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- [发明专利]投影装置及控制方法-CN202210553423.0在审
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井上和纪;石田一树
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富士胶片株式会社
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2022-05-20
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2022-11-22
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G02B26/08
- 本发明提供一种能够抑制投影品质降低的同时位移投影范围的投影装置及控制方法。投影装置(10)具备光源(21)、光调制部(22)、第1反射镜(51)、第2反射镜(52)、第3反射镜(53)、第4反射镜(54)及投影光学系统(23)。光源(21)照射光。光调制部(22)调制来自光源(21)的光。第1反射镜(51)、第2反射镜(52)、第3反射镜(53)及第4反射镜(54)反射通过光调制部(22)调制的光学像。投影光学系统(23)将通过第1反射镜(51)、第2反射镜(52)、第3反射镜(53)及第4反射镜(54)反射的光学像投影到投影对象物(6)的投影面。第1反射镜(51)、第2反射镜(52)、第3反射镜(53)及第4反射镜(54)配置在光调制部(22)与投影光学系统(23)之间。
- 投影装置控制方法
- [发明专利]内窥镜用光学系统及内窥镜-CN201910303172.9有效
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井上和纪
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富士胶片株式会社
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2019-04-16
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2022-10-28
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G02B23/24
- 本发明涉及内窥镜用光学系统及内窥镜。本发明提供一种能够分别且同时获取直视区域及侧视区域的2种像的内窥镜用光学系统及具备该内窥镜用光学系统的内窥镜。该内窥镜用光学系统构成为,包括:第1透镜组,仅使用于直视;多个第2透镜组,在最靠物体侧具有负透镜,且仅使用于侧视;第3透镜组,在直视及侧视中共用;及合成部,通过合成面合成从第1透镜组射出的光束及从第2透镜组射出的光束并使其向第3透镜组入射,从第1透镜组射出的光束及从第2透镜组射出的光束在同一面上成像。
- 内窥镜用光系统
- [发明专利]内窥镜用物镜光学系统及内窥镜-CN201710205225.4有效
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井上和纪
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富士胶片株式会社
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2017-03-30
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2020-11-13
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G02B13/00
- 本发明的课题在于提供一种广角且畸变相差减少并具有良好的光学性能的内窥镜用物镜光学系统及具备该内窥镜用物镜光学系统的内窥镜。本发明的内窥镜用物镜光学系统(1)从物体侧依次包括前组(GF)、开口孔径(St)及正后组(GR)。前组(GF)从物体侧依次包括:像侧的透镜面的曲率半径的绝对值小于物体侧的负第1透镜(L1);及入射面及出射面与光轴(Z)垂直的1个以上的平行平面部件(P1)。后组(GR)从物体侧依次包括:正第2透镜(L2);及负第3透镜(L3)与正第4透镜(L4)被接合而接合面的凹面朝向像侧的接合透镜(CE)。满足与整个系统的焦距(f)和接合透镜(CE)的焦距(fc)相关的条件式0.02<f/fc<0.10。
- 内窥镜物镜光学系统
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