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- [发明专利]基板加热装置-CN201710627972.7在审
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刘开欣;何恭育
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武汉华星光电技术有限公司
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2017-07-28
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2017-12-01
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G02F1/13
- 本发明提供一种基板加热装置，基板加热装置包括炉体、设于所述炉体内的基板、设于所述炉体上的进气管道和排气管道以及与所述进气管道连通的温控系统，所述温控系统用于调节从所述进气管道进入所述炉体1内的气体的温度。本发明提出的基板加热装置包括设于所述炉体上且与所述进气管道连通的温控系统，通过所述温控系统可以调节从所述进气管道进入所述炉体内的气体的温度，从而使得基板的升温曲线稳定可控，提升烘烤效果，解决了成膜不均的难题。
- 加热装置
- [发明专利]液晶滴下装置及液晶滴下方法-CN201510528524.2有效
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何恭育;彭林;肖斌
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武汉华星光电技术有限公司
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2015-08-25
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2017-12-01
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G02F1/1341
- 本发明提供一种液晶滴下装置及液晶滴下方法。本发明的液晶滴下装置，在液晶滴下单元与承载平台之间设有监控单元，监控单元的监控区域呈闭合状，液晶滴下单元中滴下的液晶经由监控区域滴至承载平台的基板上，可从各个方向对经过监控区域的液晶进行监控，并记录液晶滴下的滴数，有效解决了现有液晶滴下装置对于因液晶滴下飞斜或气密性导致的滴下异常出现的漏检问题，提升了产品品质。本发明的液晶滴下方法，使用上述液晶滴下装置，可从各个方向对经过监控区域的液晶进行监控，并记录液晶滴下的滴数，有效解决了现有液晶滴下方法对于因液晶滴下飞斜或气密性导致的滴下异常出现的漏检问题，提升了产品品质。
- 液晶滴下装置方法
- [发明专利]基板对位机构与基板对位方法-CN201510546477.4有效
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杨亮;何恭育
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武汉华星光电技术有限公司
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2015-08-28
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2017-11-07
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B65G13/00
- 本发明提供一种基板对位机构与基板对位方法。本发明的基板对位机构，通过在支撑柱顶部设置滚珠，可削减对位时基板与支撑柱发生相对位置移动所产生的摩擦力，避免基板背面刮伤，从而改善基板薄化不良。本发明的一种基板对位方法，通过在基板传送设备中设置上述基板对位机构，削减了对位过程中基板与支撑柱发生相对位置移动所产生的摩擦力，避免了基板背面刮伤，从而改善了基板薄化不良。本发明的另一种基板对位方法，通过在基板旋转设备中设置上述基板对位机构，削减了对位过程中基板与支撑柱发生相对位置移动所产生的摩擦力，避免了基板背面刮伤，从而改善了基板薄化不良。
- 对位机构方法
- [发明专利]阵列基板及显示面板-CN201710632033.1在审
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卢道松;何恭育
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武汉华星光电技术有限公司
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2017-07-28
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2017-09-22
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G02F1/1339
- 本发明提供了一种阵列基板，包括显示区和设于显示区外的非显示区，还包括平坦层，所述平坦层上位于非显示区上沿非显示区的四周设有沟槽，所述平坦层上位于非显示区内与显示区四个角相对的位置处分别对称设置有用于阻挡配向液外溢的图案化的阻挡槽。本发明还提供了一种显示面板，还包括所述的阵列基板。与现有技术相比，通过在阵列基板的平坦层位于非显示区处设置沟槽以及在非显示区与显示区四个角相对应处设置阻挡槽，从而防止配向液从阵列基板四个角处外扩，增加了与框胶贴合一侧表面的不平整性，从而提高框胶黏着的牢固度，同时也提升了阵列基板四个角落配向膜的印刷精度。
- 阵列显示面板
- [发明专利]一种印刷设备及方法-CN201610990948.5在审
