石英玻璃坩埚

[发明专利]石英玻璃坩埚及其制造方法-CN201980024394.5有效
发明人：马场裕二 -专利权人： 信越石英株式会社
申请日： 2019-02-19 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C30B29/06 文献下载
摘要：本发明提供一种石英玻璃坩埚，其由底部、弯曲部及直体部构成，其中，所述石英玻璃坩埚具有由含有气泡的不透明石英玻璃构成的外层与由透明石英玻璃构成的内层，所述外层由相同种类的原料粉末、或两种以上不同种类的原料粉末制成，并具有两个以上以所述气泡的含有密度进行区分的部位，关于所述外层中相邻的两个部位的气泡含有密度，将所述气泡的含有密度大的部位a的气泡含有密度设为da(pcs/mm3)、将所述气泡的含有密度小的部位b的气泡含有密度设为db(pcs/mm3)时，所述相邻的两个部位中的气泡含有密度的差D＝(da‑db)/db为10％以上。由此提供一种石英玻璃坩埚的外层中的各个部位可具备不同功能的石英玻璃坩埚。
石英玻璃坩埚及其制造方法

[发明专利]多层二氧化硅玻璃体的制造方法-CN201980068085.8有效
发明人：森竜也;须釜明彦 -专利权人： 信越石英株式会社;贺利氏石英玻璃有限两合公司
申请日： 2019-09-03 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C03B20/00 文献下载
摘要：本发明是一种多层二氧化硅玻璃体的制造方法，所述方法涉及制造在由硅质材料制成的硅质衬底的表面上提供透明二氧化硅玻璃层的多层二氧化硅玻璃体，其中所述多层二氧化硅玻璃体的制造方法包括制备所述硅质衬底的步骤；制备二氧化硅粒子分散在液体中的二氧化硅浆料的步骤；将所述二氧化硅浆料施用于所述硅质衬底的表面上的步骤；通过对所述硅质衬底施加振动而使施用于所述硅质衬底的表面上的所述二氧化硅浆料流平的步骤；将所述流平的二氧化硅浆料干燥的步骤；以及通过加热使所述干燥的二氧化硅浆料玻璃化，以形成透明二氧化硅玻璃层的步骤。由此，以优良的成品率获得厚度均匀的透明二氧化硅玻璃层，并提供了一种在短时间内容易地制造多层二氧化硅玻璃体的方法。
多层二氧化硅玻璃体制造方法

[发明专利]石英玻璃板-CN201980026148.3有效
发明人：森龙也;佐藤彰;嶋田敦之;横泽裕也;吉田宜正 -专利权人： 信越石英株式会社
申请日： 2019-03-25 - 公布日： 2023-02-21 - 主分类号： C03C27/10 文献下载
摘要：本发明为一种石英玻璃板，其具有石英玻璃板本体与石英玻璃构件，所述石英玻璃构件隔着粘合层而与所述石英玻璃板本体粘合，所述石英玻璃板中，所述粘合层包含二氧化硅，所述粘合层所包含的作为碱金属离子的Li离子、Na离子、K离子与作为碱土类金属离子的Ca离子的浓度的合计为10质量ppm以下。由此，可提供一种石英玻璃板，其能够形成均匀厚度的段差，且不易因包含紫外线的光的照射而发生破损。
石英玻璃板

[发明专利]形成有凹窝的二氧化硅玻璃圆板-CN202210658890.X在审
发明人：稻木恭一;土田昭祯;藤井纪和 -专利权人： 信越石英株式会社
申请日： 2022-06-09 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： C03C23/00 文献下载
摘要：提供能够将热处理中的二氧化硅玻璃圆板的变形量抑制为最小限度、增大二氧化硅玻璃表面的表面积的形成有凹窝的二氧化硅玻璃圆板。二氧化硅玻璃圆板在二氧化硅玻璃体的至少表面或至少背面上具有形成有多个凹窝的凹窝形成区域，且通过所述凹窝形成区域的凹窝有规则地形成。所述凹窝适宜由激光形成。
形成有凹窝二氧化硅玻璃

[发明专利]铸模及石英玻璃坩埚的制造方法-CN201880080270.4有效
发明人：泽崎二郎;大滨康生;谷口胜巳 -专利权人： 信越石英株式会社
申请日： 2018-12-04 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： C03B20/00 文献下载
摘要：本发明为一种铸模，其用于通过旋转模塑法制造石英玻璃坩埚，在所述铸模的内表面的至少直体部上具有相对于铸模旋转轴为同心圆形的多个槽，且该同心圆形的多个槽为不贯穿所述铸模的非贯穿槽。由此，提供一种铸模，该铸模在用于通过旋转模塑法制造石英玻璃坩埚的铸模中，具有形成石英粉成型体时使石英粉不易滑落的内表面。
铸模石英玻璃坩埚制造方法

