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[发明专利]Ni系溅射靶以及磁记录介质-CN202080033599.2在审
发明人：松原庆明;井本未由纪;相川芳和 -专利权人：山阳特殊制钢株式会社
申请日： 2020-05-01 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明的课题在于，提供一种靶内部的磁性分布的偏差小的Ni系溅射靶、以及具有使用其形成的籽晶层的磁记录介质，为了解决上述课题，本发明提供一种Ni系溅射靶，其是由含有添加元素M、以及Fe和Co中的至少1种元素且余量由Ni和不可避免的杂质构成的Fe‑Ni‑Co‑M系合金形成的Ni系溅射靶，Fe‑Ni‑Co‑M系合金的微观组织包含Ni的含量不同的多个区域，在各区域中存在添加元素M，且所述添加元素M的存在形态为以下形态：添加元素M仅为固溶体；仅为Fe、Ni和Co中的至少1种元素与添加元素M的化合物；或者是固溶体与化合物两者。
ni 溅射以及记录介质

[发明专利]磁记录介质的籽晶层用合金-CN202080034803.2在审
发明人： 井本未由纪;松原庆明 -专利权人：山阳特殊制钢株式会社
申请日： 2020-06-15 - 公布日： 2021-12-17 - 主分类号： C22C19/03 文献下载
摘要：本发明的课题在于，提供一种可以得到大容量且耐蚀性优异的磁记录介质的籽晶层用合金，为了解决上述课题，本发明提供一种磁记录介质的籽晶层用合金，其包含Ni、选自Fe和Co中的至少1种、选自W、Mo、Ta、Cr、V和Nb中的1种或2种以上的元素M1、选自Au、Ag、Pd、Rh、Ir、Ru、Re和Pt中的1种或2种以上的元素M2、和不可避免的杂质，元素M1的含有率为2～13at.％，元素M2的含有率为2～13at.％，元素M1的含有率与元素M2的含有率之和为4～15at.％，合金中的Ni、Fe和Co的含有率(at.％)之比Ni∶Fe∶Co设为X∶Y∶Z时，X为20～100，Y为0～50，Z为0～60。
记录介质籽晶合金

[发明专利]磁记录介质的晶种层用合金、溅射靶材和磁记录介质-CN201780022921.X有效
发明人： 井本未由纪;松原庆明 -专利权人：山阳特殊制钢株式会社
申请日： 2017-04-05 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： G11B5/738 文献下载
摘要：本发明提供作为垂直磁记录介质中的晶种层的、结晶粒度小的Ni系磁记录介质的晶种层用合金和溅射靶材。具体而言，本发明所述的Ni系溅射靶材的特征在于，其包含Ni‑Fe‑Co‑M合金，该合金以at.％计，含有合计为2at.％～20at.％的选自Au、Ag、Pd、Rh、Ir、Ru、Re、Pt中的1种或2种以上的元素作为M1元素，余量由Ni、Fe、Co和不可避免的杂质构成，且Ni、Fe、Co的含量的比率以at.％比计为Ni∶Fe∶Co＝100～20∶0～50∶0～60。
记录介质晶种层用合金溅射

[发明专利]NiTa系合金、靶材及磁记录介质-CN201780058756.3在审
发明人： 井本未由纪 -专利权人：山阳特殊制钢株式会社
申请日： 2017-09-26 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： C22C19/03 文献下载
摘要：本发明的课题在于，提供通过在NiTa系合金中添加规定量的Fe和/或Co，从而使Ta化合物相微细地分散、没有组成不均、且机械强度提高的NiTa系合金及包含该NiTa系合金而成的溅射靶材及磁记录介质，为了解决上述课题，提供一种Ni‑Ta系合金，其含有15～50at％的Ta、合计为0～10at％的选自Al、Ga、In、Si、Ge、Sn、Zr、Ti、Hf、B、Cu、P、C、Ru、Cr中的1种或2种以上的元素，余量由Ni；Fe和Co中的1种或2种；和不可避免的杂质构成，Ni量、Fe量、Co量相对于Ni、Fe和Co的总量的比率分别为20～98.5％、0～50％、0～60％，该NiTa系合金具有FCC相和Ta化合物相，该Ta化合物相中能够画出的最大内接圆的直径为10μm以下。
合金磁记录介质化合物相最大内接圆溅射靶材微细靶材