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李任鹏;何恭育;吕承毓
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武汉华星光电技术有限公司
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2016-11-10
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2017-04-26
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B41F5/24
- 本发明公开了一种印刷设备和方法。印刷设备包括印刷装置；透明印刷平台，所述透明印刷平台的一面用于承载被印刷基材，以使得所述印刷装置对所述被印刷基材进行印刷；光学检测装置，所述光学检测装置位于所述透明印刷平台的另一面一侧，用于扫描所述透明印刷平台上的所述被印刷基材的印刷图像。所述光学检测装置跟随所述印刷装置移动，所述印刷装置开始印刷动作后，所述光学检测装置滞后预定时间进行扫描；或者，所述光学检测装置距离所述印刷装置预定距离后进行扫描。通过上述方式，本发明能够在印刷设备完成印刷的同时完成印刷精度确认，降低精度异常造成的损失，提高异常检出效率。
- 一种印刷设备方法
- [实用新型]支撑结构及烤炉-CN201620240524.2有效
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刘开欣;卢道松;叶晓龙;何恭育
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武汉华星光电技术有限公司
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2016-03-25
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2016-08-10
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G02F1/13
- 本实用新型公开一种支撑结构，用于烤炉内支撑基板，所述烤炉用以在液晶面板生产制程中烘烤所述基板，包括：固定架，包括架体以及固定于所述架体的固定部和支撑部，所述固定部开设有滑动槽，所述固定部设有位于所述滑动槽内的至少一个定位区，通过紧固件穿过所述定位区，用以将所述固定部紧固至所述烤炉的加热平台，以使所述架体固定在所述加热平台上；支撑条，卡设于所述支撑部；以及多个支撑脚，所述多个支撑脚间隔设置在所述支撑条上，用以支撑所述基板。本实用新型所述支撑结构能够移动支撑脚位置。本实用新型还公开一种应用所述支撑结构的烤炉。
- 支撑结构烤炉
- [发明专利]一种光配向设备及方法-CN201610349554.1在审
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罗凯铭;王震亚;何恭育
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武汉华星光电技术有限公司
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2016-05-24
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2016-07-20
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G02F1/1337
- 本发明公开了一种光配向设备，包括：印刷模块，用于在玻璃基板上印刷PI液；承载台，用于承载所述玻璃基板并沿预定直线运动；UV灯箱，内置朝向所述承载台所在平面、用于照射所述玻璃基板的UV光源；灯箱旋转机构，用于控制所述UV灯箱相对于承载台转动。本发明还公开了一种光配向方法。由于具有灯箱旋转机构，UV灯箱内的UV光源可随UV灯箱的旋转而相对于印刷过PI液的玻璃基板偏转预定的配向角，使得在光配向过程中只需控制玻璃基板沿直线运动经过UV灯箱照射即可完成光配向，无需复杂的控制操作，可以很好地保证光配向精度，避免转动误差。
- 一种设备方法
- [发明专利]清洗箱及具有该清洗箱的清洗设备-CN201510531232.4在审
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李任鹏;何恭育;吕承毓
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武汉华星光电技术有限公司
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2015-08-26
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2015-12-23
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B08B3/12
- 本发明属于清洁设备技术领域，尤其公开了一种清洁箱，包括：一端具有开口(111)的箱体(11)，所述箱体(11)包括箱底(112)和箱壁(113)，箱壁(113)围合并与箱底(112)对接形成箱体(11)，箱底(112)与开口(111)相对设置；所述箱体(11)用于存放清洗工件的洗剂；箱底(112)与箱壁(113)的第一对接处(114)呈弧面，以防止出现清洗死角。本发明还公开了一种具有上述清洁箱的清洁设备。所述清洗箱及清洗设备没有清洗死角，在进行清洗时，可彻底清除清洗箱内的脏污，防止对新注入的洗剂造成污染，从而保证了后续在该清洗箱中待清洗工件的质量稳定。
- 清洗具有设备
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