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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]掩模坯体、掩模坯体的产生方法以及掩模的产生方法-CN200880123166.5无效
  • 小川巧;仓林章;平元豪 - 爱发科成膜株式会社
  • 2008-12-22 - 2010-12-08 - G03F1/08
  • 一种掩模坯体，其可以形成高分辨率的转印图案而不会发生形状缺陷。掩模坯体(10)包括透明基片(11)、设置在所述透明基片(11)上的待蚀刻层(14)、设置在所述待蚀刻层(14)上并且利用第一化学增幅抗蚀剂形成的抑制层(20)、以及设置在所述抑制层(20)上并且利用第二化学增幅抗蚀剂形成的掩模层(15)。掩模层(15)用于在接收曝光时使用所述第二化学增幅抗蚀剂产生酸，并且改变掩模层(15)相对显影液体的可溶性。抑制层(20)用于在接收通过掩模层(15)的曝光时使用所述第一化学增幅抗蚀剂产生酸，并且获得掩模层(15)相对显影液体的不溶性。
  • 掩模坯体产生方法以及
  •  1 
  • 共 1 条
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