“佐佐木裕矢”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果4个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]贯通孔的密封构造及密封方法、以及用于对贯通孔进行密封的转印基板-CN201880024591.2有效
发明人：小柏俊典;佐佐木裕矢;宫入正幸;井上谦一 -专利权人：田中贵金属工业株式会社
申请日： 2018-04-04 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： H01L23/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种密封构造，包括：一组基材，形成密封空间；贯通孔，与密封空间连通；以及密封部件，对贯通孔进行密封。在形成有贯通孔的基材的表面上形成由金等块状金属构成的基底金属膜，所述密封部件接合于基底金属膜并对贯通孔进行密封。该密封部件由密封材料和盖状金属膜构成，所述密封材料接合于基底金属膜，由纯度99.9质量％以上的由金构成的金属粉末的压缩体构成，所述盖状金属膜包含金，厚度为0.01μm以上且5μm以下，由块状金属构成。并且，密封材料由与基底金属膜接触的外周侧的致密化区域和与贯通孔接触的中心侧的多孔质区域构成。而且，对致密化区域内的空孔的形状进行规定，空孔的径向的水平长度(l)与致密化区域的宽度(W)之间的关系为l≤0.1W。
贯通密封构造方法以及用于进行转印基板

[发明专利]贯通孔的密封结构及密封方法、以及用于将贯通孔密封的转印基板-CN201780024418.8有效
发明人：小柏俊典;佐佐木裕矢;宫入正幸 -专利权人：田中贵金属工业株式会社
申请日： 2017-04-06 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： H01L23/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种密封结构，包括形成密封空间的一组基材、形成于至少一个基材并与密封空间连通的贯通孔、将贯通孔密封的密封构件。在本发明中，在形成有贯通孔的基材的表面上具备由金等的块状金属构成的基底金属膜。并且，密封构件接合于基底金属膜并将所述贯通孔密封，密封构件由密封材料及盖状金属膜构成，所述密封材料接合于基底金属膜并由纯度99.9质量％以上的金等的金属粉末的压缩体构成，所述盖状金属膜接合于密封材料且由金等的块状金属构成。此外，密封材料由与基底金属膜相接的外周侧的致密化区域和与贯通孔相接的中心侧的多孔质区域构成。该致密化区域的任意截面的空隙率以面积率计成为10％以下。
贯通密封结构方法以及用于转印基板

[发明专利]封装体的制造方法和通过该方法制造的封装体-CN201580078557.X有效
发明人：小柏俊典;佐佐木裕矢;宫入正幸 -专利权人：田中贵金属工业株式会社
申请日： 2015-08-18 - 公布日： 2019-11-29 - 主分类号： H01L23/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种封装体的制造方法，其包括通过将形成有密封材料的一对基板叠合并进行接合而将由所述密封材料围成的密封区域的内部进行气密密封的工序。在本发明中，作为密封材料，使用由通过将纯度为99.9重量％以上、平均粒径为0.005μm～1.0μm的选自金、银、钯、铂中的一种以上的金属粉末进行烧结而得到的烧结体形成的材料，在基板上形成有至少一个在断面形状中具有比所述密封材料的宽度更窄的宽度且从周围突出的芯材，将所述一对基板接合时，所述芯材将所述密封材料压缩从而发挥密封效果。由此，能够在降低对基板的加压力的同时发挥充分的密封效果。
封装制造方法通过

[发明专利]气密性密封封装体构件及其制造方法、以及使用了该气密性密封封装体构件的气密性密封封装体的制造方法-CN201480071306.4有效
发明人：小柏俊典;佐佐木裕矢;宫入正幸 -专利权人：田中贵金属工业株式会社
申请日： 2014-12-22 - 公布日： 2018-09-14 - 主分类号： H01L23/02 文献下载
摘要：本发明提供一种气密性密封封装体构件，是包含基板和形成于基板上的划定密封区域的至少1个框状的密封材料的气密性密封封装体构件，密封材料由将纯度为99.9重量％以上、平均粒径为0.005μm～1.0μm的选自金、银、钯、铂中的一种以上的金属粉末烧结而成的烧结体形成，此外，对于从密封区域朝向区域外的任意截面，密封材料的上端长度比下端长度短。作为密封材料的截面形状，可以举出包含具有一定高度的基部和从基部突出的至少一个山部的形状、或以密封材料的下端长度作为底边的近似三角形的山部的形状等。本发明是利用金属粉末烧结体作为密封材料的气密性密封封装体构件，可以在降低气密性密封时的载荷的同时也获得充分的密封效果。
气密性密封封装构件及其制造方法以及使用