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[实用新型]一种新型半导体晶圆涂布机吸头-CN201920121414.8有效
发明人：汪良恩;伍银辉 -专利权人：安徽安芯电子科技股份有限公司
申请日： 2019-01-24 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： B05C13/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型半导体晶圆涂布机吸头，属于半导体晶圆光刻胶技术领域。包括吸头、吸头底座和缓冲片，所述吸头固定在吸头底座上，吸头和吸头底座组合成圆形凸台，凸台中心设有贯穿的真空口，所述吸头外表面设有一层缓冲片，所述缓冲片采用泡沫材料，缓冲片的外表面上设有槽口，内表面为光滑平整面；本实用新型通过在涂布机吸头上设置一层缓冲片，减少晶片在作业过程中与吸头的硬接触，减少作业过程中的破片，增加晶圆的产出率。
吸头缓冲片涂布机底座晶圆本实用新型新型半导体作业过程光滑平整泡沫材料凸台中心圆形凸台产出率内表面硬接触真空口槽口晶片破片半导体贯穿

[实用新型]光刻胶涂布吸头及光刻胶涂布装置-CN201520028532.6有效
发明人：汪良恩;汪曦凌;伍银辉 -专利权人：安徽安芯电子科技有限公司
申请日： 2015-01-15 - 公布日： 2015-05-20 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型实施例公开了一种光刻胶涂布吸头和光刻胶涂布装置，所述光刻胶涂布吸头的形状为凸台型，包括：底盘和位于底盘上表面，且与底盘固定连接的托盘，其中，所述托盘的直径小于待涂布晶圆的直径，用于放置待涂布晶圆，所述底盘的直径等于待涂布晶圆的直径，用于对所述待涂布晶圆的放置位置进行定位。由此可见，本实用新型实施例所提供的光刻胶涂布吸头在用于光刻胶涂布时，可以利用所述底盘，通过目视的方式对待涂布晶圆的放置位置进行定位，从而解决了现有技术中涂布时不能通过目视的方式，将晶圆的中心和涂布吸头的中心重合，使得在光刻胶涂布时，因甩胶过程中各个位置离心力不均匀而导致光刻胶涂布不均匀，产生边缘锯齿等现象的问题。
光刻胶涂布吸头装置