“伊罗·希耶塔宁”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果5个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]用于成像系统的光电检测器-CN200880101916.9有效
发明人：纪凡;米科·云图宁;伊罗·希耶塔宁 -专利权人：地太科特技术有限公司
申请日： 2008-06-04 - 公布日： 2012-01-11 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本发明公开了一种至少包括一个光电检测器的衬底，该光电检测器在衬底的第一表面上具有第一活性区而在衬底的第二表面上具有第二活性区，其中，光电检测器设置有与衬底电隔离的导电过孔，该导电过孔穿过光电检测器从衬底的第一表面延伸到衬底的第二表面，用于将第一活性区连接至衬底的第二表面，第二表面为光电检测器的第一活性区和第二活性区提供电连接。
用于成像系统光电检测器

[发明专利]同步光学测量和探伤方法及装置-CN200710101021.2无效
发明人： 伊罗·希耶塔宁;海莫·凯雷宁;塞波·派奥雷特 -专利权人： SR仪器公司
申请日： 2003-11-04 - 公布日： 2007-10-10 - 主分类号： G01B11/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种探测工业片材中孔和其它相关缺陷以及测量其特征的方法。光学探测系统一直受到强烈的环境光的困扰并且其精度一直很难提高。本发明提供一种缺陷探测方法和装置，它能够免受强烈环境光的困扰并且能够对片材(410，510，610，710)进行连续探伤，而不需要很长的整合时间。在本发明中，使用了光发射器和接收器之间的同步探测。本发明可以用于探伤和测量运行在生产线上的纸张、金属、塑料、橡胶、铝箔、铜箔、薄膜或镀覆的金属片材以及其它的片材状材料。本发明还能够用于探测一些特殊缺陷，这包括孔、小孔、划伤、瑕玷、裂缝、边沿缺陷、条痕、表面缺陷以及其它能够想到的缺陷。
同步光学测量探伤方法装置

[发明专利]同步光学测量和探伤方法及装置-CN200380102905.X有效
发明人： 伊罗·希耶塔宁;海莫·凯雷宁;塞波·派奥雷特 -专利权人： SR仪器公司
申请日： 2003-11-04 - 公布日： 2005-12-21 - 主分类号： G01B11/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种探测工业片材中孔和其它相关缺陷以及测量其特征的方法。光学探测系统一直受到强烈的环境光的困扰并且其精度一直很难提高。本发明提供一种缺陷探测方法和装置，它能够免受强烈环境光的困扰并且能够对片材(410，510，610，710)进行连续探伤，而不需要很长的整合时间。在本发明中，使用了光发射器和接收器之间的同步探测。本发明可以用于探伤和测量运行在生产线上的纸张、金属、塑料、橡胶、铝箔、铜箔、薄膜或镀覆的金属片材以及其它的片材状材料。本发明还能够用于探测一些特殊缺陷，这包括孔、小孔、划伤、瑕玷、裂缝、边沿缺陷、条痕、表面缺陷以及其它能够想到的缺陷。
同步光学测量探伤方法装置

[发明专利]用于成像探测器的封装结构-CN03819427.9有效
发明人： 伊罗·希耶塔宁;米科·云图宁 -专利权人：地太科特技术有限公司
申请日： 2003-08-12 - 公布日： 2005-09-28 - 主分类号： H01L31/115 文献下载
摘要：本发明提供了一种包括多个光电探测器子阵列的光电探测器阵列，每个光电探测器子阵列都由下述形成：在至少一个衬底的第一表面处形成的多个阳极；在至少一个衬底的第二表面处形成的相应的多个阴极；和在多个阳极之间的电互连，由此阵列输出由多个阴极提供，其中所述多个光电探测器子阵列在矩阵中彼此靠近放置，以形成光电探测器阵列。
用于成像探测器封装结构

[发明专利]用于成像探测器的半导体结构-CN03817813.3无效
发明人： 伊罗·希耶塔宁 -专利权人：地太科特技术有限公司
申请日： 2003-07-18 - 公布日： 2005-09-21 - 主分类号： H01L31/101 文献下载
摘要：本发明披露了一种包括多个光电探测器子阵列的光电探测器阵列，每个子阵列的光电探测器在衬底上形成，且每个光电探测器的有源区在所述衬底的表面上形成，还为每个光电探测器形成穿过所述衬底从其上表面到其下表面的导电通孔，该导电通孔用于将每个光电探测器的有源区连接到衬底的下表面，其中多个所述光电探测器子阵列彼此靠近放置成矩阵，以形成光电探测器阵列。也披露了一种成像系统，包括：包括这样的光电探测器阵列的辐射探测器、朝向辐射探测器的辐射源、以及用于控制辐射探测器和辐射源的装置。还披露了一种用于制造这样的阵列的方法。
用于成像探测器半导体结构

1
共 5 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top