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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]使用蚀刻剂的蚀刻方法-CN201410058148.0无效
发明人：石田辉和;出口友香里;佐藤未菜 -专利权人： MEC股份有限公司
申请日： 2011-12-09 - 公布日： 2014-05-28 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：提供一种蚀刻方法，所述方法使用蚀刻剂对同时存在有金属氧化物层和铜层的被处理物进行处理，由此选择性地对所述铜层进行蚀刻，所述金属氧化物层是包含选自Zn、Sn、Al、In以及Ga中的1种以上金属的氧化物，所述蚀刻剂的特征在于：所述蚀刻剂包括以铜离子计为0.1～3.0重量%的铜(II)离子源；0.1～30.0重量%的碳数为6以下的有机酸；以及含有0.1～30.0重量%的含氮化合物的水溶液，所述含氮化合物为选自由环内具有2个以上氮原子的杂环化合物以及碳数为8以下的含氨基化合物所构成的组中的1种以上，所述蚀刻剂的pH为5.0～10.5。
使用蚀刻方法

[发明专利]铝-树脂复合体的制造方法-CN201280032306.4有效
发明人：高桥胜;林知纪;内藤勇太;出口友香里;大串亮;千石洋一;佐藤未菜;冈田万佐夫 -专利权人： MEC株式会社
申请日： 2012-06-08 - 公布日： 2014-03-12 - 主分类号： B29C45/14 文献下载
摘要：发明提供一种可以在不使用接着剂下提高铝与树脂组合物的密接性，且容易进行废液处理的铝-树脂复合体的制造方法。在本发明的铝-树脂复合体的制造方法中，实施如下步骤：粗化步骤，其通过蚀刻剂对铝制零件的表面进行粗化处理；及附着步骤，其使树脂组合物附着在所述经粗化处理的表面。所述蚀刻剂是选自，包含两性金属离子、氧化剂与碱源的碱系蚀刻剂、以及包含三价铁离子及二价铜离子的至少一者与酸的酸系蚀刻剂，中的一种以上。
树脂复合体制造方法

[发明专利]配线形成方法、配线形成用蚀刻液-CN201210524348.1有效
发明人：齐藤知志;出口友香里;佐藤未菜;石田辉和 -专利权人： MEC股份有限公司
申请日： 2012-12-07 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： C09K13/06 文献下载
摘要：本发明提供一种能够选择性地蚀刻金属氧化物层的配线形成方法、配线形成用蚀刻液。在本发明的制造方法中，通过实施使蚀刻液与在表面形成有含铜层的导体图案的金属氧化物层的未层叠有上述导体图案的部分进行接触，蚀刻上述部分的金属氧化物层的蚀刻工序，从而形成含有经图案化的金属氧化物层和上述铜层的配线。上述金属氧化物层含有选自锌、锡、铝、铟和镓中的一种以上的金属的氧化物。上述蚀刻液是含有硫羰基化合物和卤化物离子的酸性水溶液。
线形成方蚀刻

[发明专利]蚀刻剂及使用它的蚀刻方法-CN201110409498.3有效
发明人：石田辉和;出口友香里;佐藤未菜 -专利权人： MEC股份有限公司
申请日： 2011-12-09 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：提供一种用于蚀刻同时存在有金属氧化物层和铜层的被处理物而可以选择性地蚀刻所述铜层的蚀刻剂及使用所述蚀刻剂的蚀刻方法。一种蚀刻剂，其用于蚀刻同时存在有金属氧化物层和铜层的被处理物而选择性地蚀刻所述铜层，所述金属氧化物层是包含选自Zn、Sn、Al、In以及Ga中的1种以上金属的氧化物，所述蚀刻剂的特征在于：所述蚀刻剂包括以铜离子计为0.1～3.0重量％的铜(II)离子源；0.1～30.0重量％的碳数为6以下的有机酸；以及含有0.1～30.0重量％的含氮化合物的水溶液，所述含氮化合物为选自由环内具有2个以上氮原子的杂环化合物以及碳数为8以下的含氨基化合物所构成的组中的1种以上，所述蚀刻剂的pH为5.0～10.5。
蚀刻使用方法

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共 4 条

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