[发明专利]石英玻璃的制造方法-CN202080083942.4在审
发明人：藤田大辉;丸子洋一郎;会田务;斋藤彰;濑川徹 -专利权人： 信越石英株式会社
申请日： 2020-12-02 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明提供石英玻璃的制造方法，其是使用表面处理液进行石英玻璃的表面处理、在玻璃表面具有凹凸的石英玻璃的制造方法，其中，通过预先使不参与利用上述表面处理液进行的表面处理的溶剂成分与石英玻璃的表面接触，其次，趁着所述溶剂成分没有干燥，进行利用上述表面处理液的表面处理，由此在玻璃表面形成表面粗糙度(Ra)为1.5～3.5μm的凹凸。根据本发明的制造方法，在微裂纹不存在的通过利用表面处理液的表面处理形成凹凸的工序中，能够制造具有表面粗糙度(Ra)为1.5～3.5μm的范围的凹凸的石英玻璃，不需使表面处理液的浓度变化，是比较简便、经济的。
石英玻璃制造方法

[发明专利]热反射构件及带有热反射层的玻璃构件的制造方法-CN202080066964.X在审
发明人：山口和宏;藤田大辉;原田义弘;濑川彻;渡边智则 -专利权人： 信越石英株式会社;株式会社山形信越石英
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： C03B23/203 文献下载
摘要：本发明提供维持高反射率并且在制作时及使用时的高温环境下不破损，在使用时不产生尘埃，可进行基于药液的洗净的热反射构件；及适于作为该热反射构件的带有热反射层的玻璃构件的制造方法。是具有在二氧化硅质烧结粉体层的上表面及下表面形成石英玻璃层而成的层叠结构的热反射构件，在所述热反射构件的端部的所述二氧化硅质烧结粉体层部分，具有至少比该二氧化硅质烧结粉体层的1/2的厚度厚且不浸透气体或液体的非透射层、和在该非透射层与该二氧化硅质烧结粉体层之间，从非透射层朝向烧结体粉体层密度发生变化的缓冲层。
反射构件带有反射层玻璃制造方法

[发明专利]反射构件及玻璃层合构件的制造方法-CN202080061487.8在审
发明人：濑川彻;山口和宏;渡边智则;藤田大辉 -专利权人： 信越石英株式会社;株式会社山形信越石英
申请日： 2020-08-17 - 公布日： 2022-04-15 - 主分类号： C03B20/00 文献下载
摘要：本发明是提供一种反射构件，及适合作为该反射构件的玻璃层合构件的制造方法，该反射构件在使用时无粉尘发生，破坏强度大，且一边维持高反射率，一边即使在制作时及使用时的高温环境也可防止破损。具有在不透明二氧化硅质烧结粉体层的上表面及下表面形成透明石英玻璃构件而成的层合构造的反射构件，所述不透明二氧化硅质烧结粉体层的厚度为0.1mm以上，膜厚的分布为±0.05mm以下，在所述层合构造的上表面及下表面的透明石英玻璃构件，以与层合构造平行的方向负上荷重时，破坏的荷重每1cm2为5N以上，所述层合构造在不透明二氧化硅质烧结粉体层与透明石英玻璃构件的边界，成为两者中间的不透明度的半透明度部分的宽度为0.01mm以下。
反射构件玻璃制造方法

[发明专利]火焰研磨装置及对石英玻璃管的端部火焰研磨的方法-CN202080054232.9在审
发明人：须釜明彦;渡边正雄;飞田博幸;村上敬史 -专利权人： 信越石英株式会社
申请日： 2020-06-29 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： C03B29/02 文献下载
摘要：本发明提供一种火焰研磨装置，其对圆筒状的石英玻璃管的端部进行火焰研磨，具备：静置台，其将所述石英玻璃管水平静置；以及，火焰研磨用的燃烧器，其能够配置在所述石英玻璃管的端部的圆周的延长线上与所述石英玻璃管的端部的圆周对置的位置，其中，所述燃烧器构成为沿着所述石英玻璃管的端部的圆周进行环绕移动。由此，提供一种火焰研磨装置，其能够对作为处理对象的石英玻璃管的端部均匀地进行火焰研磨处理。
火焰研磨装置石英玻璃管方法

[发明专利]大型中空状多孔质石英玻璃母材以及其制造方法-CN202110764980.2在审
发明人：角儿太郎;桑原光 -专利权人： 信越石英株式会社
申请日： 2021-07-06 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： C03B8/04 文献下载
摘要：提供一种中空状合成石英玻璃多孔质母材的制造方法以及合成石英玻璃筒的制造方法，即使是外径超过300mm的烟炱体，也能够不使生长中产生的离心力等对装置的负载大幅增大地制作烟炱体，即使在以低速旋转制造的情况下，也不会对烟炱体产生裂缝、破裂，且容易拔出靶。是通过OVD法制造中空状多孔质石英玻璃母材的方法，基于生长时变动的烟炱体的外径使该烟炱体的转速变动，从而将该烟炱体的旋转圆周速度控制为实际上固定，且在该烟炱体的外径超过250mm的范围内，将由γ＝S/(L·Nm)[S为燃烧器的移动速度(mm/分钟)，L为燃烧器的移动距离(mm)，Nm为烟炱体的变动的转速的最低值(rpm)]计算出的频度系数γ设定为0.13≤γ＜1.0的范围。
大型中空多孔石英玻璃及其制造方法

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